技術(shù)編號：3364989
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，尤其涉及在薄膜沉積后的表面形成預(yù)定圖案的方法。 背景技術(shù)傳統(tǒng)的鍍膜，在工件表面加工以形成圖案的方法通常是將預(yù)定的圖案區(qū)域之外掩蓋，而直接對該預(yù)定的圖案區(qū)域進(jìn)行鍍膜。然，由于遮蓋非圖案區(qū)域的遮罩具有一定的厚度，因此當(dāng)對圖案區(qū)域鍍膜之后，因此遮罩的厚度導(dǎo)致部分反應(yīng)微粒附著，從而導(dǎo)致圖案的邊緣不清晰且整個(gè)圖案的厚度不均。邊緣不清晰在高倍顯微鏡下表現(xiàn)得邊緣模糊， 即，圖案精度太低，尤其是當(dāng)待鍍表面形狀復(fù)雜時(shí)，更難形成高精度圖案。圖案厚度不均則會引起圖案...
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