專利名稱：蒸發(fā)源及使用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置的制作方法
蒸發(fā)源及使用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是關(guān)于一種蒸發(fā)源及使用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置。
技術(shù)背景
蒸鍍裝置已廣泛用于各種電子零件的薄膜蒸鍍，特別是用于半導(dǎo)體、LCD、有機電 場顯示裝置等電子裝置及顯示裝置的薄膜形成中。如今，使用蒸發(fā)裝置蒸鍍形成薄膜也開 始用于各種電子裝置的外觀裝飾中。
蒸鍍裝置是將蒸鍍材料及被鍍基板置于真空容器內(nèi)，并由蒸發(fā)源加熱蒸鍍材料使 其蒸發(fā)或者升華而汽化，汽化后的蒸鍍材料堆積在被鍍基板的表面而形成薄膜。作為上述 蒸鍍裝置的蒸鍍材料的蒸發(fā)源，提出有電阻加熱式蒸發(fā)源、感應(yīng)加熱式蒸發(fā)源、電子束加熱 式蒸發(fā)源、激光加熱式蒸發(fā)源等，其中電阻加熱式蒸發(fā)源是采用具有一定電阻的電極放熱 對蒸鍍材料進行加熱，該蒸發(fā)源設(shè)備便宜、操作容易。
請參閱圖1及圖2，一種現(xiàn)有的電阻加熱式蒸發(fā)源包括二導(dǎo)電桿10，該二導(dǎo)電桿 10兩側(cè)等間隔地、對稱突出有多對等長的支撐件12，每對支撐件12可用于固定一發(fā)熱電阻 14，蒸鍍材料(圖未示)則可通過纏繞等方式與該發(fā)熱電阻14接觸，由此可在導(dǎo)電桿10上 沿長度方向上連續(xù)地設(shè)置蒸鍍材料。蒸鍍時，多個待鍍工件(圖未示)可圍繞該蒸發(fā)源旋 轉(zhuǎn)地設(shè)置于該蒸發(fā)源的周邊。上述蒸發(fā)源只在導(dǎo)電桿10的兩側(cè)(即相對的兩個方向)設(shè) 置用于支撐蒸鍍材料的支撐件12，且支撐件12等間隔、等長度設(shè)置，利用該蒸發(fā)源加熱汽 化的蒸鍍材料粒子在蒸發(fā)源周圍的空間分布不均勻，導(dǎo)致待鍍工件上形成的鍍膜厚度不均 勻，從而影響使用該待鍍工件的電子裝置的功能或外觀質(zhì)量。發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可形成均勻鍍膜的蒸發(fā)源。
另外，還有必要提供一種使用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置。
—種蒸發(fā)源，其包括一電極組件以及多層支撐單元，該電極組件包括四間隔設(shè)置 的電極桿，該多層支撐單元沿該電極桿的長度方向間隔設(shè)置，每層支撐單元包括向不同方 向伸出的四支撐架，每一支撐架包括分別由相鄰的二電極桿伸出的二支撐臂及若干架設(shè)于 該二支撐臂上的發(fā)熱電阻絲，所述相鄰二支撐單元之間的間距由鄰近該電極桿兩端朝鄰近 該電極桿中部位置逐漸增大。
一種蒸鍍裝置，包括一真空腔室，及置于該真空腔室內(nèi)的一蒸發(fā)源、一底座及固定 于底座上的多個用于放置待鍍工件的固定架，該蒸發(fā)源設(shè)于該底座中央，該固定架可自轉(zhuǎn) 地圍繞該蒸發(fā)源旋轉(zhuǎn)，該蒸發(fā)源包括一電極組件以及多層支撐單元，該電極組件包括四間 隔設(shè)置的電極桿，該多層支撐單元沿該電極桿的長度方向間隔設(shè)置，每層支撐單元包括向 不同方向伸出的四支撐架，每一支撐架包括分別由相鄰的二電極桿伸出的二支撐臂及若干 架設(shè)于該二支撐臂上的發(fā)熱電阻絲，所述相鄰二支撐單元之間的間距由鄰近該電極桿兩端 朝鄰近該電極桿中部位置逐漸增大。
上述蒸鍍裝置的蒸發(fā)源沿該電極桿設(shè)置多層支撐單元，且每層支撐單元包括四向 不同方向伸出的支撐架，每一支撐架分別由相鄰的二電極桿上各伸出一支撐臂組成，且靠 近該電極桿兩端位置的支撐單元較位于該電極桿中部位置的支撐單元密集。由此可使蒸鍍 材料的汽化粒子均勻的分布在蒸發(fā)源周圍，因此可于待鍍工件上形成均勻的鍍膜。


圖1為一種現(xiàn)有的蒸發(fā)源的側(cè)視示意圖2為圖1中蒸發(fā)源的局部立體示意圖3為本發(fā)明較佳實施例蒸發(fā)源的立體示意圖4為本發(fā)明較佳實施例蒸發(fā)源的局部示意圖5為圖4中V部的放大圖6為使用圖3所示蒸發(fā)源的蒸鍍裝置的剖面示意圖。
具體實施方式
請參閱圖3，本發(fā)明較佳實施例的蒸發(fā)源200，包括一電極組件22以及多層用于支 撐蒸鍍絲材60(參見圖幻的支撐單元M。
電極組件22的外圍形狀呈長方體形，其包括四電極桿220及位于該四電極桿220 端部、將該四電極桿220并聯(lián)連接的連接部224，該四電極桿220為該長方體的四個棱柱設(shè) 置。該四電極桿220通過該連接部2M進行電導(dǎo)通。
請進一步參閱圖4，每層支撐單元M包括四支撐架對0，該四支撐架240大致在同 一水平面延伸，且相鄰的二支撐架MO的延伸方向大致互相垂直。
每一支撐架240包括分別由相鄰的二電極桿220伸出的二支撐臂241及若干架設(shè) 于該二支撐臂241上的發(fā)熱電阻絲M3。每一支撐架MO的二支撐臂241上對稱開設(shè)有至 少一對卡固槽M12及鄰近該卡固槽M12開設(shè)的一螺孔M14。每一螺孔M14用于螺接一 定位墊片2416。
每對卡固槽M12用于架設(shè)二線形的發(fā)熱電阻絲M3，比如鎢絲。發(fā)熱電阻絲243 兩兩并排固定，從而在中間形成一容置槽，容置槽可用于放置一蒸鍍絲材60 (請參閱圖5)。 定位墊片M16用于壓緊架設(shè)于支撐架240上的發(fā)熱電阻M3，防止其掉落。所述電極組件 22及支撐臂241均由金屬，如紫銅材料做成。所述多層支撐單元M沿電極桿220的長度 方向間隔設(shè)置，且靠近電極桿220兩端位置的相鄰二支撐單元M之間的間距向位于電極桿 220中部位置的相鄰二支撐單元M之間的間距逐漸增大，靠近電極桿220兩端位置的支撐 臂Ml的長度向位于電極桿220中部位置的支撐臂Ml的長度逐漸變小。
請參閱圖6，使用上述蒸發(fā)源200的蒸鍍裝置300包括該蒸發(fā)源200、一底座30、固 定于底座30上的多個用于放置待鍍工件的固定架40及一真空腔室50。
蒸發(fā)源200具有如上所述的結(jié)構(gòu)。
底座30大致為環(huán)狀，蒸發(fā)源200豎立于底座30的中央，底座30可圍繞蒸發(fā)源200自轉(zhuǎn)。
所述多個固定架40間隔設(shè)置于底座30的周緣，每一固定架40上設(shè)置有多個用于 擺放待鍍工件70的工作臺42。該多個固定架40可隨底座30圍繞蒸發(fā)源200旋轉(zhuǎn)，并且每一固定架40可進行自轉(zhuǎn)。
真空腔室50用于提供真空的蒸鍍氛圍。蒸發(fā)源200、一底座30及固定架40容置 于真空腔室50內(nèi)。
用該蒸鍍裝置300對多個待鍍工件70進行鍍膜時，待鍍工件70固定于工作臺42 上，并隨底座30圍繞蒸發(fā)源200旋轉(zhuǎn)，同時隨固定架40進行自轉(zhuǎn)。電極組件22通電后，發(fā) 熱電阻絲243加熱蒸鍍絲材60，并使其汽化，汽化后的蒸鍍材料粒子堆積在待鍍工件70的 表面而形成薄膜。
上述蒸鍍裝置300的蒸發(fā)源200利用蒸鍍材料的汽化粒子飛行路徑的特點，每一 支撐單元M設(shè)置四個向不同方位延伸的支撐架對0，并使靠近電極桿220兩端位置的相鄰 二支撐單元M之間的間距向位于電極桿220中部位置的相鄰二支撐單元M之間的間距 逐漸增大。同時，使組成支撐架MO的支撐臂241的長度由電極桿220兩端位置向電極桿 220中部位置逐漸變小，從而使蒸鍍材料的汽化粒子可以均勻的分布在蒸發(fā)源200周圍，于 待鍍工件上形成均勻的鍍膜。
權(quán)利要求
1.一種蒸發(fā)源，其包括一電極組件以及多層支撐單元，其特征在于該電極組件包括 四間隔設(shè)置的電極桿，該多層支撐單元沿該電極桿的長度方向間隔設(shè)置，每層支撐單元包 括向不同方向伸出的四支撐架，每一支撐架包括分別由相鄰的二電極桿伸出的二支撐臂及 若干架設(shè)于該二支撐臂上的發(fā)熱電阻絲，所述相鄰二支撐單元之間的間距由鄰近該電極桿 兩端朝鄰近該電極桿中部位置逐漸增大。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源，其特征在于所述支撐臂的長度由鄰近該電極桿兩端 朝該電極桿中部位置逐漸變小。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源，其特征在于該電極組件的外圍形狀呈長方體形，該四 電極桿為該電極組件的四個棱柱設(shè)置。
4.如權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源，其特征在于每相鄰二支撐架互相垂直地設(shè)置在同一 水平面。
5.如權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源，其特征在于每一支撐架的二支撐臂上對稱開設(shè)有至 少一對卡固槽及鄰近該卡固槽開設(shè)有一螺孔，每對卡固槽卡固二所述發(fā)熱電阻絲，每一螺 孔螺接一定位墊片。
6.如權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源，其特征在于該電極組件還該包括位于該四電極桿端 部、將該四電極桿并聯(lián)連接的連接部，該四電極桿通過該連接部進行電導(dǎo)通。
7.一種蒸鍍裝置，包括一真空腔室，及置于該真空腔室內(nèi)的一蒸發(fā)源、一底座及固定于 底座上的多個用于放置待鍍工件的固定架，該蒸發(fā)源設(shè)于該底座中央，該固定架可自轉(zhuǎn)地 圍繞該蒸發(fā)源旋轉(zhuǎn)，該蒸發(fā)源包括一電極組件以及多層支撐單元，其特征在于該電極組件 包括四間隔設(shè)置的電極桿，該多層支撐單元沿該電極桿的長度方向間隔設(shè)置，每層支撐單 元包括向不同方向伸出的四支撐架，每一支撐架包括分別由相鄰的二電極桿伸出的二支撐 臂及若干架設(shè)于該二支撐臂上的發(fā)熱電阻絲，所述相鄰二支撐單元之間的間距由鄰近該電 極桿兩端朝鄰近該電極桿中部位置逐漸增大。
8.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于所述支撐臂的長度由鄰近該電極桿兩 端朝該電極桿中部位置逐漸變小。
9.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于該電極組件的外圍形狀呈長方體形，該 四電極桿為該電極組件的四個棱柱設(shè)置。
10.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于每相鄰二支撐架互相垂直地設(shè)置在同 一水平面。
11.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于每一支撐架的二支撐臂上對稱開設(shè)有 至少一對卡固槽及鄰近該卡固槽開設(shè)有一螺孔，每對卡固槽卡固二所述發(fā)熱電阻絲，每一 螺孔螺接一定位墊片。
12.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于該電極組件還該包括位于該四電極桿 端部、將該四電極桿并聯(lián)連接的連接部，該四電極桿通過該連接部進行電導(dǎo)通。
全文摘要
本發(fā)明提供一種蒸發(fā)源，其包括一電極組件以及多層用于支撐蒸鍍材料的支撐單元，該電極組件包括四間隔設(shè)置的電極桿，該多層支撐單元沿該電極桿的長度方向間隔設(shè)置，每層支撐單元包括四向不同方向伸出的支撐架，每一支撐架分別由相鄰的二電極桿上各伸出一支撐臂組成，且靠近該電極桿兩端位置的支撐單元較位于該電極桿中部位置的支撐單元密集。本發(fā)明還提供一種使用上述蒸發(fā)源的蒸鍍裝置。
文檔編號C23C14/56GK102031485SQ20091030769
公開日2011年4月27日 申請日期2009年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月25日
發(fā)明者林圣來 申請人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司