技術(shù)編號：3353992
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。蒸發(fā)源及使用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置 本發(fā)明是關(guān)于一種蒸發(fā)源及使用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置。技術(shù)背景蒸鍍裝置已廣泛用于各種電子零件的薄膜蒸鍍，特別是用于半導(dǎo)體、LCD、有機(jī)電 場顯示裝置等電子裝置及顯示裝置的薄膜形成中。如今，使用蒸發(fā)裝置蒸鍍形成薄膜也開 始用于各種電子裝置的外觀裝飾中。蒸鍍裝置是將蒸鍍材料及被鍍基板置于真空容器內(nèi)，并由蒸發(fā)源加熱蒸鍍材料使 其蒸發(fā)或者升華而汽化，汽化后的蒸鍍材料堆積在被鍍基板的表面而形成薄膜。作為上述 蒸鍍裝置的蒸鍍材料的蒸發(fā)源，提出...
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