專利名稱：用于連續(xù)真空涂布網(wǎng)幅式材料的系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及連續(xù)真空涂布可連續(xù)提供的網(wǎng)幅式材料(比如薄層(laminas)、膜或片材)的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
由于新產(chǎn)品的問世和用于獲得新產(chǎn)品的技術(shù)創(chuàng)新，塑料得到了重要的發(fā)展。這反過來使得這些產(chǎn)品改進其性質(zhì)并延伸其應(yīng)用范圍。因此，在某些情況下，傳統(tǒng)材料比如玻璃甚至鋼已被塑料替代。 由于它們的結(jié)構(gòu)性質(zhì)，聚合材料通常在可塑性、變形性、重量、對氧化過程的保持性和穩(wěn)定性上比金屬有優(yōu)勢。即使如此，它們具有局限性，比如它們的硬度、抗磨損性、耐熱性和機械一至文性(mechanical consistency)。 —般用于補償這些缺陷的通常的方法是借助于不同類型的化學(xué)或物理處理的應(yīng)用而保護它們。這些方法是表面涂布方法，也稱為涂布。在某些情況下，借助于這些類型的處理，已實現(xiàn)出人意料的結(jié)果，能制造具有高機械性能的塑料。 通常在塑料上涂布的其他類型的涂層是通過PVD(物理汽相沉積)技術(shù)在真空條件下沉積的多層光學(xué)涂層。這些涂層更給予塑料特定的光學(xué)性質(zhì)。 無論它是否是聚合材料，對于薄層或網(wǎng)幅式材料的涂布存在幾種選擇。其中之一對應(yīng)于稱為空對空(air-to-air)的技術(shù)，其中材料從大氣壓通過預(yù)備真空室進入沉積室，如文獻GB2084264所述。該技術(shù)的優(yōu)勢在于巻繞和松繞在大氣壓下進行，但它的缺陷在于它只對金屬襯底情形下的硬材料有效。 更具體地，網(wǎng)幅式材料(即塑料膜、薄層、片材或網(wǎng)幅的情形)的涂布的另一技術(shù)描述于文獻W003/046251。根據(jù)該技術(shù)，巻繞和松繞室必須處于真空條件，因此系統(tǒng)的加載、卸載和穿過(threading)涉及打破真空。此外，它可以包括的沉積系統(tǒng)的數(shù)目非常有限。
已知處理塑料以改進其表面性質(zhì)(特別是一些光學(xué)、化學(xué)和抗磨損性)的需求。如果對塑料進行特殊處理，則可以改進其他性質(zhì)，比如阻氧效果和抗?jié)裥?。這些涂布方法中許多借助于真空PVD技術(shù)進行。在網(wǎng)幅式軟材料(比如聚合膜或薄層)上涂布這些涂層存在很多困難。這些困難之一源于需要在真空條件下進行巻繞和松繞(W003/046251)。這意味著對膜的加載、卸載和穿過過程必須打破真空，損失后續(xù)的安裝效率，因為打破真空，尤其是再獲得真空所需時間長。另一個缺陷由網(wǎng)幅式材料借助于輥和張力器(tensioner)滑動和驅(qū)動的事實造成。這意味著網(wǎng)幅式材料受到張力，所述張力造成變形問題。
另一個重要的事實是由于網(wǎng)幅式材料通過輥支持，進行涂布的材料的長度受限，因而這樣的材料可以進行的處理數(shù)目也受限。此外，這個問題在網(wǎng)幅式材料(比如聚合薄層材料)的情形下加劇，因為在某些沉積過程(例如在濺射過程)中，塑料帶靜電。這種現(xiàn)象引起產(chǎn)生沿著與運動方向平行的方向移動所述材料的力，這導(dǎo)致防止所述運動的張力增大。 用于在真空下涂布薄層材料或聚合膜的方法的另一缺陷在于其設(shè)計或構(gòu)造不允許沉積過程前后的處理，產(chǎn)生在真空條件下進行這類處理的困難。 最后，當(dāng)沉積過程從網(wǎng)幅式材料的上部進行時產(chǎn)生另一缺陷，因為沉積過程的所有殘留物因重力落在待涂布的材料上，在涂層中引起缺陷，該缺陷嚴(yán)重影響產(chǎn)品品質(zhì)、生產(chǎn)質(zhì)量和生產(chǎn)過程盈利。 考慮上述所有問題，本發(fā)明公開了連續(xù)真空涂布網(wǎng)幅式材料的系統(tǒng)和方法，克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是能進行大量處理的連續(xù)真空涂布可連續(xù)提供的網(wǎng)幅式材料的系
統(tǒng)。所述系統(tǒng)至少由下列部分組成 a)進給構(gòu)件，其提供待涂布的網(wǎng)幅式材料； b)至少一個輸入室，其中引入待涂布的網(wǎng)幅式材料，且在其中進行輸入大氣壓和相鄰?fù)坎际业恼婵諌毫χg的轉(zhuǎn)變； c)所述涂布室包括至少一個用于在網(wǎng)幅式材料上沉積金屬和/或介電組分的真空沉積模塊； d)至少一個輸出室，在其中進行相鄰?fù)坎际业恼婵諌毫痛髿鈮褐g的轉(zhuǎn)變；禾口
e)收集構(gòu)件，其收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料。 為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，本發(fā)明的系統(tǒng)的特征主要在于其還包含驅(qū)動和支持構(gòu)件，網(wǎng)幅式材料通過其一個表面固定在所述驅(qū)動和支持構(gòu)件上以運輸，至少通過涂布室。
在本發(fā)明中，網(wǎng)幅式材料應(yīng)當(dāng)理解為可以連續(xù)供給所述系統(tǒng)的任何聚合或非聚合基材料。這指的是薄層、膜或片材，即，指的是借助于本發(fā)明描述的系統(tǒng)和方法處理的連續(xù)或非連續(xù)單元。因此，在本發(fā)明中，網(wǎng)幅式材料應(yīng)當(dāng)理解為適合于例如借助于進給巻盤(feel reel)連續(xù)地供給涂布室的任何類型的紙張、織物、膜或薄層。顯然，當(dāng)網(wǎng)幅式材料由任何性質(zhì)的單獨片材組成時，應(yīng)理解提供了可以連續(xù)供給這些片材的構(gòu)件。
薄層可以定義為任何材料的薄網(wǎng)幅，如果它可被巻繞的話也稱為膜。在任何情況下，薄層材料、薄層或膜的表述的使用在本發(fā)明中沒有區(qū)別。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，用于真空涂布網(wǎng)幅式材料的系統(tǒng)包含驅(qū)動和支持構(gòu)件。網(wǎng)幅式材料連同這些構(gòu)件沿著豎直取向的直線路徑通過涂布室。 可選地，本發(fā)明的系統(tǒng)設(shè)置為使得驅(qū)動和支持構(gòu)件及網(wǎng)幅式材料沿著水平取向的直線路徑通過涂布室。 處于水平位置的本發(fā)明的系統(tǒng)的特征還在于真空沉積模塊位于網(wǎng)幅式材料的自由表面下方并與之相對。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，真空沉積模塊的位置使得涂布直接在網(wǎng)幅式材料上發(fā)生，并沿著與所述驅(qū)動和支持構(gòu)件的前進運動方向垂直(因而和所述網(wǎng)幅式材料的方向垂直)的方向在所述網(wǎng)幅式材料上涂布。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述沉積模塊選自不同的沉積技術(shù)，即物理汽相沉積(PVD)技術(shù)沉積模塊、化學(xué)汽相沉積(CVD)技術(shù)沉積模塊、熱沉積模塊、電子槍沉積模塊、濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊和等離子體處理沉積模塊。 所述系統(tǒng)可包含多個相同類型或性質(zhì)的模塊，或者可選地，所述涂布室的沉積模
5塊可有幾個，且具有不同的性質(zhì)或類型。 優(yōu)選包含至少一個包括一個以上磁控管的濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊的系統(tǒng)。
本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件優(yōu)選由至少一個循環(huán)輸送帶形成，網(wǎng)幅式材料在所述輸送帶上涂布，所述網(wǎng)幅式材料連同所述輸送帶以整體的方式至少沿著涂布室向前移動。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，所述循環(huán)輸送帶涂有聚合粘合劑薄層，網(wǎng)幅式材料借助于熱粘合過程可分離地涂布于所述薄層上。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征也在于所述聚合粘合劑薄層包含至少一種選自下列組
的化合物聚烯烴、EVA(乙烯_乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，所述系統(tǒng)具有用于牽引所述網(wǎng)幅式材料的機械牽引構(gòu)
件，設(shè)置于輸出室附近，適合于將已經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料與所述驅(qū)動和支持構(gòu)件分離。 本發(fā)明的系統(tǒng)的特征也在于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件涂有粘合劑表層，網(wǎng)幅式材料借
助于接觸過程和/或熱粘合過程可分離地固定于所述表層上。 使用在至少一個表面上已涂布了粘合劑且適合于直接固定于驅(qū)動和支持構(gòu)件的網(wǎng)幅式材料(比如膜)的系統(tǒng)也是本發(fā)明的目的。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的另一特征，所述進給構(gòu)件由松繞裝置(imwindingdevice)形成；所述收集構(gòu)件由巻繞裝置形成。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述輸入室和輸出室包含多個具有多個真空泵的隔間。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述系統(tǒng)在進給構(gòu)件與驅(qū)動和支持構(gòu)件之間；和在驅(qū)動和支持構(gòu)件與收集構(gòu)件之間包含張力控制構(gòu)件。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于它包含用于沉積涂層的光學(xué)控制構(gòu)件，它位于驅(qū)動和支持構(gòu)件的出口。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征也在于它包含至少一個在網(wǎng)幅式材料與驅(qū)動和支持構(gòu)件之間引起耦合(coupling)的壓力輥。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于它包含分別位于真空沉積模塊前或后的預(yù)處理和/或后處理站。 根據(jù)本發(fā)明的另 一 特征，所述預(yù)處理站由保護性薄層引出站(extractionstation)組成。 可選地，也根據(jù)本發(fā)明，所述預(yù)處理站由層疊涂布站組成。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述預(yù)處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護層的沉積站組成。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，所述系統(tǒng)包含后處理站，所述后處理站由用于借助于保護層和網(wǎng)幅式材料的粘合和/或通過熱熔粘接技術(shù)涂布保護層的涂布站組成。
可選地，所述后處理站由層疊涂布站組成。 可選地，所述系統(tǒng)包含后處理站，所述后處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護層的沉積站組成。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述網(wǎng)幅式材料為薄層、膜或片材的形式。
所述網(wǎng)幅式材料優(yōu)選為聚合膜。
本發(fā)明的另一目的是用于真空涂布網(wǎng)幅式材料的方法，所述方法包括涂布步驟， 其中進行至少一個用于沉積金屬和/或介電組分的真空沉積操作；所述方法的特征在于在 所述涂布步驟中，網(wǎng)幅式材料沿著線性方向被驅(qū)動并支持至真空沉積模塊，以沉積金屬和/ 或介電組分。 根據(jù)本發(fā)明的方法的特征在于，所述網(wǎng)幅式材料沿著線性方向被驅(qū)動并支持至多
個用于將所述材料調(diào)節(jié)至工作壓力的構(gòu)件，從用于將所述材料調(diào)節(jié)至對其涂布最佳的真空
壓力的調(diào)節(jié)步驟，直到用于將所述網(wǎng)幅式材料恢復(fù)至大氣壓的合適的輸出步驟。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，用于真空涂布網(wǎng)幅式材料的方法還包括對所述網(wǎng)幅式材
料的預(yù)處理和/或后處理步驟。


通過非限制性實施例，附圖顯示本發(fā)明系統(tǒng)的實施方案。在所述附圖中
圖1是根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的示意性圖示，本發(fā)明的方法借助于所述系統(tǒng)進行。
附圖詳述 如圖1所示，用于真空涂布連續(xù)或非連續(xù)的網(wǎng)幅式材料2(比如多個片材)(比如 膜、薄層、布、紙)的系統(tǒng)1包含進給構(gòu)件3 ;輸入室4 ;包括多個真空沉積模塊6的涂布室 5 ;輸出室7 ;和收集構(gòu)件8。 進給構(gòu)件3提供待涂布的網(wǎng)幅式材料2，在所示的情形中為膜或薄層形式的材料， 并且收集構(gòu)件8收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料22。所述進給構(gòu)件3和所述收集構(gòu)件8分別由松 繞裝置31和巻繞裝置81形成。 輸入室4進行輸入大氣壓和涂布室5的真空壓力之間的轉(zhuǎn)變，待涂布的網(wǎng)幅式材 料2引入輸入室4中。另外，輸出室7進行涂布室5的真空壓力和經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料22 的輸出氣壓之間的轉(zhuǎn)變。所述輸入室4和所述輸出室7使用被稱為空對空的系統(tǒng)以調(diào)節(jié)工 作壓力。對稱的兩個室(4，7)具有多個隔間ll，隔間11具有多個真空泵12，其中工作壓力 的調(diào)節(jié)都在進給和卸載下進行，存在空氣，防止打破真空。通常，真空處理需要真空加載和 卸載室，使得系統(tǒng)的理想操作得以保證，在沉積室內(nèi)達到高真空。在此情況下，為了達到并 調(diào)節(jié)涂布室5需要的真空，使用具有不同的泵容量和真空容量的泵(例如，高空氣泵容量和 低真空泵，和高真空容量泵；在它們之間存在其他中間泵)，使得借助于中等真空泵或低真 空泵(主要是機械泵、旋轉(zhuǎn)泵和羅茨泵(Roots pump)，和高真空泵(比如擴散泵、渦輪分子 泵或低溫泵)逐漸達到真空。 涂布室5的真空沉積模塊6在待涂布的網(wǎng)幅式材料2上進行金屬和介電組分的真 空沉積。用于所述沉積的不同技術(shù)是物理汽相沉積，稱為PVD ;熱沉積；借助于電子槍進行 的沉積；濺射或離子注入；化學(xué)汽相沉積，稱為CVD，或等離子體處理。也可使用幾個濺射 室，它們中的每一個包括幾個磁控管。許多其他技術(shù)也可使用并適用于實現(xiàn)所需材料的沉 積。 所述系統(tǒng)1還包含驅(qū)動和支持構(gòu)件9，其用于提供在涂布室5中待涂布的網(wǎng)幅式材 料2，例如連續(xù)的聚合材料薄層形式的材料。所述驅(qū)動和支持構(gòu)件9設(shè)置為使得所述網(wǎng)幅式 材料2至少在通過涂布室5時沿著直線路徑，所述網(wǎng)幅式材料2通過它的一個表面固定于 所述驅(qū)動和支持構(gòu)件9上以運輸。
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由圖1推斷，涂布室5的真空沉積模塊6位于網(wǎng)幅式材料2下方并和它的不與驅(qū)
動和支持構(gòu)件9接觸的自由或裸露表面相對。這種類型的分布便于進行真空涂布聚合或非
聚合的網(wǎng)幅式材料2的方法，所述方法可連續(xù)工作可進行多次處理。在所示的情形中，網(wǎng)幅
式材料2在輸入室4的入口固定于驅(qū)動和支持構(gòu)件9，并在輸出室7的出口引出。 在圖1所示的系統(tǒng)1中，真空沉積模塊6的位置使得涂布直接在網(wǎng)幅式材料2上
進行，并沿著與驅(qū)動和支持構(gòu)件9的向前移動方向垂直的方向涂布于其上。通過這種類型
的構(gòu)造，有利地防止了沉積過程的可能的殘留物因重力而落在待涂布的網(wǎng)幅式材料2上，
引起涂層的不均勻，顯著影響產(chǎn)品的品質(zhì)和總的涂布方法的盈利和效率。 所述驅(qū)動和支持構(gòu)件9由循環(huán)輸送帶91形成，網(wǎng)幅式材料2涂布在所述輸送帶
上。這個循環(huán)輸送帶91是金屬的，主要由鋼或鋁制成，借助于兩個輥(92,93)驅(qū)動，其中之
一是驅(qū)動輥，它包括導(dǎo)向機構(gòu)以防止循環(huán)輸送帶91的側(cè)向位移。至少在涂布室5內(nèi)，待涂
布的網(wǎng)幅式材料2連同所述循環(huán)輸送帶91以整體的方式向前移動。根據(jù)其他可能的變化，
所述輸送帶是彈性的或由聚合材料與無機產(chǎn)品的組合形成，符合適合用作輸送帶表面的機
械性質(zhì)和厚度。 在一個優(yōu)選的實施方案中，循環(huán)輸送帶91涂有聚合粘合劑膜(未顯示)，網(wǎng)幅式材 料2借助于熱粘合過程可分離地固定于其上。所述聚合粘合劑薄層包含選自下列組的聚烯 烴化合物EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)或聚己烯。另外，它也按下列方式提供它是包含其他 化合物(比如選自下列組的化合物聚氨酯、PVB、丙烯酸或TPU)的聚合粘合劑薄層。用于 將網(wǎng)幅式材料2固定于聚合粘合劑薄層的熱粘合過程可借助于加熱系統(tǒng)在3(TC和13(TC之 間通過預(yù)熱所述聚合粘合劑薄層92進行。作為整體，提供壓力輥15，在網(wǎng)幅式材料2與驅(qū) 動和支持構(gòu)件9之間引起耦合。 達到的溫度和施加的壓力必須適合于保證網(wǎng)幅式材料2在涂布室5中的沉積過程
期間粘合，但同時適合于在真空涂布過程結(jié)束后通過機械牽引將其分離。 在根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)1中，優(yōu)選在驅(qū)動和支持構(gòu)件9中提供冷卻系統(tǒng)，位于涂布室
5內(nèi)部，防止網(wǎng)幅式材料2的溫度過度增大。所述冷卻系統(tǒng)由冷卻水傳導(dǎo)系統(tǒng)組成，所述系
統(tǒng)與循環(huán)輸送帶91接觸或接近，從而它們通過輻射和/或傳導(dǎo)交換熱量。此外，它們可以
包括用于借助于電接地并和循環(huán)輸送帶91接觸的輥除去驅(qū)動和支持構(gòu)件9中的靜電的系統(tǒng)。 除了至少能進行涂布步驟外，所述系統(tǒng)可包括子系統(tǒng)或站，其中進行對網(wǎng)幅式材 料2和對涂布的膜或軟材料22的預(yù)處理和后處理步驟。因此，在預(yù)處理步驟中可借助于層 疊過程(幾個膜粘合以改進其性質(zhì)，或借助于通過噴涂或輥技術(shù)的其他材料的表面處理過 程)除去為了該目的而設(shè)置于網(wǎng)幅式材料2中的保護性薄層?？蛇x地，在后處理步驟中，可 通過粘合或熱熔粘接技術(shù)(hotmelt technique),以及通過噴涂或輥式技術(shù)在涂布的軟材 料22上層疊或沉積保護層而放置保護性薄層。 在未顯示的另一個方案中，所述驅(qū)動和支持構(gòu)件9涂有粘合劑表層(未顯示)，所 選的網(wǎng)幅式材料2借助于接觸過程或熱粘合過程固定于其上。 在也未顯示的另一個方案中，在此情形下可兩面都具有粘合性(通過接觸或溫 度)的網(wǎng)幅式材料2在它的一個表面上涂布了粘合劑以直接固定于驅(qū)動和支持構(gòu)件9，且在 另一個表面上涂布了粘合劑以便于待沉積的材料的固定。
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此外，為了一直控制網(wǎng)幅式材料2的張力，系統(tǒng)1在進給構(gòu)件3與驅(qū)動和支持構(gòu)件 9之間；且在驅(qū)動和支持構(gòu)件9與收集構(gòu)件8之間具有張力控制構(gòu)件13。
網(wǎng)幅式材料2的涂層品質(zhì)的控制在系統(tǒng)1中借助于光學(xué)控制構(gòu)件14進行，該光學(xué) 控制構(gòu)件14用于控制沉積的涂層，設(shè)置于驅(qū)動和支持構(gòu)件9的出口 。 關(guān)于系統(tǒng)1的工作順序或過程，必須提到用于網(wǎng)幅式材料2的真空涂布的方法包 括下列步驟-進給步驟，借助于進給構(gòu)件3，用于提供用于被處理的網(wǎng)幅式材料2 ; _調(diào)節(jié)步驟100，其中網(wǎng)幅式材料2達到的初始大氣壓逐漸變?yōu)閷ζ渫坎甲罴训恼?br> 空壓力；-涂布步驟101，借助于多個用于沉積金屬和介電組分的真空沉積操作進行網(wǎng)幅 式材料2的涂布；-輸出步驟102，進行和調(diào)節(jié)步驟IOO相反的過程，即，逐漸將網(wǎng)幅式材料2的真空 壓力變?yōu)榻?jīng)涂布的薄層材料22的輸出氣壓；禾口
-收集步驟，收集和儲存經(jīng)涂布的軟材料22。 顯著地，在涂布步驟101中，網(wǎng)幅式材料2沿著線性方向被驅(qū)動并支持至真空沉積 模塊6以沉積金屬和介電組分。具體地，沉積的方向垂直于網(wǎng)幅式材料2在系統(tǒng)1中的向 前移動方向，并沿著由下(真空沉積模塊6所處的位置)到上(固定于驅(qū)動和支持構(gòu)件9 的薄層材料2所處的位置)的方向。 如上所述，能在所述方法中包括對軟材料(2， 22)的預(yù)處理和后處理特別重要。在 這些步驟中，所述可能性預(yù)計在于在薄層材料2中沉積金屬或介電組分之前將添加劑層 疊或加入薄層材料2中；或用任何有益的組合物噴涂經(jīng)涂布的軟材料22，所述組合物例如 用于保護其中沉積了金屬組分的所述材料22。 特別優(yōu)選能和前述空對空技術(shù)一起工作，因為它便于使這些預(yù)處理和后處理步驟 或處理站可以像通過金屬和/或介電組分的真空沉積的涂布步驟(101)那樣連續(xù)進行，因 此不妨礙所述方法的任何步驟，使之更完整并提升其效率。 如果網(wǎng)幅式材料2由多個非連續(xù)的片材或薄層組成，則提供構(gòu)件使得它們可以連 續(xù)地供給系統(tǒng)，特別是在涂布室5中。因此，可以考慮設(shè)置于適合被巻繞的連續(xù)膜上的多個 獨立且可分離的片材，或用于分配所述連續(xù)引入涂布室5的獨立的片材單元的構(gòu)件。
已充分描述了用于網(wǎng)幅式材料2的真空涂布的系統(tǒng)1和方法，顯然關(guān)于預(yù)處理或 后處理站的數(shù)量或種類，沉積模塊6、進給構(gòu)件3和收集構(gòu)件8、驅(qū)動和支持構(gòu)件9的數(shù)量或 種類的任何改變也成為本發(fā)明目的的一部分。
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權(quán)利要求
用于連續(xù)真空涂布并連續(xù)提供網(wǎng)幅式材料(2)的系統(tǒng)(1)，其包含a)進給構(gòu)件(3)，其提供待涂布的網(wǎng)幅式材料；b)至少一個輸入室(4)，其中引入待涂布的網(wǎng)幅式材料，且在其中進行輸入大氣壓和涂布室(5)的真空壓力之間的轉(zhuǎn)變；c)所述涂布室包括至少一個用于在網(wǎng)幅式材料上沉積金屬和/或介電組分的真空沉積模塊(6)；d)至少一個輸出室(7)，在其中進行涂布室的真空壓力和大氣壓之間的轉(zhuǎn)變；和e)收集構(gòu)件(8)，其收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料；其特征在于，所述系統(tǒng)還包含驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)，網(wǎng)幅式材料通過其一個表面固定在所述驅(qū)動和支持構(gòu)件上以運輸，至少通過涂布室。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的用于真空涂布的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)及網(wǎng)幅式材料(2)在沉積室中沿著豎直取向的直線路徑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1的用于真空涂布的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)及網(wǎng)幅式材料(2)在沉積室中沿著水平取向的直線路徑。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3的系統(tǒng)(1)，其特征在于所述真空沉積模塊(6)位于網(wǎng)幅式材料(2)的裸露表面下方并與之相對。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述真空沉積模塊(6)的位置使得涂布直接在網(wǎng)幅式材料(2)上發(fā)生，并沿著和所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)的前進運動方向相垂直的方向在所述網(wǎng)幅式材料(2)上涂布，因而和所述網(wǎng)幅式材料的方向垂直。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述沉積模塊(6)獨立地選自物理汽相沉積(PVD)技術(shù)沉積模塊、化學(xué)汽相沉積(CVD)技術(shù)沉積模塊、熱沉積模塊、電子槍沉積模塊、濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊和等離子體處理沉積模塊。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1到6任一項的系統(tǒng)(1)，其特征在于其包含多個相同類型的沉積模塊(6)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1到6任一項的系統(tǒng)(1)，其特征在于其包含多個不同性質(zhì)的沉積模塊(6)。
9. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含至少一個包括一個以上磁控管的濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊(6)。
10. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)由至少一個循環(huán)輸送帶(91)形成，所述網(wǎng)幅式材料(2)涂布在所述循環(huán)輸送帶(91)上，且所述網(wǎng)幅式材料連同所述循環(huán)輸送帶(91)至少沿著涂布室(5)向前移動。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10的系統(tǒng)(1)，其特征在于所述循環(huán)輸送帶(91)涂有聚合粘合劑薄層，借助于熱粘合過程，所述網(wǎng)幅式材料可分離地固定于所述薄層上。
12. 根據(jù)權(quán)利要求ll的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述聚合粘合劑薄層包含至少一種下述化合物聚烯烴、EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于其具有用于牽引所述網(wǎng)幅式材料的機械牽引構(gòu)件(IO)，該構(gòu)件設(shè)置于輸出室(7)附近，適合于將已經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料(22)與所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)分離。
14. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)涂有粘合劑表層，所述網(wǎng)幅式材料(2)借助于接觸過程和/或熱粘合過程可分離地固定于所述表層上。
15. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述網(wǎng)幅式材料(2)的至少一個表面上涂有粘合劑并適合于直接固定于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)。
16. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述進給構(gòu)件(3)由松繞裝置(31)形成；所述收集構(gòu)件(8)由巻繞裝置(81)形成。
17. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述輸入室(4)和所述輸出室(7)包含多個隔間(ll)，所述隔間(11)具有多個真空泵(12)。
18. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于其在進給構(gòu)件(3)與驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)之間，和在驅(qū)動和支持構(gòu)件與收集構(gòu)件(8)之間包含張力控制構(gòu)件(13)。
19. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含設(shè)置于所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)的出口的光學(xué)控制構(gòu)件(14)，用于控制沉積的涂層。
20. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含至少一個壓力輥(15)，所述壓力輥(15)在網(wǎng)幅式材料(2)與所述驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)之間引起耦合。
21. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含分別位于所述真空沉積模塊(6)前或后的預(yù)處理站和/或后處理站。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述預(yù)處理站由保護性薄層引出站組成。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述預(yù)處理站由層疊涂布站組成。
24. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(1)，其中所述預(yù)處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護層的沉積站組成。
25. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述后處理站由用于借助于保護層和薄層材料(22)的粘合和/或通過熱熔粘接技術(shù)涂布保護層的涂布站組成。
26. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述后處理站由層疊涂布站組成。
27. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(1)，其中所述后處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護層的沉積站組成。
28. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述網(wǎng)幅式材料(2)為薄層、膜或片的形式。
29. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述網(wǎng)幅式材料(2)是聚合膜。
30. 用于真空涂布網(wǎng)幅式材料(2)的方法，其包括涂布步驟(101)，其中進行至少一個用于沉積金屬組分的真空沉積操作；其特征在于，在所述涂布步驟中，所述網(wǎng)幅式材料沿著線性方向被驅(qū)動并支持至真空沉積模塊(6)，以沉積金屬和/或介電組分。
31. 根據(jù)前述權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述網(wǎng)幅式材料(2)沿著線性方向被驅(qū)動并支持至多個用于將網(wǎng)幅式材料調(diào)節(jié)至工作壓力的構(gòu)件，從用于將網(wǎng)幅式材料調(diào)節(jié)至對其涂布最佳的真空壓力的調(diào)節(jié)步驟(ioo)，直到用于將網(wǎng)幅式材料恢復(fù)至通常的大氣壓的合適的輸出步驟(102)。
32. 根據(jù)權(quán)利要求30到31任一項的用于真空涂布網(wǎng)幅式材料(2)的方法，其特征在于其還包括對網(wǎng)幅式材料(2， 22)的預(yù)處理步驟和/或后處理步驟。
全文摘要
本申請公開了用于連續(xù)真空涂布可連續(xù)提供的網(wǎng)幅式材料(2)的系統(tǒng)(1)，該系統(tǒng)具有進給構(gòu)件；至少一個輸入室(4)，在其中進行輸入大氣壓和涂布室(5)的真空壓力之間的轉(zhuǎn)變，涂布室(5)包括至少一個用于在網(wǎng)幅式材料上沉積金屬和/或介電組分的真空沉積模塊(6)；至少一個輸出室(7)；和收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料的收集構(gòu)件(8)。所述系統(tǒng)還包含驅(qū)動和支持構(gòu)件(9)，網(wǎng)幅式材料通過其一個表面固定在所述驅(qū)動和支持構(gòu)件上以運輸，所述材料至少在通過涂布室時優(yōu)選沿著直線路徑。
文檔編號C23C14/56GK101778963SQ200880102767
公開日2010年7月14日 申請日期2008年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月20日
發(fā)明者F·比柳恩達斯尤斯特, G·伊達爾戈利納斯, I·薩利納斯阿里斯, R·阿隆索埃斯特萬 申請人:諾沃熱尼奧公司