專利名稱：用于固態(tài)材料的真空蒸發(fā)設(shè)備的制作方法
用于固態(tài)材料的真空蒸發(fā)設(shè)備
狀W
本發(fā)明涉及一種如權(quán)利要求1所限定的用于固態(tài)材料的真空蒸發(fā)設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)代能源研究的一個(gè)重要目的就是尋找只具有低成本的將陽光轉(zhuǎn)換為電流的方法。薄膜太陽能電池有望相對于常規(guī)太陽能電池具有更低的成本。
可以通過例如濺鍍工藝或者把固態(tài)材料蒸發(fā)到襯底上來制作這些薄膜。已經(jīng)描述了用于金屬的連續(xù)真空蒸發(fā)裝置，其中被鍍膜的襯底在真空
室中移動(dòng)(US 4,880,960)。顆粒形式的沉積材料儲(chǔ)存在最下部由板封閉的儲(chǔ)存器中。通過線纜將該板與關(guān)閉坩堝進(jìn)口的閥門連接起來，該坩堝被加熱到用于蒸發(fā)沉積材料的溫度。使用了至少一個(gè)電磁鐵的控制裝置允許該板樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)并由此來打開閥門。 一定量的粉末掉入坩堝，之后該板和閥門返回關(guān)閉位置。具有尺寸小于坩堝中的沉積材料顆粒的阿孔的擋板僅允許蒸汽通過并隨后沉積在襯底上。
另外還描述了一種用于給襯底鍍膜的設(shè)備，其中該設(shè)備包括蒸發(fā)源和用于將被蒸發(fā)的材料散布到襯底上的系統(tǒng)(DE 102 24 908 Al)。用于散布的系統(tǒng)還包括線狀源，其中線狀源和襯底可以彼此相對移動(dòng)。
也描述了通過在真空中蒸發(fā)并將基礎(chǔ)產(chǎn)物定量提供給N蒸發(fā)器而將半導(dǎo)體層沉積到襯底上的方法(FR 2 456 144)。產(chǎn)物的提供是周期的。每個(gè)N蒸發(fā)器依次加熱到低于基礎(chǔ)產(chǎn)物沸點(diǎn)的溫度，并且被裝載一個(gè)劑量的基礎(chǔ)產(chǎn)物，該劑量是蒸發(fā)器的激活部分連續(xù)鍍膜所必須的并且在下一次裝填前的時(shí)間T內(nèi)對于完成蒸發(fā)是足夠的。然而，當(dāng)產(chǎn)物被蒸發(fā)時(shí)所存在的---個(gè)問題是很難在幾秒鐘之內(nèi)停止蒸發(fā)。這是因?yàn)椴牧媳仨毨鋮s并且這需要一些時(shí)間。
因此，本發(fā)明一個(gè)目標(biāo)是解決上面提到的問題。
對月贈(zèng)
根據(jù)權(quán)利要求1所限定的特征解決了該問題。
因此，本發(fā)明涉及一種用于蒸發(fā)固態(tài)材料(例如硒)的設(shè)備，其中固態(tài)材料用于給襯底鍍膜。固態(tài)材料通過饋送源進(jìn)入第一坩堝。在該坩堝中，材料在優(yōu)選地略微大于其熔點(diǎn)的溫度下熔化。熔化的材料經(jīng)由輸送裝置(例如為管道)流動(dòng)到第二坩堝中，材料在第二坩堝中以大于其沸點(diǎn)的溫度蒸發(fā)并且傳輸?shù)揭r底上。為了在非常短的時(shí)間(優(yōu)選為一到兩分鐘)內(nèi)停止蒸發(fā)，用于在熔點(diǎn)之上冷卻材料的冷卻裝置布置在輸送裝置中。通過該冷卻裝置，在輸送裝置中的材料可以在其熔點(diǎn)之上在非常短的時(shí)間內(nèi)冷卻下來。


本發(fā)明以圖的形式展示出來，并且由以下的描述進(jìn)行解釋。圖1圖示了帶有待鍍膜襯底的用于固態(tài)材料的真空蒸發(fā)設(shè)備的簡要立體圖。
圖2圖示了在沒有襯底的狀態(tài)下在根據(jù)圖1的設(shè)備的A方向上的視圖。
圖3圖示了根據(jù)圖1的設(shè)備1的B-B切面。圖4根據(jù)圖1的設(shè)備的另一個(gè)實(shí)施例的局部。
具體實(shí)施例方式
圖1圖示了用于固態(tài)材料和襯底2的真空蒸發(fā)設(shè)備1的簡要立體圖。該襯底2 (例如，玻璃板)分別在方向7或8上與設(shè)備1相對移動(dòng)。設(shè)備l包括具有用于安全固定的支腳的殼體3。在圖1中只能看到支腳4、 5和6。
在殼體3的頂部設(shè)置了具有上部10、中部11和下部12的裝料裝置9。中部11真空密封并且提供裝料閥14。在上部10的頂部，設(shè)置了可移除的蓋子13。如果需要給上部10提供固態(tài)材料(諸如硒)，可以將這個(gè)蓋子13移除。
但是，在對上部IO填充固態(tài)材料之前，必須將閥14關(guān)閉。之后經(jīng)由在圖1中未示出的管道將上部10充滿諸如空氣或氮?dú)獾臍怏w。在上部10己經(jīng)被充滿之后，將蓋子13移除并且對上部10填充固態(tài)材料。
然后將蓋子13放回原處并固定，并且由圖1中未示出的泵將上部10抽真空。現(xiàn)在可以將上部10作為固態(tài)材料的儲(chǔ)存器。
通過裝料閥14，可以調(diào)節(jié)來自上部10的固態(tài)材料的量，使得只有限定量的固態(tài)材料經(jīng)過下部12并之后到達(dá)殼體3的內(nèi)部。
殼體3通過導(dǎo)管或管道15與泵系統(tǒng)相連，使得可以在殼體3中產(chǎn)生真空。泵系統(tǒng)在圖1中未示出。設(shè)備1還包括了第一和第二安裝凸緣16、7。在殼體的壁的與設(shè)置管道15的位置相反的一側(cè)上，可以看到另一個(gè)管道18。該管道用于運(yùn)輸冷卻介質(zhì)(例如水、導(dǎo)導(dǎo)熱油、氣體等)。
在安裝凸緣17上，設(shè)置了第三安裝凸緣19，其通過用于支持蒸汽管道20的支持裝置21而支持蒸汽管道20。蒸汽管道20本身具有固定到安裝凸緣19的支持裝置21上的支持裝置22。這兩個(gè)支持裝置組成了支持器23。盡管在圖1中只示出了一個(gè)支持器23，蒸汽管道20可以由多個(gè)支持器23來固定到安裝凸緣13上。但是，根據(jù)蒸汽管道20的重量，可以省略支持器23。
該蒸汽管道20設(shè)置在裝置24上，在裝置24中為了蒸發(fā)材料而設(shè)置了坩堝(在圖l中看不到)。蒸汽管道20還具有與蒸汽管道20通過環(huán)26而連接的蓋子25，其通過緊固件27 (例如螺栓)而同定。
如圖l所示，蒸汽管道20通過同樣具有緊固件29的環(huán)28而固定到裝置24上。蒸汽管道20也以使得管道20中的蒸汽只能通過蒸汽管道20的散布系統(tǒng)(在圖1中未示出)離開的這種方式而設(shè)置在裝置24上。
裝置24通過管道32與裝置31的突起部30相連，以支持設(shè)置在殼體3中的坩堝。
圖2圖示了在沒有襯底2的狀態(tài)下在根據(jù)圖1的設(shè)備1的A方向上的視圖。被設(shè)置到安裝凸緣19上的蒸汽管道20與裝置24相連并且通過環(huán)28和緊固件29與之固定。蒸汽管道20包括形成為線性散布系統(tǒng)39的孔33到38，蒸汽可以通過該系統(tǒng)離開蒸汽管道20并朝向襯底移動(dòng)。之后，蒸汽凝結(jié)在該襯底上形成薄膜。
在圖3中圖示了根據(jù)圖1的設(shè)備1的B-B切面。其中裝料設(shè)備9安裝到殼體3的壁40上。上部IO用作固態(tài)材料(例如硒)的儲(chǔ)存空間。在裝料設(shè)備9下方，儲(chǔ)存容器41設(shè)置在具有管道42的殼體3中，來自裝料設(shè)備9中的材料可以通過該管道進(jìn)入熔化坩堝43中。
在圖3中，儲(chǔ)存容器41具有漏斗的主體結(jié)構(gòu)。此外，管道42和饋送器48設(shè)置在殼體3的內(nèi)部。該饋送器48，例如螺旋輸送機(jī)，作為向管道42提供來自儲(chǔ)存容器41的固態(tài)材料的裝置。
熔化坩堝43設(shè)置在用于支持坩堝43的裝置31的內(nèi)部。可以由保存在兩個(gè)壁44、 45之間的中間空間46中的導(dǎo)熱油加熱坩堝43。除了通過導(dǎo)熱油加熱坩堝43之外，也可以通過電阻加熱器或感應(yīng)線圈來加熱坩堝43。在坩堝43頂部，設(shè)置了罩子47。但是當(dāng)冷卻步驟開始時(shí)，因?yàn)橹虚g空間46用作冷卻介質(zhì)(例如水)的通路，所以它作為用于冷卻的快速關(guān)閉裝置。
圖3還圖示了具有內(nèi)部管道49的管道32,內(nèi)部管道49中優(yōu)選地設(shè)置了電阻加熱器。但是，該電阻加熱器在圖3中未示出。管道32將坩堝43與坩堝50相連。坩堝50容納熔化的材料64。在坩堝50中設(shè)置了加熱器，其優(yōu)選地為電阻加熱器。內(nèi)部管道49、管道32以及坩堝50和43可以由適當(dāng)?shù)慕饘?、陶瓷或石墨組成?？焖訇P(guān)閉裝置51以管道形式將內(nèi)部管道49圍繞，其中快速關(guān)閉裝置51用于冷卻管道49中的熔化的材料。但是，當(dāng)加熱步驟開始時(shí)，這些快速關(guān)閉裝置起到用于諸如導(dǎo)導(dǎo)熱油的加熱介質(zhì)的通路的作用。用于冷卻管道49中的熔化的材料的關(guān)閉裝置51設(shè)置在突起部30的每一側(cè)。
另一個(gè)用于冷卻的關(guān)閉裝置52也以圍繞在坩堝50的外部的管道的形式而設(shè)置。在支持坩堝50的裝置24的頂部，設(shè)置蒸汽管道20。
該蒸汽管道20包括具有散布系統(tǒng)39的第一內(nèi)部管道53，其示出為在
7襯底2穿過設(shè)備1的那一側(cè)。內(nèi)部管道53被至少一個(gè)一半的管道圍繞。在圖3中，內(nèi)部管道53被兩個(gè)一半的管道54， 55圍繞。這樣的布置在例如DE 102 24 908A1的圖7中示出。內(nèi)部管道53通常具有一個(gè)高溫加熱裝置(例如，電阻加熱器)，以使得內(nèi)部管道53的內(nèi)部56中的蒸汽不會(huì)凝結(jié)。
在圖3中示出了通過棒69與坩堝43的壁44相連的分隔壁68。該分隔壁68防止掉入坩堝43內(nèi)的液態(tài)材料65中的材料對內(nèi)部管道49的區(qū)域中的液態(tài)材料的非受控冷卻產(chǎn)生影響。棒69和分隔壁68可以由與坩堝43相同的材料組成，例如適當(dāng)?shù)慕饘?、石墨或陶瓷?br> 為了控制設(shè)備1內(nèi)的溫度，可以應(yīng)用溫度測量裝置，使得可以控制坩堝43和50以及管道49和管道20內(nèi)部的材料的溫度。因此可以使溫度適應(yīng)過程的每個(gè)階段所需要的溫度。
當(dāng)鍍膜過程開始時(shí)，裝料裝置9的上部10由用來給襯底2鍍膜的材料所填滿。如果材料是硒，其優(yōu)選地具有顆粒的形式。
通過打開裝料閥14，材料進(jìn)入到儲(chǔ)存容器41中，且不會(huì)破壞真空。裝料閥14將會(huì)關(guān)閉并且材料將會(huì)被饋送器48輸送到管道42，最終落進(jìn)坩堝43中。在塒堝43中，材料被熔化，坩堝43具有高于固態(tài)材料的熔點(diǎn)的
溫度。就硒來說，溫度只要略微高于其22rc的熔點(diǎn)。
可以由饋送器48控制掉入坩堝43的材料的量，這可以自動(dòng)地運(yùn)行，使得在坩堝43、 50中的填充幅度的變化保持最小。在殼體3以及頂部具有蓋子13的裝料裝置9中，在整個(gè)過程中都存在穩(wěn)定的真空。
當(dāng)加熱過程開始時(shí)，導(dǎo)熱油經(jīng)過關(guān)閉裝置46、 51和52。因此將導(dǎo)熱油作為加熱介質(zhì)。在坩堝43、 50和管道49中的材料因此被導(dǎo)熱油加熱。
材料一進(jìn)入坩堝43就熔化了，因此可以經(jīng)過管道49并且可以到達(dá)坩堝50。在坩堝50中，為了將液態(tài)材料64轉(zhuǎn)化為氣態(tài)(例如，蒸汽)，溫度會(huì)要高很多。該蒸汽上升到蒸汽管道20的內(nèi)部56中，并且通過線性散布系統(tǒng)39離開該管道20。蒸汽之后以朝向襯底2的方向移動(dòng)，以便于在襯底2經(jīng)過設(shè)備1時(shí)產(chǎn)生這種材料的層。設(shè)置在內(nèi)部管道53處的加熱器阻礙蒸汽在內(nèi)部管道53的表面處或者在散布系統(tǒng)39的孔內(nèi)凝結(jié)。當(dāng)過程結(jié)束時(shí)，關(guān)閉加熱器并且打開用于冷卻的快速關(guān)閉裝置51、52，使得冷卻介質(zhì)(例如水、導(dǎo)熱油、氣體等)經(jīng)過這些用于冷卻的關(guān)閉裝置46、 51、 52，以使得材料的溫度降低。對于快速冷卻在坩堝50中的熔化的材料64來說，坩堝50不包含太多的熔化的材料64是很重要的。因
將坩堝43、 50內(nèi)的材料冷卻到高于熔點(diǎn)的溫度是很重要的。在材料冷卻下來之后，冷卻介質(zhì)從關(guān)閉裝置51、 52中移除，使得關(guān)閉裝置51、52能夠再次由與冷卻介質(zhì)相比具有低得多的熱容的空氣填滿。
清潔設(shè)備也是不費(fèi)力的，因?yàn)榭梢院苋菀椎赝ㄟ^移除凸緣19而將蒸汽管道20移除。在這之后，可以將凸緣16、 17移除而使得殼體3可以朝向兩個(gè)側(cè)面打開。
因此，因?yàn)樗械难b置都包括用于快速連接的接合器，所以設(shè)備1的維護(hù)也很容易。因此，也可以很容易地更換裝置9。在清潔完設(shè)備1之后，可以使用用于鍍膜處理的新的、不同的材料來開始新的處理。
裝料裝置9可以包括星形饋送器，其例如具有4個(gè)部分。這些部分中的一個(gè)設(shè)置在閥14的正上方，并且這部分不包括材料。
通過關(guān)閉閥14并使上部IO通風(fēng)來開始裝料步驟。之后將蓋子13從裝置9移除并且以固態(tài)材料填充上部10。此后將蓋子13放回原處并且通過未在圖3中示出的泵將上部10抽真空。在裝置9的上部10與殼體3之間的壓力再次平衡之后，可以打開閥14。
通過轉(zhuǎn)動(dòng)星形裝料器，材料通過打開的閥14落下，使其可以經(jīng)由儲(chǔ)存容器41而進(jìn)入坩堝43。以后閥14再次關(guān)閉。
裝料裝置9可以包含具有至少一個(gè)杯子的杯狀裝料器。這至少一個(gè)杯
子可以被像坩堝一樣傾斜。
在通過蓋子13關(guān)閉裝置9之后，將閥14關(guān)閉并且將上部IO通風(fēng)。再次將蓋子13移除，并且至少一個(gè)杯子填充有材料。蓋子再次放到裝置9的上面，并且在將裝置9抽空之后再次打開閥14。之后將至少一個(gè)杯子傾斜，材料通過閥14的開口落入殼體3的儲(chǔ)存容器41中。從那里材料經(jīng)過管道42最終到達(dá)坩堝43。
9裝置9還可以包括一個(gè)具有旋轉(zhuǎn)提升機(jī)構(gòu)和具有填充籃的提升機(jī)構(gòu)的 容器填充器。
當(dāng)填充過程開始時(shí)，將閥14關(guān)閉并且將裝置9通風(fēng)。裝置9之后提升 并樞軸旋轉(zhuǎn)到一側(cè)。裝料籃被降低，使得籃子可以改變?yōu)橛刹牧涎b滿的籃 子。之后通過提升裝置將這個(gè)籃子拉到裝置9內(nèi)。裝置9樞軸旋轉(zhuǎn)到閥14 上方，之后傾倒到閥14上。之后將該裝置抽真空并且打開閥，使得材料 能夠進(jìn)入坩堝43。
在這個(gè)實(shí)施例中，材料可以是具有顆粒形式的硒。
圖4圖示了以較大比例繪制的根據(jù)圖3的設(shè)備1的實(shí)施例的局部。圖 示了由設(shè)置在裝置24中的管道57、 58、 59和60所包圍的坩堝50,其中 管道57、 58、 59和60形成用于冷卻的關(guān)閉裝置52。在具有坩堝50的裝 置24的頂部設(shè)置了蒸汽管道20。該管道20包括具有開口 61、 62和63的 線性散布系統(tǒng)39，蒸汽通過開口 61、 62和63離開蒸汽管道20。坩堝50 通過由外部管道32包圍的內(nèi)部管道49連接到坩堝43。正如圖4所示，管 道49反復(fù)由關(guān)閉冷卻裝置51環(huán)繞。與坩堝50通過管道49隔開的坩堝43 山與管道49和坩堝50相同的材料制成。然而，管道49和坩堝50、 43町 以由不同的材料制成。管道49和坩堝50、 43優(yōu)選地由石墨、陶瓷或者適 當(dāng)?shù)慕饘俳M成。
如圖3所示，可以看到通過棒69與坩堝43相連的分隔壁68。分隔壁 68和棒69可能由與坩堝43相同的材料組成。
由于可以經(jīng)由電腦通過閥14 (在圖4中未示出)和饋送器48 (在圖4 中也未示出)而自動(dòng)控制固態(tài)材料的量的情況，所以在兩個(gè)坩堝50、 43 中的液態(tài)材料70、 65 (例如硒)具有近似相同的高度。但是，坩堝50的 體積相比于坩堝43要小很多。
代替快速關(guān)閉裝置46、 51和52，可以在坩堝50上方設(shè)置一個(gè)擋板來 防止蒸汽離開蒸汽管道20。然而，特別的在使用硒作為材料的情況下，因 為硒的蒸汽壓力很高，所以很難防止它穿過擋板。這樣的一個(gè)布置在結(jié)構(gòu) 上會(huì)很復(fù)雜。因此，關(guān)閉裝置46、 51、 52是優(yōu)選的。
權(quán)利要求
1.一種真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其用于固態(tài)材料，所述設(shè)備包括用來蒸發(fā)至少一種材料的坩堝(50)并且包括用于將至少一種蒸發(fā)的材料散布到襯底(2)上的散布系統(tǒng)(39)，所述設(shè)備(1)包括在熔點(diǎn)之上冷卻所述至少一種材料的至少一個(gè)機(jī)構(gòu)(46，52，51)，其特征在于所述裝料裝置(9)設(shè)置在所述設(shè)備(1)內(nèi)，使得可以向所述坩堝(43)提供所述至少一種固態(tài)材料。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述設(shè) 備(1)包括用來熔化所述至少一種材料的第一坩堝(43)和用來蒸發(fā)所 述至少一種材料的第二坩堝(50)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述第 一坩堝(43)經(jīng)由輸送裝置(49)與所述第二坩堝(50)相連接。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所 述第一坩堝(43)設(shè)置到用于冷卻所述至少一種材料的所述至少一個(gè)機(jī)構(gòu)(46)上。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所 述第二坩堝(50)設(shè)置到用于冷卻所述至少一種材料的所述至少一個(gè)機(jī)構(gòu)(51)上。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1到3中任意一項(xiàng)所述的真空蒸發(fā)設(shè)各(1)，其特 征在于，所述輸送裝置(49)設(shè)置到用于冷卻所述至少一種材料的所述至 少一個(gè)機(jī)構(gòu)(52)上。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，輸送系 統(tǒng)(41， 42)設(shè)置在所述坩堝(43)與所述裝料裝置(9)之間。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述輸 送系統(tǒng)(41， 42)包括饋送器(48)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述裝 料裝置(9)包括裝料閥(14)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述坩堝(50)包括加熱器。
11. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述坩 堝(43)包括加熱器。
12. 根據(jù)權(quán)利要求3所述'的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述輸 送裝置(49)包括加熱器。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述用 于冷卻所述至少一種材料的所述機(jī)構(gòu)(51， 52)包括至少一個(gè)管道(57， 58， 59， 60)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述 用于冷卻所述至少一種材料的所述機(jī)構(gòu)(51， 52)是管道系統(tǒng)。
15. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所 述饋送器(48)和所述閥(14)構(gòu)造了用于將所述坩堝(43， 50)中的填 充幅度的變化保持到最小的控制系統(tǒng)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求10、 11或12所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在 于，所述加熱器是電阻加熱器。
17. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述 加熱器是電感器。
18. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述 坩堝(43)是由導(dǎo)熱油加熱的。
19. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，所述至 少一種材料是硒。
20. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，用于冷 卻所述至少--種材料的所述至少一個(gè)機(jī)構(gòu)(46， 52， 51)也同樣用于加熱 所述至少一種材料。
21. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)設(shè)備(1)，其特征在于，用于冷 卻的所述機(jī)構(gòu)(46， 52， 51)是快速關(guān)閉裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于蒸發(fā)固態(tài)材料(例如硒)的設(shè)備，其中固態(tài)材料用于給襯底鍍膜。固態(tài)材料通過饋送源進(jìn)入第一坩堝。在該坩堝中，材料在優(yōu)選地略微大于其熔點(diǎn)的溫度下熔化。熔化的材料經(jīng)由輸送裝置(例如為管道)流動(dòng)到第二坩堝中，材料在第二坩堝中以大于其沸點(diǎn)的溫度蒸發(fā)并且傳輸?shù)揭r底上。為了在非常短的時(shí)間(優(yōu)選為一到兩分鐘)內(nèi)停止蒸發(fā)，用于在熔點(diǎn)之上冷卻材料的冷卻裝置布置在輸送裝置中。通過該冷卻裝置，在輸送裝置中的材料可以在其熔點(diǎn)之上在非常短的時(shí)間內(nèi)冷卻下來。
文檔編號(hào)C23C14/26GK101688290SQ200880023385
公開日2010年3月31日 申請日期2008年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月19日
發(fā)明者博爾德·邁耶爾, 邁克爾·斯沙斐爾 申請人:應(yīng)用材料公司