專利名稱：一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及鍍膜設(shè)備，尤其涉及一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，為監(jiān)控制造的正常運行，現(xiàn)通常通過掃描電子顯微鏡
(SEM)檢測樣品來對半導(dǎo)體器件的表面形貌或膜厚進行檢測，為確保樣品的SEM 圖像清晰，其在設(shè)置SEM上進行測量前通常會在樣品的斷面上形成一鉑層來增 加樣品的導(dǎo)電能力?，F(xiàn)通常在鍍金機(即磁控濺射鍍膜機)中來在樣品斷面上 形成鉑層，該鍍金機具有一鍍膜腔，該鍍膜腔中具有用于置放工件的工件臺、 用于設(shè)置靶材的靶極和一直流電源，該鍍金才幾還具有一在耙極與工件臺間產(chǎn)生 一正交磁場和電場的場產(chǎn)生模塊以及等離子體產(chǎn)生模塊，該工件臺與該直流電 源的陽極或地電性連接，該靶極與該直流電源的陰極電性連接。當(dāng)在鍍金機中 對樣品斷面進行鍍鉑時，首先將樣品設(shè)置在工件臺上且需鍍鉑的斷面正對靶極， 然后將鉑靶材設(shè)置在靶極上，此后關(guān)閉反應(yīng)腔，該鍍金機即開始鍍鉑。
上述鉑靶材的造價非常昂貴，但每次在樣品的斷面上鍍鉑時，只有鍍在斷 面上的柏才有效，鍍在工件臺其他區(qū)域的鉑都被浪費了，如果能將工件臺其他 區(qū)域的鉑再作為靶材，將會極大地降低鍍金機的運作成本。
因此，如何提供一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備以回收利用鍍在工件臺非 樣品斷面區(qū)的鍍膜，并大大降低賊射鍍膜設(shè)備的運作成本，已成為業(yè)界亟待解 決的技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備，通過所述設(shè) 備可回收利用鍍在工件臺非工件區(qū)的鍍膜，大大降低'減射鍍膜設(shè)備的成本。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的 一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備，用于
3對工件進行鍍膜，該賊射鍍膜設(shè)備具有一鍍膜腔，該鍍膜腔中具有用于置放工 件的第一工件臺、用于設(shè)置靶材的靶極和一直流電源，該第一工件臺與該直流 電源的陽極或地電性連接，該耙極與該直流電源的陰極電性連接，該濺射鍍膜 設(shè)備還具有一第二工件臺，該第二工件臺正面具有用于夾持工件的夾持縫，該 第二工件臺設(shè)置并電性連接在該第一工件臺上且其正面正對靶極時，工件設(shè)置
在夾持縫中進行鍍膜，該第二工件臺設(shè)置并電性連接在靶極上且其正面正對第 一工件臺時，工件設(shè)置在該第一工件臺上進行鍍膜。 ，
在上述的可降低成本的'踐射鍍膜設(shè)備中，該第二工件臺具有中心連接件、 分別連接在該中心連接件兩側(cè)的第 一側(cè)連件和第二側(cè)連件，該中心連接件兩側(cè) 靠近背面的區(qū)域?qū)ΨQ設(shè)置有多個水平螺柱，該第一和第二側(cè)連件分別對應(yīng)中心 連接件每側(cè)的水平螺柱開設(shè)有相同數(shù)量個通孔。
在上述的可降低成本的賊射鍍膜設(shè)備中，該中心連接件兩側(cè)的水平螺柱分 別穿過其對應(yīng)的通孔后，通過配套的螺母與該水平螺柱旋合而將第一和第二側(cè) 連件固定在該中心連^J妄件兩側(cè)。
在上述的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備中，該工件為需進行掃描電子顯微鏡 檢測的樣品。
在上述的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備中，該第二工件臺上具有兩夾持縫，
其分別為45度夾持縫和90度夾持縫，該45度夾持縫由中心連接件和第一側(cè)連 件靠近正面的相對面組成，該90度夾持縫由中心連接件和第二側(cè)連件靠近正面 的相對面組成。
在上述的可降低成本的賊射鍍膜設(shè)備中，該濺射鍍膜設(shè)備為磁控濺射鍍膜機。
與現(xiàn)有技術(shù)中無法對工件外區(qū)域上的鍍膜進行回收利用相比，本實用新型 的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備除具有第一工件臺外，還設(shè)置了即可用于放置工 件進行鍍膜又可設(shè)置在靶極上充當(dāng)靶材的第二工件臺，當(dāng)?shù)诙ぜ_設(shè)置并電 性連接在第一工件臺上后，將工件設(shè)置在該第二工件臺上進行鍍膜，當(dāng)?shù)诙?件臺設(shè)置并電性連接在靶極上后，其用于充當(dāng)靶材，工件設(shè)置在第一工件臺上 進行鍍膜，如此可將沉積在第二工件臺上的鍍膜特別是貴重金屬薄膜進行回收 利用，降低了濺射鍍膜設(shè)備的成本。

本實用新型的可降低成本的濺射 設(shè)備由以下的實施例及附圖給出。
圖1為本實用新型的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備的組成結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為圖1中第二工件臺的分解結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為圖1中第二工件臺的組裝結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為圖2中的A-A向剖一見圖； 圖5為圖3中的B-B向剖視圖6為第二工件臺可夾持工件時圖3中的B-B向剖視圖。
具體實施方式

以下將對本實用新型的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備作進一步的詳細(xì)描述。
參見圖1，本實用新型的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備用于對工件進行鍍膜， 其具有一反應(yīng)腔1,所述反應(yīng)腔1具有第一工件臺10、第二工件臺11、耙極12、 直流電源13、場產(chǎn)生模塊14、等離子體產(chǎn)生模塊15。第一工件臺10用于置放 工件或第二工件臺11，第二工件臺11即可設(shè)置在第一工件臺IO上用于置放工 件，也可設(shè)置在耙極12上充當(dāng)靶材。第一工件臺IO與所述直流電源13的陽極 或地電性連接，所述耙極12與所述直流電源13的陰極電性連接。在本實施例 中，所述濺射鍍膜設(shè)備為磁控濺射鍍膜機，所述工件為需進行掃描電子顯微鏡 檢測的樣品，所述第一工件臺IO與地電性連接。
以下將結(jié)合圖2至圖5來詳述第二工件臺11的結(jié)構(gòu)，如圖所示，所述第二 工件臺11具有中心連才矣件110、分別連接在所述中心連4矣件110兩側(cè)的第一側(cè) 連件111和第二側(cè)連件112，所述中心連接件110兩側(cè)靠近背面的區(qū)域?qū)ΨQ設(shè)置 有水平螺柱110a、 110b和110c,該水平螺柱110a、 110b和110c頂端具有螺紋 段。所述第 一側(cè)連件111對應(yīng)中心連接件110左側(cè)的水平螺柱110a 、 110b和110c 開設(shè)有三個通孔111a、lllb和lllc，所述第二側(cè)連件112也對應(yīng)中心連接件110 右側(cè)的水平螺柱110a、 110b和110c開設(shè)有三個通孔。
當(dāng)需將圖2中所示的第二工件臺11的各組成部分組裝起來時，需將中心連 接件110左右兩側(cè)的水平螺柱110a、 110b和110c分別穿過第一側(cè)連件111和第二側(cè)連件112上對應(yīng)的通孔，所述水平螺柱110a、 110b和110c的長度需確 保其穿過通孔后能露出其頭部的螺紋段，然后通過配套的螺母113與所述螺紋 段旋合而將第一和第二側(cè)連件111、 112固定在所述中心連接件110兩側(cè)。組裝 好的第二工件臺11如圖3所示。此時還可以通過螺母113與螺鄉(xiāng)丈段旋和的長度 來調(diào)節(jié)中心連接件110與第一側(cè)連件111和第二側(cè)連件112間的間距，當(dāng)?shù)诙?工件臺11設(shè)置并電性連接在靶材12上充當(dāng)靶材時，需將中心連接件110與第 一側(cè)連件111和第二側(cè)連件112間的間距調(diào)整為如圖5所示的零間距，當(dāng)?shù)诙?工件臺ll設(shè)置并電性連接在第一工件臺10上置;^文工件時，需在中心連接件IIO 與第一側(cè)連件111和第二側(cè)連件112間調(diào)整出如圖6所示的45度夾持縫114和 90度夾持縫115，所述45度夾持縫114由中心連接件110和第一側(cè)連件111靠 近正面的相對面組成，所述90度夾持縫115由中心連接件110和第二側(cè)連件靠 近正面的相對面《且成。
以下以使用本實用新型在需進行掃描電子顯微鏡檢測的樣品的斷面上鍍柏 來詳述本實用新型的原理和功效，首先將第二工件臺ll設(shè)置并電性連接在所述 第一工件臺10上且其正面朝上并正對靶極12，樣品設(shè)置在如圖6所示的45度 夾持縫114和/或90度夾持縫115中；然后將鉑靶材設(shè)置在靶極12上，之后關(guān) 閉反應(yīng)腔1并開啟場產(chǎn)生模塊14在耙極12和工件臺11間產(chǎn)生正交》茲場和電場， 接著等離子體產(chǎn)生模塊15產(chǎn)生的等離子體在正交磁場和電場的驅(qū)動下撞擊鉑靶 材，從而形成游離態(tài)的鉑，鉬在直流電源13的驅(qū)動下沉積在第二樣品臺11上 (包括樣品的斷面上)。在一個鉑靶材使用完時，使第二工件臺ll脫離第一工 件臺10且將第二工件臺11的中心連接件110與第一側(cè)連件111和第二側(cè)連件 112間的間距調(diào)整為如圖5所示的零間距，然后將第二工件臺ll設(shè)置并電性連 接在靶極12上且其正面正對第一工件臺10,鍍膜樣品設(shè)置在所述第一工件臺 IO上并依照上述步驟進行鍍鉑。如此可對沉積在第二工件臺11上的鉑進行回收 利用，大大降低了成本。
綜上所述，本實用新型的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備除具有第一工件臺外， 還設(shè)置了即可用于放置工件進行鍍膜又可設(shè)置在靶極上充當(dāng)耙材的第二工件 臺，當(dāng)?shù)诙ぜ_設(shè)置并電性連接在第一工件臺上后，將工件設(shè)置在所述第二 工件臺上進行鍍膜，當(dāng)?shù)诙ぜ_設(shè)置并電性連接在靶極上后，其用于充當(dāng)靶材，工件設(shè)置在第一工件臺上進行鍍膜，如此可將沉積在第二工件臺上的鍍膜 特別是貴重金屬薄膜進行回收利用，降低了濺射鍍膜設(shè)備的成本。
權(quán)利要求1、一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備，用于對工件進行鍍膜，該濺射鍍膜設(shè)備具有一鍍膜腔，該鍍膜腔中具有用于置放工件的第一工件臺、用于設(shè)置靶材的靶極和至少一直流電源，該第一工件臺與該直流電源的陽極或地電性連接，該靶極與該直流電源的陰極電性連接，其特征在于，該濺射鍍膜設(shè)備還具有一第二工件臺，該第二工件臺正面具有用于夾持工件的夾持縫，該第二工件臺設(shè)置并電性連接在該第一工件臺上且其正面正對靶極時，工件設(shè)置在該夾持縫中進行鍍膜，該第二工件臺設(shè)置并電性連接在靶極上且其正面正對第一工件臺時，工件設(shè)置在該第一工件臺上進行鍍膜。
2、 如權(quán)利要求1所述的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，該第二 工件臺具有中心連接件、分別連接在該中心連接件兩側(cè)的第一側(cè)連件和第二側(cè) 連件，該中心連接件兩側(cè)靠近背面的區(qū)域?qū)ΨQ設(shè)置有多個水平螺柱，該第一和 第二側(cè)連件分別對應(yīng)中心連接件每側(cè)的水平螺柱開設(shè)有相同數(shù)量個通孔。
3、 如權(quán)利要求2所述的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，該中心 連接件兩側(cè)的水平螺柱分別穿過其對應(yīng)的通孔后，通過配套的螺母與該水平螺 柱旋合而將第 一和第二側(cè)連件固定在該中心連接件兩側(cè)。
4、 如權(quán)利要求1所述的可P爭低成本的濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，該工件 為需進行掃描電子顯微鏡檢測的樣品。
5、 如權(quán)利要求4所述的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，該第二 工件臺上具有兩夾持縫，其分別為45度夾持縫和90度夾持縫，該45度夾持縫 由中心連接件和第一側(cè)連件靠近正面的相對面組成，該90度夾持縫由中心連接 件和第二側(cè)連件靠近正面的相對面組成。
6、 如權(quán)利要求1所述的可P爭低成本的濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，該濺射 鍍膜設(shè)備為磁控濺射鍍膜機。
專利摘要本實用新型提供了一種可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備?，F(xiàn)有技術(shù)中濺射鍍膜設(shè)備在鍍膜時除工件上的鍍膜外其它區(qū)域的鍍膜都被浪費且無法回收利用，增加了其成本。本實用新型的可降低成本的濺射鍍膜設(shè)備具有一鍍膜腔，該鍍膜腔中具有第一、第二工件臺、靶極和直流電源，該第一工件臺與該直流電源的陽極或地電性連接，該靶極與該直流電源的陰極電性連接，該第二工件臺正面具有用于夾持工件的夾持縫，當(dāng)其設(shè)置并電性連接在該第一工件臺上且其正面正對靶極時，鍍膜工件設(shè)置在夾持縫中進行鍍膜，當(dāng)其設(shè)置并電性連接在靶極上且其正面正對第一工件臺時，鍍膜工件設(shè)置在該第一工件臺上進行鍍膜。本實用新型可回收利用鍍膜，并可大大降低濺射鍍膜設(shè)備的成本。
文檔編號C23C14/34GK201162041SQ20082005451
公開日2008年12月10日 申請日期2008年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月7日
發(fā)明者鴻 張, 珠 朱, 梁山安, 羅旖旎 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司