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一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置的制造方法

文檔序號:10101964閱讀:446來源:國知局
一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電子產(chǎn)品ΙΤ0鍍膜加工生產(chǎn)設(shè)備,尤其是一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有ΙΤ0真空濺射鍍膜基片裝夾裝備,形式多樣,有鑲嵌式的,有開放式的。開放式的,結(jié)構(gòu)簡單,裝夾基片方便,通用性強(qiáng),造價(jià)便宜,但是鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量受影響,不能生產(chǎn)高品質(zhì)產(chǎn)品;鑲嵌式的,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,裝夾基片稍難,產(chǎn)品的質(zhì)裝夾基片方便量有保證,但是通用性差,每種產(chǎn)品要對應(yīng)一套,造價(jià)昂貴;不論鑲嵌式的還是開放的,目前都不做到單面和雙面鍍膜的通用性,都需要兩套裝夾裝備;鑒于上述原因,ΙΤ0真空濺射鍍膜基片裝夾裝備的鑲嵌式的,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,裝夾基片稍難,單面和雙面鍍膜需要兩套裝夾裝備,需要改進(jìn)鑲嵌式真空濺射鍍膜基片裝夾裝備,現(xiàn)發(fā)明出一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有ΙΤ0真空濺射鍍膜基片裝夾裝備的鑲嵌式的,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,裝夾基片稍難,單面和雙面鍍膜需要兩套裝夾裝備,需要改進(jìn)鑲嵌式真空濺射鍍膜基片裝夾裝備,通過合理設(shè)計(jì),提供一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置,特殊設(shè)計(jì)的橫梁通過連接片固定到豎梁上,彈性夾具通過螺釘連接到橫梁上,單面產(chǎn)品或雙面產(chǎn)品,徒手固定在彈性夾具上;單面和雙面產(chǎn)品,裝夾裝備兼容,不同規(guī)格的產(chǎn)品,只要移動橫梁,并重新固定,便可使用;橫梁上下的擋片和基片之間的適當(dāng)間距,可以防止繞射,生產(chǎn)的效率高。
[0004]本實(shí)用新型為了實(shí)現(xiàn)上述目的,采用如下技術(shù)方案:一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置,是由:雙面基片、雙面下彈性卡、雙面上彈性卡、橫梁、豎梁、單面上彈性卡、單面下彈性卡、單面基片構(gòu)成;如圖所示,豎梁一側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁,橫梁設(shè)置為十字型,十字型橫梁兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;中部橫梁上面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面下彈性卡、上方橫梁下面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面上彈性卡,雙面上彈性卡與雙面下彈性卡的卡頭對應(yīng)設(shè)置,雙面下彈性卡與雙面上彈性卡之間設(shè)置雙面基片;上方橫梁下面與中部橫梁上面設(shè)置一組雙面上彈性卡與雙面下彈性卡;上方橫梁的側(cè)梁下方對稱設(shè)置兩個(gè)單面上彈性卡、中部橫梁的側(cè)梁上面對稱設(shè)置兩個(gè)單面下彈性卡,單面上彈性卡與單面下彈性卡的卡頭對應(yīng)設(shè)置,單面上彈性卡與單面下彈性卡之間設(shè)置單面基片;豎梁一側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁,上下相鄰兩根橫梁之間對應(yīng)基片的規(guī)格設(shè)置,兩根橫梁之間設(shè)置雙面基片;橫梁設(shè)置為十字型,十字型橫梁兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;同一側(cè)的兩根橫梁側(cè)梁之間設(shè)置單面基片。
[0005]有益效果:單面或雙面鍍膜共用一套裝夾裝備,通用性強(qiáng);更換產(chǎn)品品種,方便快捷;徒手快速裝卸基片,減少人力資源的使用;解決繞射問題,可以生產(chǎn)低阻高檔產(chǎn)品;結(jié)構(gòu)簡單,加工容易,造價(jià)便宜,永久使用。
[0006]本實(shí)用新型的豎梁是和移動小車是一體的,特殊設(shè)計(jì)的橫梁通過連接片固定到豎梁上,彈性夾具通過螺釘連接到橫梁上,單面產(chǎn)品或雙面產(chǎn)品,徒手固定在彈性夾具上;單面和雙面產(chǎn)品,裝夾裝備兼容,不同規(guī)格的產(chǎn)品,只要移動橫梁,并重新固定,便可使用;橫梁上下的擋片和基片之間的適當(dāng)間距,可以防止繞射。
【附圖說明】
[0007]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明:
[0008]圖1是,總裝結(jié)構(gòu)示意圖;
[0009]圖2是,側(cè)視剖面結(jié)構(gòu)示意圖;
[0010]圖3是,安裝雙面基片的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0011]圖4是,安裝單面基片結(jié)構(gòu)示意圖;
[0012]圖1、2、3、4中:雙面基片1、雙面下彈性卡2、雙面上彈性卡3、橫梁4、豎梁5、單面上彈性卡6、單面下彈性卡7、單面基片8。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明:
[0014]如圖所示,豎梁5 —側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁4,橫梁4設(shè)置為十字型,十字型橫梁4兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;中部橫梁4上面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面下彈性卡2、上方橫梁4下面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面上彈性卡3,雙面上彈性卡3與雙面下彈性卡2的卡頭對應(yīng)設(shè)置,雙面下彈性卡2與雙面上彈性卡3之間設(shè)置雙面基片1 ;上方橫梁4下面與中部橫梁4上面設(shè)置一組雙面上彈性卡3與雙面下彈性卡2 ;
[0015]上方橫梁4的側(cè)梁下方對稱設(shè)置兩個(gè)單面上彈性卡6、中部橫梁4的側(cè)梁上面對稱設(shè)置兩個(gè)單面下彈性卡7,單面上彈性卡6與單面下彈性卡7的卡頭對應(yīng)設(shè)置,單面上彈性卡6與單面下彈性卡7之間設(shè)置單面基片8 ;
[0016]豎梁5 —側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁4,上下相鄰兩根橫梁4之間對應(yīng)基片的規(guī)格設(shè)置,兩根橫梁4之間設(shè)置雙面基片1 ;橫梁4設(shè)置為十字型,十字型橫梁4兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;同一側(cè)的兩根橫梁4側(cè)梁之間設(shè)置單面基片8。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置,是由:雙面基片(1)、雙面下彈性卡(2)、雙面上彈性卡(3)、橫梁(4)、豎梁(5)、單面上彈性卡¢)、單面下彈性卡(7)、單面基片(8)構(gòu)成;其特征在于:如圖所示,豎梁(5) —側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁(4),橫梁(4)設(shè)置為十字型,十字型橫梁(4)兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;中部橫梁(4)上面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面下彈性卡(2)、上方橫梁(4)下面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面上彈性卡(3),雙面上彈性卡(3)與雙面下彈性卡(2)的卡頭對應(yīng)設(shè)置,雙面下彈性卡(2)與雙面上彈性卡(3)之間設(shè)置雙面基片(1);上方橫梁(4)下面與中部橫梁(4)上面設(shè)置一組雙面上彈性卡(3)與雙面下彈性卡(2)。2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置,其特征在于:上方橫梁(4)的側(cè)梁下方對稱設(shè)置兩個(gè)單面上彈性卡¢)、中部橫梁(4)的側(cè)梁上面對稱設(shè)置兩個(gè)單面下彈性卡(7),單面上彈性卡(6)與單面下彈性卡(7)的卡頭對應(yīng)設(shè)置,單面上彈性卡(6)與單面下彈性卡(7)之間設(shè)置單面基片(8)。3.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置,其特征在于:豎梁(5)一側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁(4),上下相鄰兩根橫梁(4)之間對應(yīng)基片的規(guī)格設(shè)置,兩根橫梁(4)之間設(shè)置雙面基片(1);橫梁(4)設(shè)置為十字型,十字型橫梁(4)兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;同一側(cè)的兩根橫梁(4)側(cè)梁之間設(shè)置單面基片(8)。
【專利摘要】一種真空濺射鍍膜基片的裝夾裝置,是由:豎梁一側(cè)設(shè)置至少兩根橫梁,橫梁設(shè)置為十字型,十字型橫梁兩側(cè)分別設(shè)置側(cè)梁;中部橫梁上面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面下彈性卡、上方橫梁下面對稱設(shè)置兩個(gè)雙面上彈性卡,雙面下彈性卡與雙面上彈性卡之間設(shè)置雙面基片;上方橫梁下面與中部橫梁上面設(shè)置一組雙面上彈性卡與雙面下彈性卡;上方橫梁的側(cè)梁下方對稱設(shè)置兩個(gè)單面上彈性卡、中部橫梁的側(cè)梁上面對稱設(shè)置兩個(gè)單面下彈性卡,單面上彈性卡與單面下彈性卡之間設(shè)置單面基片;單面或雙面鍍膜共用一套裝夾裝備,通用性強(qiáng);更換產(chǎn)品品種,方便快捷;解決繞射問題,可以生產(chǎn)低阻高檔產(chǎn)品;結(jié)構(gòu)簡單,造價(jià)便宜,永久使用。
【IPC分類】C23C14/50
【公開號】CN205011833
【申請?zhí)枴緾N201520668550
【發(fā)明人】王新, 牛建國
【申請人】洛陽新兆電子有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年8月23日
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