專利名稱：鑄型的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鑄型，特別是涉及一種可以防止熔融金屬漏至一分型面 的鑄型，該分型面為一形成于一上鑄型和一下鑄型之間的重疊面，定量的熔 融金屬由該分型面被注入下鑄型中，而后上鑄型被適配于該分型面之上。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)意義上，在通過控制熔融金屬的流動(dòng)以及抑制任何雜質(zhì)及氣體被混 入產(chǎn)品之中以獲得良好的鑄件的過程中，提供一個(gè)與鑄件的形狀沒有任何關(guān) 系的被稱為澆注系統(tǒng)的熔融金屬的通道在鑄型制造中被認(rèn)為是必不可少的 (見例如非專利公開文件1)。然而，澆注系統(tǒng)往往降低了鑄件的產(chǎn)率。甚者， 在粉碎鑄型之后還需要移除該澆注系統(tǒng)。因此，該澆注系統(tǒng)往往對鑄件的產(chǎn) 率和成本效率產(chǎn)生不利影響。
因此，為了提高鑄件的產(chǎn)率，提出了以下的鑄造方法該方法采用一下
鑄型和一上鑄型，該下鑄型為一可由多種鑄型制造方法制造而得的主鑄型，
并且不具有澆注系統(tǒng)，而只具有一個(gè)鑄件澆注所需的型腔；該上鑄型為一可
由多種鑄型制造方法制造而得的主鑄型，并且不具有供澆注系統(tǒng)使用的型
腔，但具有一個(gè)能夠形成鑄件澆注所需的型腔的凸起部。在該鑄件鑄造方法
中，當(dāng)僅供鑄件澆注的熔融金屬被注入下鑄型的型腔中以后，下鑄型的凸起
部被伸入該被熔融金屬充填的型腔中，以形成鑄造鑄件所需的型腔，隨后， 上鑄型疊置于下鑄型之上。
本發(fā)明的鑄造方法中，公開了一種不再需要從鑄件中移除在基于澆注系 統(tǒng)的方法中使用的澆注系統(tǒng)及澆道等結(jié)構(gòu)的下鑄型和上鑄型。在該方法中， 該下鑄型為一可由多種鑄型制造方法制造而得的主鑄型，并且不具有供澆注
4系統(tǒng)使用的型腔，而只具有一個(gè)鑄造鑄件用的型腔；該上鑄型為一可由多種
鑄型制造方法制造而得的主鑄型，并不具有供澆注系統(tǒng)使用的型腔，而只具 有一個(gè)與下鑄型的型腔結(jié)合使用以形成一個(gè)鑄件澆注所需的型腔的凸起部。 另外，該方法還公開了一個(gè)增加的溢流空腔，g卩， 一個(gè)鑄件所需的型腔。通 過增加該溢流型腔，使得鑄造鑄件所需的熔融金屬的量容許一定偏差。 非專利公開文件1
Nihon Chuzou Kogakukai (日本鑄造工程協(xié)會(huì)) 圖解鑄造辭典，第一版
由日本NikkanKogyo Sinbunsha,出版，出版日期1995年11月30日，第 212頁，澆注系統(tǒng)，以及
公開專利l:已公開的專利申請JP2005-5287
發(fā)明內(nèi)容
然而，在上述的鑄造方法中的將上鑄型疊置于下鑄型之上的過程(之后， 加壓過程)中，被注入下鑄型的熔融金屬的量并不總是等于所需的數(shù)量。因 此，根據(jù)澆注設(shè)備的精度，可能會(huì)有一部分熔融金屬未被使用。并不是所有 未被使用的熔融金屬都流進(jìn)了如公開專利1所述的溢流空腔中。其中一些可 能會(huì)漏至下鑄型的分型面上。漏出的熔融金屬可能會(huì)形成毛刺。這會(huì)導(dǎo)致在 隨后的步驟中增加移除毛刺的過程。如果熔融金屬大量漏出，則可能會(huì)形成 加壓過程中的異物，這會(huì)導(dǎo)致難以對上下鑄型進(jìn)行徹底的加壓。
基于上述問題，本發(fā)明旨在提供一種能夠防止熔融金屬漏至分型面，并 且能夠同時(shí)防止熔融金屬流出鑄型的鑄型。
本發(fā)明的鑄型包括
一下鑄型，該下鑄型包括一具有產(chǎn)品形狀的凹部，鑄造鑄件所需量的熔 融金屬被注入該凹部中；以及，
一上鑄型，該上鑄型包括一具有鑄件形狀的凸部，當(dāng)該上鑄型疊置于該下鑄型之上時(shí)，形成一鑄造鑄件所需的型腔；
其中，形成有一個(gè)使得下鑄型的一壓配部與上鑄型的一壓配部之間留有 一定的間距的結(jié)構(gòu)，以防止在鑄件鑄造中熔融金屬漏至上下鑄型疊置時(shí)形成 的一分型面上。
本發(fā)明的有益效果在于
在本發(fā)明中，形成有使得下鑄型的壓配部與上鑄型的壓配部之間留有一 定的間距，以防止熔融金屬泄漏的結(jié)構(gòu)。由于該結(jié)構(gòu)，熔融金屬的動(dòng)能被降 低。這防止了多余的熔融金屬漏至分型面上，并且防止了熔融金屬在加壓過 程中漏出鑄型。這也就相應(yīng)地減少了鑄件的毛刺。另外，由于在加壓過程中， 多余的熔融金屬不太可能再形成異物，因此，由加壓失敗導(dǎo)致的不合格產(chǎn)品 也將減少。


圖1為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中的鑄型的下鑄型和上鑄型的垂直截面圖。 圖2為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中的鑄件的垂直截面圖。
圖3為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中的鑄件的平面圖。
圖4為圖1所示的包括下鑄型及疊置于下鑄型之上的上鑄型的鑄型的垂
直截面圖。
圖5為凝固于間距中的金屬的示意圖。
圖6為包括下鑄型，以及其中形成有一個(gè)溢流空腔并且疊置于下鑄型之 上的上鑄型的鑄型的垂直截面圖。
圖7為多余的金屬被圖6所示的溢流空腔吸收的狀態(tài)示意圖。
圖8為本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中包括下鑄型及疊置于下鑄型之上的上鑄 型的鑄型的垂直截面圖。
圖9為圖8所示的包括下鑄型，以及其中形成有一個(gè)溢流空腔并且疊置 于下鑄型之上的上鑄型的鑄型的垂直截面圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的鑄型包括
一下鑄型，該下鑄型包括一凹部，鑄造鑄件所需量的熔融金屬被注入該 凹部中；以及，
一上鑄型，該上鑄型包括一具有產(chǎn)品形狀的凸部，當(dāng)該上鑄型疊置于該 下鑄型之上時(shí)，該凸部形成一鑄造鑄件所需的型腔。
該上鑄型和下鑄型可以通過多種鑄型制造方法被適當(dāng)?shù)刂圃?，例如，?砂制造法、殼模制造法、冷芯盒制造過程、自硬性制造法等等。本發(fā)明的鑄 型可以包括一個(gè)型芯。本發(fā)明的鑄型還可以包括一個(gè)永久鑄型。本發(fā)明的鑄 型制造方法不僅僅局限于壓實(shí)成型、吹砂壓實(shí)成型、空氣流動(dòng)以及加壓成型， 或者上述方法的結(jié)合，另外還包括切割成型、澆注成型等等。鑄件為具有諸 如澆道、流道、內(nèi)澆口等澆注系統(tǒng)以及諸如冒口、溢流排氣口等澆注系統(tǒng)的 產(chǎn)品，當(dāng)砂箱被抖出后，上述澆注系統(tǒng)被從由鑄型中取出的成型材料中移除， 以使得上述產(chǎn)品可以作為一個(gè)最終部件或組件被配置或安裝至機(jī)器上，或是 作為諸如圓形制動(dòng)鼓或方形盒等的獨(dú)立產(chǎn)品被商業(yè)銷售。上述熔融金屬為熔 融狀態(tài)的能夠被澆注進(jìn)鑄型的黑色金屬或有色金屬。
下面基于附圖對本發(fā)明的鑄型進(jìn)行說明。如圖l-4所示，根據(jù)本發(fā)明的 一個(gè)實(shí)施例的鑄型包括一下鑄型5，該下鑄型5為一在砂箱2中通過濕砂制 造法由濕砂1成型而得的主鑄型。該下鑄型包括一具有產(chǎn)品形狀的凹部4， 鑄造鑄件所需量的熔融金屬3被注入該凹部中。該鑄型具有一上鑄型15，該 上鑄型15為一在砂箱12中通過濕砂制造法由濕砂11成型而得的主鑄型， 該上鑄型包括一具有產(chǎn)品形狀的凸部14，該凸部14形成一鑄造鑄件W所需 的型腔。
該鑄型形成有一個(gè)使得下鑄型5的壓配部Fl與上鑄型15的壓配部F2 之間留有一定的間距(空隙)的結(jié)構(gòu)A，以防止在鑄件鑄造中疊置下鑄型5和上鑄型15時(shí)，熔融金屬漏至由下鑄型5的分型面Pla和上鑄型15的分型 面P2a形成的分型面Pa上。
用于防止熔融金屬的泄漏的結(jié)構(gòu)A包括 一凸起的壓配部6，其從分型 面Pla伸出，并沿著下鑄型5的凹部4的外周面延伸； 一形成于上鑄型15 上的槽部16，該槽部16與凸起的壓配部6相配合。因此，根據(jù)本發(fā)明的該 實(shí)施例，壓配部Fl和F2即分別為凸起的壓配部6和槽部16。該一定的間 距(空隙)為位于凸起的壓配部6的側(cè)面6a與槽部16的側(cè)面16a之間的沿 水平方向的間距31，其中該側(cè)面16a為設(shè)置于上鑄型15的凸部14的外周面 附近的一壓配部17的側(cè)面， 一間距52沿水平方向且位于凸起的壓配部6的 另一個(gè)側(cè)面6c與槽部16的另一個(gè)側(cè)面16c之間， 一間距S3沿垂直方向且 位于凸起的壓配部6的頂面6b與槽部16的底面16b之間。這些間距被設(shè)置 在0.1mm到4.0mm的范圍內(nèi)。這是因?yàn)槿绻撻g距小于O.lmm，則上鑄型 5與下鑄型15可能會(huì)相互接觸。而如果該間距大于4.0mm，則如圖5所示， 當(dāng)移除固化于該間距中的金屬S時(shí)， 一鑄件W可能會(huì)被一不良鑄件所影響。 將該間距設(shè)置為大于上述范圍的值是不理想的。該凸起的壓配部6并不局限 于任何特定的形狀，只要其形狀能夠?qū)a(chǎn)品沿著其周面包圍即可，也可以具 有一方形的外周面，等等。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，該凸起的壓配部6為 圓形(環(huán)形)。如圖2和圖3所示，當(dāng)鑄件W的周面為圓形時(shí)，該形狀能夠 最為有效地防止熔融金屬的泄漏。然而，相互間隔有一狹窄間距的多個(gè)銷， 或者相互間隔設(shè)置并形成一環(huán)形的多個(gè)月牙槽，均可以取代該圓形(環(huán)形) 的形狀。
根據(jù)本發(fā)明，如果凸起的壓配部6和槽部16的形式(例如，形狀和維 度)在加壓過程中具有防止多余的熔融金屬漏至分型面Pa的功能性，貝U凸 起的壓配部6和槽部16的形狀不必被局限于任何特定形狀，其中，分型面 Pa為由疊置的上鑄型和下鑄型形成的一個(gè)平面。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中， 凸起的壓配部6和槽部16的形狀被設(shè)置為接近矩形。它們的垂直于下鑄型5的分型面Pla和上鑄型15的分型面P2a的截面形狀可以包括方形、梯形等等。這樣形成的結(jié)構(gòu)能夠防止多余的熔融金屬3漏至分型面Pa，因?yàn)槿廴诮饘?可以通過由疊置的上鑄型15和下鑄型5形成的間距Sl-53，上升至上鑄型，或者迂回流動(dòng)。然而，當(dāng)熔融金屬上升(迂回)至上鑄型時(shí)，其動(dòng)能被降低，由此其向分型面的泄漏就被輕易地阻止了。
凸起的壓配部6的從分型面Pla測量起的高度，以及槽部16的從分型面P2a測量起的深度被設(shè)置為在5mm到50mm之間，同時(shí)，確保位于下鑄型5的壓配部Fl和上鑄型15的壓配部F2之間的間距Sl、 S2和S3中的每一個(gè)都大小適宜。這是因?yàn)槿绻叨群蜕疃染∮?mm，則需要擔(dān)心熔融金屬3可能會(huì)通過間距51、 32和33并且可能會(huì)漏至分型面Pa。那樣的高度不足以降低熔融金屬3的動(dòng)能。如果高度和深度均大于50mm，則在對凸起的壓配部和槽部進(jìn)行造型時(shí)可能會(huì)產(chǎn)生問題。即，如果鑄型材料未被恰當(dāng)?shù)爻涮钸M(jìn)這些區(qū)域，則凸起的壓配部和槽部的凸部附近的區(qū)域或凸起的壓配部和槽部的邊角區(qū)域可能會(huì)強(qiáng)度不足。
另外，在確保位于下鑄型5的壓配部Fl和上鑄型15的壓配部F2之間的間距51、 52和S3的前提下，凸起的壓配部6和槽部16的寬度被設(shè)置為10mm到50mm之間。這是因?yàn)槿绻搶挾刃∮?0mm，則需要擔(dān)心上升的熔融金屬3會(huì)直接通過水平間距并且漏至分型面Pa上。如果該寬度大于50mm，則防止熔融金屬上升并且防止其漏至分型面的效果將會(huì)被由分型面的表面積的減少導(dǎo)致的分型面的強(qiáng)度不足所影響。當(dāng)上下鑄型疊置時(shí)，該強(qiáng)度是必須的。因此，將該寬度設(shè)置為大于50mm是不理想的。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖6所示， 一溢流空腔(型腔)18可以被形成在位于上鑄型15的凸部14的外周面附近的一壓配部17上。形成的該溢流空腔18能夠根據(jù)澆注機(jī)的澆注精度，通過從加壓過程中熔融金屬最終被澆注的區(qū)域吸收未被積極使用的多余的熔融金屬Sl，防止熔融金屬漏至分型面Pa，或者流過分型面Pa并漏出鑄型。根據(jù)多余的熔融金屬的量，可以只設(shè)置一個(gè)溢流空腔18，或者也可以改變該溢流空腔的形狀等等。在本發(fā)
明的該實(shí)施例中，沿壓配部17的周邊等間距地設(shè)置了一共12個(gè)型腔。
每一個(gè)溢流空腔18的開口部18a相對于位于上鑄型15的壓配部17處的鑄件W的分割面17a的面積比率(該面積比率沿鑄件W的厚度方向)最好為1%到20%。這是因?yàn)槿绻撁娣e比率大于20%，則凝固于該溢流空腔之內(nèi)的溢流部將會(huì)變得太厚，以至于需要擔(dān)心在去除該溢流部的時(shí)候鑄件會(huì)被破壞。另外，由于加壓力并不能夠被充分地施加于熔融金屬上，因此在加壓過程中熔融金屬最后到達(dá)的鑄件的邊角區(qū)域處，鑄件可能會(huì)發(fā)生變形。進(jìn)入每個(gè)溢流空腔18的多余的熔融金屬的重量相對于鑄造鑄件W所需的熔融金屬的重量的比率最好為1%到20%。這是因?yàn)槿绻撝亓勘嚷蚀笥?0%，在加壓過程中熔融金屬將被施加過高的壓力，這將導(dǎo)致在鑄件的熔融金屬最終到達(dá)的部分處發(fā)生滲透的問題。
現(xiàn)在將對本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行說明。在上述實(shí)施例中，用于防止熔融金屬的泄漏的結(jié)構(gòu)A包括一個(gè)凸起的壓配部6和一個(gè)槽部16。然而，在本實(shí)施例中，如圖8所示，形成一結(jié)構(gòu)B以防止熔融金屬的泄漏，該結(jié)構(gòu)B具有一個(gè)5mm到50mm的臺階H，該臺階位于以下兩者之間，處于上鑄型31的凸起部32的周邊附近的壓配部33處的鑄件W的一分割面33a，以及處于分割面33a的外周邊處的上鑄型31的分型面P2b。本實(shí)施例中的結(jié)構(gòu)B較結(jié)構(gòu)A要簡單。因此，當(dāng)澆注被精確進(jìn)行，并且熔融金屬的量也被預(yù)先設(shè)定時(shí)，它可以防止分型面上的任何泄漏。該臺階H被設(shè)置在5mm到50mm的范圍內(nèi)。如果H小于5mm，則將由于高度太低不足以降低熔融金屬的動(dòng)能，而導(dǎo)致熔融金屬漏至分型面。如果H大于50mm，根據(jù)鑄件的凹部或凸部的形狀的復(fù)雜性，鑄型的凸部和邊角區(qū)域的強(qiáng)度不足就將會(huì)對鑄件產(chǎn)生不利影響，因此，當(dāng)一個(gè)鑄件具有較高的凸起或者較深的凹部時(shí)，在鑄造鑄件時(shí)鑄造材料可能就不能夠被充分地充填。
與前一個(gè)實(shí)施例相同地，在該實(shí)施例中，在下鑄型21的壓配部F3與上鑄型31的壓配部F4之間設(shè)置有0.1mm到4.0mm的間距。形成了下鑄型21 的一個(gè)分型面P1的本實(shí)施例中的下鑄型21的壓配部F3為其上端(頂端) 部22。上鑄型31的壓配部F4為上鑄型31的一個(gè)壓配部33。該間距(空隙) 沿水平方向，并且位于上端部22的內(nèi)側(cè)面22a與上鑄型31的壓配部33的 壓配側(cè)面33b之間。
在本發(fā)明的該實(shí)施例中，與前一個(gè)實(shí)施例相同地，如圖9所示，在上鑄 型31的壓配部33處形成至少一個(gè)溢流空腔34。
形成于壓配部33處的溢流空腔34的開口部34a相對于位于上鑄型31 的壓配部33處的鑄件W的分割面33a的面積比率最好為1%到20%。
進(jìn)入溢流空腔34的多余的熔融金屬的重量相對于鑄造鑄件所需的熔融 金屬的重量的比率最好為1%到20%。
雖然以上描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理 解，這些僅是舉例說明，在不背離本發(fā)明的原理和實(shí)質(zhì)的前提下，可以對這 些實(shí)施方式做出多種變更或修改。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍由所附權(quán)利要求 書限定。
ii
權(quán)利要求
1、一種鑄型，其包括一下鑄型，該下鑄型包括一具有鑄件形狀的凹部，鑄造鑄件所需量的熔融金屬被注入該凹部中；以及，一上鑄型，該上鑄型包括一具有成型產(chǎn)品形狀的凸部，當(dāng)該上鑄型疊置于該下鑄型之上時(shí)，形成一鑄造鑄件所需的型腔；其中，形成有一個(gè)使得該下鑄型的一壓配部與該上鑄型的一壓配部之間留有一定的間距的結(jié)構(gòu)，以防止在鑄件鑄造中熔融金屬漏至上下鑄型疊置時(shí)形成的一分型面上。
2、 如權(quán)利要求1所述的鑄型，其中在被設(shè)置于該上鑄型的凸部的外周 邊附近的該壓配部上形成有至少一個(gè)熔融金屬的溢流空腔。
3、 如權(quán)利要求1所述的鑄型，其中位于該下鑄型的壓配部和上鑄型的 壓配部之間的該間距在O.lmm到4.0mm的范圍內(nèi)。
4、 如權(quán)利要求1所述的鑄型，其中該凸起的壓配部和槽部的形狀在垂 直于該下鑄型的分型面和上鑄型的分型面的截面處被設(shè)置為近似矩形。5、 如權(quán)利要求1所述的鑄型，其中在確保該下鑄型的壓配部和上鑄型 的壓配部之間設(shè)有該間距的同時(shí)，將該凸起的壓配部從該分型面處測量起的 高度和該槽部從該分型面處測量起的深度設(shè)置在5mm到50mm的范圍內(nèi)。6、 如權(quán)利要求1所述的鑄型，其中在確保該下鑄型的壓配部和上鑄型 的壓配部之間設(shè)有該間距的同時(shí)，將該凸起的壓配部和槽部的寬度設(shè)置在 10mm到50mm的范圍內(nèi)。7、 如權(quán)利要求2所述的鑄型，其中該溢流空腔的一開口部相對于位于 被設(shè)置于該上鑄型的凸部的外周邊附近的該壓配部處的該鑄件的一分割面的面積比率在1%到20%的范圍內(nèi)。8、 如權(quán)利要求2和7所述的鑄型，其中進(jìn)入該溢流空腔的多余的熔融 金屬的重量相對于鑄造鑄件所需的熔融金屬的重量的比率在1°/。到20%的范圍內(nèi)。9、 如權(quán)利要求1所述的鑄型，其中形成有一具有一在5mm到50mm范 圍內(nèi)的臺階的結(jié)構(gòu)，該臺階位于該鑄件的分割面和位于該分割面的外周邊處 的該上鑄型的分型面之間，該鑄件位于處在該上鑄型的凸起部的外周邊附近 的該壓配部處。10、 如權(quán)利要求9所述的鑄型，其中一位于該下鑄型的壓配部和上鑄型 的壓配部之間的間距在O.lmm到4.0mm的范圍內(nèi)。11、 如權(quán)利要求9所述的鑄型，其中在位于該上鑄型的凸部的外周邊附 近的該壓配部上形成有至少一個(gè)溢流空腔。12、 如權(quán)利要求11所述的鑄型，其中該溢流空腔的一開口部相對于位 于被設(shè)置于該上鑄型的凸部的外周邊附近的該壓配部處的該成型產(chǎn)品的一 分割面的面積比率在1%到20%的范圍內(nèi)。13、如權(quán)利要求11或12所述的鑄型，其中進(jìn)入該溢流空腔的多余的熔 融金屬的重量相對于鑄造鑄件所需的熔融金屬的重量的比率在1%到20%的 范圍內(nèi)。基于PCT條約第19條(1)和實(shí)施細(xì)則第46條所作的聲明1、 根據(jù)國際檢索局的審査員的書面意見，修改權(quán)利要求l，以將權(quán)利要求2的限定，即對形成間距的結(jié)構(gòu)的限定包含進(jìn)權(quán)利要求1中。2、 本申請中采用的是完全液態(tài)的熔融金屬。因此，本申請中的鑄造與D2 中采用了半固態(tài)半熔融態(tài)金屬的鑄造以及D4中采用了固態(tài)金屬的鑄造完 全不同。3、 另外，本發(fā)明所涉及的鑄型省去了基于澆注系統(tǒng)的傳統(tǒng)方法中所需的從 鑄件中移除澆注系統(tǒng)、澆道等等的工作，提高了鑄件的產(chǎn)率。因此，本發(fā) 明的鑄型與基于澆注系統(tǒng)、澆道的D1或D3中的鑄型完全不同。4、 另外，Dl-D4都沒有提出一具有一間距的壓配部。本發(fā)明中的壓配部與 傳統(tǒng)加壓中的壓配部不同。本發(fā)明中形成的間距能夠防止熔融金屬漏至分 型面上。特別地，Dl沒有提出任何能夠防止熔融金屬漏至分型面上的結(jié) 構(gòu)，例如像本發(fā)明中的那樣對上鑄型和下鑄型進(jìn)行壓配，因此，當(dāng)上鑄型 疊置向下鑄型的速度過大時(shí)，熔融金屬將會(huì)漏至分型面上。熔融金屬漏至 分型面上將會(huì)導(dǎo)致疊置于下鑄型之上的上鑄型被從預(yù)設(shè)位置移開，從而導(dǎo) 致無法實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種能夠防止熔融金屬漏出鑄型以及漏至一分型面上的鑄型。本發(fā)明的鑄型包括一下鑄型，該下鑄型包括一具有產(chǎn)品形狀的凹部，鑄造鑄件所需量的熔融金屬被注入該凹部中；以及一上鑄型，該上鑄型包括一具有鑄件形狀的凸部，當(dāng)該上鑄型疊置于該下鑄型之上時(shí)，形成一鑄造鑄件的型腔；以及，其中形成有一個(gè)使得該下鑄型與上鑄型之間留有一定的間距的結(jié)構(gòu)，以防止在鑄件鑄造中熔融金屬漏至由上下鑄型疊置所形成的分型面上。
文檔編號B22D18/02GK101528387SQ200780038110
公開日2009年9月9日 申請日期2007年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2006年10月16日
發(fā)明者巖崎順一, 羽片豊 申請人:新東工業(yè)株式會(huì)社