專利名稱：鍍膜治具及鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種應(yīng)用于光學(xué)元件的鍍膜治具及鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
隨著光學(xué)產(chǎn)品的發(fā)展，光學(xué)元件的應(yīng)用范圍越來越廣。相應(yīng)地，業(yè)界采用各種方法來制 造光學(xué)元件以適應(yīng)市場對不同規(guī)格光學(xué)元件的需求(請參閱"Fabrication of Diffractive Optical Lens for Beam splitting Using LIGA Process" ， Mechatronics and Automation, Proceedings of the 2006 IEEE International Conference on, 卯.1242-1247， 2006.06)。通常來說，制造出的光學(xué)元件需經(jīng)過后續(xù)處理以獲得適于應(yīng)用 的良好性能。
鍍膜工序為后續(xù)處理中的重要步驟之一。鍍膜是指以物理或化學(xué)方法在光學(xué)元件表面鍍 上單層或多層薄膜，利用入射、反射及透射光線在薄膜界面產(chǎn)生的干涉作用實現(xiàn)聚焦、準(zhǔn)直 、濾光、反射及折射等效果。光學(xué)元件的鍍膜制程為首先，將光學(xué)元件安裝于鍍膜治具上 ，鍍膜治具設(shè)置于一容器中；其次，密閉容器，對容器抽真空；然后，以蒸鍍或濺鍍等方法 在光學(xué)元件需要鍍膜的部位進行鍍膜；最后，對容器破真空，將經(jīng)過鍍膜的光學(xué)元件從鍍膜 治具上拆卸下來。
然而，現(xiàn)有技術(shù)中，用于承載光學(xué)元件的鍍膜治具一般為二維平面結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)空間利 用率低，單位空間中，鍍膜治具承載的光學(xué)元件數(shù)量少，因此，難以減少鍍膜制程中對容器 抽真空及破真空的次數(shù)，從而難以提高鍍膜治具及鍍膜裝置的生產(chǎn)效率以及降低生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，提供一種能夠提高空間利用率，進而提高生產(chǎn)效率以及降低生產(chǎn)成本的鍍膜 治具及鍍膜裝置實為必要。
一種鍍膜治具，其包括至少一轉(zhuǎn)軸，及與所述轉(zhuǎn)軸連接的至少一具有立體結(jié)構(gòu)的基片 夾具模組，所述轉(zhuǎn)軸用于帶動所述基片夾具模組轉(zhuǎn)動，所述基片夾具模組由圍繞所述轉(zhuǎn)軸排 布的至少三個所述基片夾具構(gòu)成。
一種鍍膜裝置，其包括 一個真空容器；至少一個設(shè)置于所述真空容器內(nèi)的鍍膜靶；及 一個與所述鍍膜靶相對設(shè)置的鍍膜治具；其中，所述鍍膜治具包括至少一轉(zhuǎn)軸，及與所述轉(zhuǎn) 軸連接的至少一具有立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組，所述轉(zhuǎn)軸用于帶動所述基片夾具模組轉(zhuǎn)動，所述基片夾具模組由圍繞所述轉(zhuǎn)軸排布的至少三個所述基片夾具構(gòu)成。
相對于現(xiàn)有技術(shù)，所述鍍膜治具及鍍膜裝置采用立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組以承載光學(xué)元
件。所述基片夾具模組為三維立體結(jié)構(gòu)，其空間利用率高，單位空間中，承載的光學(xué)元件數(shù)
量多，因此，在一定程度上減少鍍膜制程中對容器抽真空及破真空的次數(shù)，從而提高鍍膜治
具及鍍膜裝置的生產(chǎn)效率以及降低生產(chǎn)成本。


圖l為本發(fā)明實施例提供的一種鍍膜治具的立體圖。
圖2為圖1中沿線II-II所示方向的剖視圖。
圖3為本發(fā)明實施例提供的一種鍍膜裝置的剖視圖。
圖4為本發(fā)明實施例提供的一種鍍膜裝置的轉(zhuǎn)盤模組的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步的詳細說明。
請參閱圖1及圖2，為本發(fā)明實施例提供的一種鍍膜治具100，其包括至少一個轉(zhuǎn)軸 110及與所述轉(zhuǎn)軸110連接的至少一具有立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組120。
所述轉(zhuǎn)軸110穿設(shè)于兩個相對的軸承142、 144，所述轉(zhuǎn)軸110用于帶動所述基片夾具模組 120轉(zhuǎn)動。
所述鍍膜治具100還包括一與所述轉(zhuǎn)軸110連接的驅(qū)動裝置130，所述驅(qū)動裝置130用于驅(qū) 動所述轉(zhuǎn)軸110轉(zhuǎn)動。所述驅(qū)動裝置130包括一電機132， 一固定于所述電機132的輸出軸 1322的主動齒輪134， 一固定于所述轉(zhuǎn)軸110的叢動齒輪136，及一連接所述主動齒輪134與叢 動齒輪136的鏈條138。所述電機132的輸出軸1322帶動所述主動齒輪134轉(zhuǎn)動，所述主動齒輪 134通過所述鏈條138帶動所述叢動齒輪136及所述轉(zhuǎn)軸110轉(zhuǎn)動，從而帶動所述基片夾具模組 120轉(zhuǎn)動。
所述基片夾具模組120由圍繞所述轉(zhuǎn)軸110排布的三個基片夾具124、 126、 128構(gòu)成。所 述基片夾具124、 126、 128均為一矩形框架，其用于夾持待鍍膜的光學(xué)元件。所述基片夾具 124、 126、 128的邊緣互相連接，使得所述基片夾具模組120構(gòu)成正三棱柱結(jié)構(gòu)，其沿垂直于 所述轉(zhuǎn)軸110方向的截面為正三角形。所述轉(zhuǎn)軸110穿設(shè)于所述基片夾具模組120的中心軸線 。構(gòu)成所述基片夾具模組120的三個所述基片夾具124、 126、 128通過連接桿146與所述轉(zhuǎn)軸 IIO連接。
使用時，首先，對處于水平位置的所述基片夾具124所夾持的光學(xué)元件進行鍍膜；然后 ，啟動所述電機132，通過所述電機132的輸出軸1322的轉(zhuǎn)動，以使得所述轉(zhuǎn)軸lIO轉(zhuǎn)動而帶動所述基片夾具模組120轉(zhuǎn)動，當(dāng)所述基片夾具126轉(zhuǎn)動至水平位置時，停止所述電機132， 以使得所述基片夾具126停止于水平位置，進而對所述基片夾具126所夾持的光學(xué)元件進行鍍 膜；最后，重復(fù)上一步驟，以使得所述基片夾具128轉(zhuǎn)動至水平位置，并停止于水平位置， 以對所述基片夾具128所夾持的光學(xué)元件進行鍍膜。
所述鍍膜治具1 OO還包括一與所述電機l32電連接的控制裝置l50，所述控制裝置l50用于 控制所述電機132的啟動與停止，以實現(xiàn)對所述基片夾具模組120轉(zhuǎn)動的精確控制，進而確保 所述基片夾具模組120的基片夾具124、 126、 128所夾持的光學(xué)元件的鍍膜品質(zhì)。
可以理解，構(gòu)成所述基片夾具模組120的基片夾具的數(shù)量也可以為多于三個，例如四個 或五個，則所述基片夾具模組120的沿垂直于所述轉(zhuǎn)軸110方向的截面為正四邊形或正五邊形 ?？梢岳斫?，構(gòu)成所述基片夾具模組120的基片夾具的尺寸規(guī)格也可以不同，構(gòu)成所述基片 夾具模組120的基片夾具的邊緣也可以未互相連接。所述基片夾具模組120的結(jié)構(gòu)并無特殊限 制，只需要由圍繞所述轉(zhuǎn)軸110排布的至少三個基片夾具構(gòu)成一立體結(jié)構(gòu)，以更多的承載光 學(xué)元件，并可以通過所述電機132的啟動與停止，以實現(xiàn)對所述基片夾具模組120轉(zhuǎn)動的精確 控制即可。本實施例中，所述基片夾具的材料為銅?？梢岳斫猓龌瑠A具的材料也可以 為其他金屬，例如鋁或不銹鋼。
請參閱圖3，為本發(fā)明實施例提供的一種采用上述鍍膜治具IOO的鍍膜裝置IO，其包括 一個真空容器200;至少一個設(shè)置于所述真空容器200內(nèi)的鍍膜靶300;及一個與所述鍍膜靶 300相對設(shè)置的鍍膜治具100。
采用所述鍍膜裝置10對光學(xué)元件進行鍍膜的制程為首先，將光學(xué)元件安裝于所述鍍膜 治具100的基片夾具上；其次，密閉所述真空容器200，對所述真空容器200抽真空；然后， 激發(fā)所述鍍膜靶300，對安裝于所述鍍膜治具100的基片夾具上的光學(xué)元件進行鍍膜；最后， 對所述真空容器200破真空，將經(jīng)過鍍膜的光學(xué)元件從所述鍍膜治具100的基片夾具上拆卸下 來。
請參閱圖3及圖4，優(yōu)選地，所述鍍膜裝置10進一步包括一設(shè)置于所述真空容器200內(nèi)的 轉(zhuǎn)盤模組400，所述轉(zhuǎn)盤模組400用于承載所述鍍膜治具100，從而增加所述鍍膜治具100夾持 的光學(xué)元件的鍍膜厚度的均勻性。所述轉(zhuǎn)盤模組400包括一主軸401， 一個與所述主軸401連 接的第一轉(zhuǎn)盤402，兩個第二轉(zhuǎn)盤404，及兩個副軸403。所述第二轉(zhuǎn)盤404通過所述副軸403 與所述第一轉(zhuǎn)盤402連接。所述鍍膜治具100設(shè)置于所述第二轉(zhuǎn)盤404。所述主軸401可以轉(zhuǎn)動 ，以帶動所述第一轉(zhuǎn)盤402轉(zhuǎn)動，從而使得所述第二轉(zhuǎn)盤404以所述主軸401為中心轉(zhuǎn)動。同 時，所述第二轉(zhuǎn)盤404也可以通過所述副軸403帶動，而以所述副軸403為中心自轉(zhuǎn)。所述鍍膜治具100通過所述第二轉(zhuǎn)盤404帶動，以所述主軸401為中心轉(zhuǎn)動的同時，又可以以所述副 軸403為中心自轉(zhuǎn)，從而增加所述鍍膜治具100夾持的光學(xué)元件的鍍膜厚度的均勻性?？梢岳?解，所述轉(zhuǎn)盤模組400的第二轉(zhuǎn)盤404的數(shù)量也可以為一個或多于兩個。所述主軸401及所述 副軸403可以通過電機帶動而轉(zhuǎn)動。
所述鍍膜治具100及鍍膜裝置10采用立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組120以承載光學(xué)元件。所述 基片夾具模組120為三維立體結(jié)構(gòu)，其空間利用率高，單位空間中，承載的光學(xué)元件數(shù)量多 ，因此，在一定程度上減少鍍膜制程中對所述真空容器200抽真空及破真空的次數(shù)，從而提 高鍍膜治具及鍍膜裝置的生產(chǎn)效率以及降低生產(chǎn)成本。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神 所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
權(quán)利要求1一種鍍膜治具，其特征在于其包括至少一轉(zhuǎn)軸，及與所述轉(zhuǎn)軸連接的至少一具有立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組，所述轉(zhuǎn)軸用于帶動所述基片夾具模組轉(zhuǎn)動，所述基片夾具模組由圍繞所述轉(zhuǎn)軸排布的至少三個所述基片夾具構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求l所述的鍍膜治具，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸穿設(shè)于所 述基片夾具模組的中心軸線。
3.如權(quán)利要求l所述的鍍膜治具，其特征在于，所述基片夾具模組沿垂直于所述轉(zhuǎn)軸方向的截面為多邊形。
4.如權(quán)利要求3所述的鍍膜治具，其特征在于，所述多邊形為正多
5.如權(quán)利要求4所述的鍍膜治具，其特征在于，所述正多邊形為正
6.如權(quán)利要求l所述的鍍膜治具，其特征在于，所述基片夾具的材 鋁或不銹鋼。
7.如權(quán)利要求l所述的鍍膜治具，其特征在于，所述鍍膜治具還包 括一與所述轉(zhuǎn)軸連接的驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。
8.如權(quán)利要求7所述的鍍膜治具，其特征在于，所述驅(qū)動裝置包括 一電機， 一設(shè)置于所述電機的輸出軸的主動齒輪，至少一設(shè)置于所述轉(zhuǎn)軸的叢動齒輪，及一 連接所述主動齒輪與叢動齒輪的鏈條。
9. 一種鍍膜裝置，其包括 一個真空容器；至少一個設(shè)置于所述真 空容器內(nèi)的鍍膜靶；及一個與所述鍍膜靶相對設(shè)置的鍍膜治具；其特征在于所述鍍膜治具 包括至少一轉(zhuǎn)軸，及與所述轉(zhuǎn)軸連接的至少一具有立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組，所述轉(zhuǎn)軸用于 帶動所述基片夾具模組轉(zhuǎn)動，所述基片夾具模組由圍繞所述轉(zhuǎn)軸排布的至少三個所述基片夾 具構(gòu)成。
10.如權(quán)利要求9所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸穿設(shè)于所述基片夾具模組的中心軸線-
全文摘要
本發(fā)明涉及一種鍍膜治具，其包括至少一轉(zhuǎn)軸，及與所述轉(zhuǎn)軸連接的至少一具有立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組，所述轉(zhuǎn)軸用于帶動所述基片夾具模組轉(zhuǎn)動，所述基片夾具模組由圍繞所述轉(zhuǎn)軸排布的至少三個所述基片夾具構(gòu)成。本發(fā)明還涉及一種采用所述鍍膜治具的鍍膜裝置。所述鍍膜治具及鍍膜裝置采用立體結(jié)構(gòu)的基片夾具模組以承載光學(xué)元件，其空間利用率高，單位空間中，承載的光學(xué)元件數(shù)量多，因此，在一定程度上減少鍍膜制程中對容器抽真空及破真空的次數(shù)，從而提高鍍膜治具及鍍膜裝置的生產(chǎn)效率以及降低生產(chǎn)成本。
文檔編號C23C14/22GK101435072SQ20071020247
公開日2009年5月20日 申請日期2007年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月12日
發(fā)明者凌維成 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司