專利名稱：用于濺射源的靶的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種靶且涉及一種相關(guān)聯(lián)的用于涂覆方法中的靶保持器。該涂覆方法特別包括用于將耐高溫粘結(jié)層施加到基板上例如特別是施加到渦輪機(jī)葉片上的氣體濺射方法。靶包含涂層材料，可特別通過離子化惰性氣體等離子體的離子由靶濺射出所述涂層材料。靶被容納在涂層源的殼體中的靶保持器上。借助于離子化惰性氣體等離子體的流動使由靶濺射出的涂層材料到達(dá)要進(jìn)行涂覆的基板。涂層源位于封閉的真空室中，對所述封閉真空室連續(xù)性地抽真空。離子化惰性氣體和靶的沉積的涂層顆粒到達(dá)室內(nèi)部的基板或被真空泵泵出。靶被焊接到靶保持器上或被直接螺合到靶保持器上。一種可能的解決方案是在靶保持器內(nèi)鉆出盲孔，靶被螺合在所述盲孔內(nèi)。一方面，由于提供電流以獲得用于產(chǎn)生陰極效應(yīng)的電荷的緣故，且另一方面，由于氣體的等離子體條件的產(chǎn)生和維持限于特定的溫度和壓力區(qū)域的緣故，因此使得靶在操作過程中暴露于高的熱量輸入。該熱量必須通過靶保持器被帶走。不僅對于解決方案中的焊接連接裝置而且對于螺合裝置而言，由于無法通過焊接連接裝置或螺合連接裝置的接觸表面帶走熱量，因此在靶中可出現(xiàn)溫度范圍高于400℃的過熱現(xiàn)象。這種過熱導(dǎo)致在靶中產(chǎn)生高的殘余應(yīng)力，由此可導(dǎo)致形成裂紋且結(jié)果使得靶過早失效。
背景技術(shù)：
在靶的底部本體內(nèi)鉆出一個或多個盲孔在現(xiàn)有技術(shù)中是已知的。靶的底部本體被成形為涂層材料圓盤，圓柱形靶被引入所述圓盤內(nèi)，借助于收縮配合方式進(jìn)入盲孔內(nèi)。
這種盲孔總是僅與底部本體或換句話說僅與單個部分接界。當(dāng)利用這種現(xiàn)有技術(shù)時出現(xiàn)的問題在于，由于存在不同的熱應(yīng)力，因此無法保證可在靶的底部本體與圓柱形靶之間保持連結(jié)。該實施例的另一問題在于需要在靶的底部本體中形成鉆孔，這導(dǎo)致產(chǎn)生不可忽略的材料損失。在包含稀土、鉑、鈦或相似材料的涂層材料中，材料成本很難忽略。
另一個缺點在于底部本體和圓柱形靶僅可作為整體被拆除的事實。
另一個缺點在于，對于底部本體和圓柱形靶的組合而言，涂層的成分基本上是固定的且僅可能通過更換底部本體和/圓柱形靶而改變所述成分。
濺射靶在DE 44 26 751 A1中是已知的，所述濺射靶被用于陰極濺射工藝中。在加熱濺射靶時由于其產(chǎn)生膨脹而導(dǎo)致從濺射靶的特定面積尺寸向上發(fā)生長度變化，由此導(dǎo)致在緊固到靶座上的濺射靶中產(chǎn)生熱應(yīng)力。這些熱應(yīng)力可導(dǎo)致對濺射靶和/或靶座產(chǎn)生損害，特別是對于更大尺寸的濺射靶而言情況更是如此。為此原因，在DE 44 26 751A1中，建議在非加熱條件下將彼此隔開的單個部段本體組裝成濺射靶，且所述單個部段本體僅在加熱條件下彼此接觸。這種已知解決方案的缺點在于對于每種材料組合必須重新確定部段本體的距離的事實。這種解決方案的另一個缺點在于每個靶部段需要多個緊固點。在這種情況下，緊固點之間的熱應(yīng)力還具有使得在緊固點的區(qū)域中產(chǎn)生裂紋或裂隙的效應(yīng)，特別是如果靶材料使用脆性材料或者沒有足夠的壓縮和/或拉伸強(qiáng)度的燒結(jié)或壓制粉末的情況。已知的解決方案的另一個缺點是由于在靶部段與連接至冷卻系統(tǒng)的靶座之間的熱交換表面較小而導(dǎo)致的，原因在于必須基本上通過螺合連接裝置進(jìn)行散熱。此外，根據(jù)一個實施例，濺射靶與靶座一起被“游動地”安裝在陰極本體上，即平行于濺射靶表面進(jìn)行可移置地安裝。盡管通過這種措施的確減輕了由于緊固產(chǎn)生的熱應(yīng)力，然而卻同時削弱了散熱進(jìn)入冷卻系統(tǒng)內(nèi)的性能。
在DE 197 38 815 A1中描述了與使用靶部段相關(guān)的另一個問題。使用靶部段需要專用的組裝解決方案，特別是如果要保證靶部段已經(jīng)位于陰極板上以便改進(jìn)上述有缺陷的熱傳遞過程的情況下。DE 197 38815 A1中示出的組裝解決方案的確還需要利用調(diào)節(jié)螺栓以對靶部段進(jìn)行定位。然而，由此推知對于每個靶部段而言必須至少存在第二種緊固可能性，原因在于調(diào)節(jié)螺栓僅承擔(dān)了使靶部段位于中心和對所述靶部段進(jìn)行定位的任務(wù)。因此，對于引入靶部段內(nèi)的熱應(yīng)力而言，確實出現(xiàn)了與已經(jīng)結(jié)合DE 44 26 751 A1中所示的靶部段布置所述的問題相同的問題。
此外，從DE 102 27 048 A1中可知，為了由多個靶制造中空陰極，由此預(yù)知要采用至少4個靶，所述靶形成了棱柱體的側(cè)表面。與圓柱形中空陰極相比，該布置的優(yōu)點是更易于制造靶板。這些靶板通過中心螺釘被緊固到冷卻本體上，以使得靶板在其背側(cè)上的整個表面上接觸冷卻本體，但僅在中心點處進(jìn)行緊固。盡管目的在于優(yōu)化地利用熱交換表面，然而卻在螺釘處產(chǎn)生了熱損耗。這些熱損耗可導(dǎo)致熱傳遞過程的劣化，特別是對于使用小靶的情況而言。該公開文獻(xiàn)中也未提及有限的電流。電流必須通過螺釘被輸送至靶。功率密度由此受到螺釘橫截面積的限制，或假設(shè)存在不完全螺紋連接的情況下受到螺紋中的支承表面的限制。對利用的MCrAlY或NiAl靶的可對比布置的試驗進(jìn)行了描述，在約900℃的溫度和最大5kW(達(dá)15W/cm2)的耦合功率下已經(jīng)觀察到了破裂和/或彎曲的靶。在這種情況下，通過夾具連接裝置對靶進(jìn)行固定。如果靶如DE 102 27 048 A1中所述被直接螺合到冷卻本體上，則它們在最大10kW(達(dá)21W/cm2)的耦合功率下熔化。靶變得太熱且因此受損。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的在于提供一種包括靶部段的靶，所述靶部段通過靶保持設(shè)備被連接至冷卻系統(tǒng)以使得未在所述靶部段內(nèi)引入熱應(yīng)力，且同時提供了足夠的散熱。本發(fā)明的另一個目的在于提高耦合功率以及功率密度，以便降低涂覆過程的持續(xù)時間。
所述目標(biāo)是通過權(quán)利要求1的特征部分實現(xiàn)的。用于濺射源的靶可被再分成多個可交換的靶部段，其中所述靶部段包含涂層材料且每個靶部段與至少兩個相鄰靶部段接界，且特征在于，每個靶部段可通過至多一個緊固裝置被連接至底部本體。
一個靶部段代表涂層材料的一個元件，所述元件位于涂層源中，所述涂層源用于涂覆方法特別是氣體濺射方法中。涂覆設(shè)備用于涂覆方法，所述涂覆設(shè)備包括所述涂層源且還包括要進(jìn)行涂覆的基板。所述涂層源包括所有所述靶部段、用于每個靶部段的靶保持設(shè)備、氣體分配設(shè)備，所述氣體包括惰性氣體特別是氬或反應(yīng)性氣體特別是含氧氣體。所述涂層源進(jìn)一步包括具有冷卻劑連接裝置特別是水連接裝置的冷卻本體以及用于接收所有上述部件的殼體且還包括用于使整個涂層源絕緣的裝置。這些用于絕緣的裝置使所述涂層源與濺射空間完全電絕緣且基本上完全熱絕緣。所述濺射空間是用于描述所述涂覆設(shè)備的區(qū)域的術(shù)語，所述區(qū)域通常被成形為真空室，所述涂覆過程在所述真空室中發(fā)生，即是說要進(jìn)行涂覆的部件或多個部件位于所述真空室的該區(qū)域中。所述涂層材料被布置在所述靶部段上。所述涂層源被特別用于氣體濺射方法中，對于所述氣體濺射方法而言，在下文中將使用縮寫GV-PVD(氣體流物理氣相沉積)或還將使用HS-PVD(高速物理氣相沉積)。彼此相對設(shè)置的兩個靶部段通常用于氣體流濺射方法中。根據(jù)尺寸和所需濺射速率，這些靶部段可被設(shè)計成單個元件或可包括多個單個部段，確切而言為上述靶部段。因此，在本申請中，使用靶部段而不是靶的表達(dá)方式意味著每個靶保持設(shè)備使用至少一個靶部段。對所述靶進(jìn)行分段使得允許實現(xiàn)更高的涂覆速率和耦合接入功率。在更高的涂覆速率和耦合接入功率成為次重要的考慮因素時，不在濺射方法中使用目前的涂層源布置進(jìn)行分段的情況下也可進(jìn)行操作。通過使用靶部段，可能將更高的電功率耦合接入每個靶部段內(nèi)，由此對由所述靶部段濺射層材料的過程進(jìn)行加速，以使得可實現(xiàn)更高的濺射速率。使用靶部段還提供了與所述靶部段的持續(xù)性和機(jī)械特征相關(guān)的優(yōu)點。由于每個靶部段中的應(yīng)力更低，因此在所述涂層材料中不會產(chǎn)生裂紋和裂隙。此外，由于可進(jìn)行更好的散熱，因此提高了所述靶部段布置的耐溫性，由此使得任何所述靶部段上的材料不產(chǎn)生熔化。每個所述靶部段特別地具有其特有的電力連接裝置以及特有的連接至所述冷卻本體的連接裝置。所述冷卻本體的主要作用在于消散在所述涂覆過程中在所述靶部段上產(chǎn)生的熱量。電流導(dǎo)致產(chǎn)生的功率輸入，特別地達(dá)到150A/靶，導(dǎo)致產(chǎn)生特別地達(dá)到220W/cm2的功率密度，且此外氣體原子撞擊靶部段的沖擊能量產(chǎn)生了要進(jìn)行消散的熱能。一方面，在涂覆金屬涂層材料的涂覆過程中，可利用惰性氣體且已證明氬是特別適用的。這些氬原子的沖擊能量同樣導(dǎo)致在所述靶部段內(nèi)引入了熱量。通過所述沖擊過程，所述涂層材料的原子在所述靶表面上的連結(jié)變得松散。在該過程中達(dá)到了高溫。為了更好地控制工藝過程，可通過輻射加熱設(shè)備進(jìn)行附加加熱，以便獲得根據(jù)涂覆室中的特別地具有達(dá)到1150℃的溫度的基板和層的涂層溫度。所述涂覆設(shè)備還可用于反應(yīng)性氣體濺射方法中。代替使用惰性氣體或除了使用惰性氣體之外，添加反應(yīng)性氣體特別是含氧氣體，由此可導(dǎo)致在所述靶部段處發(fā)生所述涂層材料與氣體分子的反應(yīng)或?qū)е峦繉硬牧显趶乃霭胁慷伪会尫藕蟪蔀闅庀啵瑥亩沟媒柚谥饕苑艧岱绞竭M(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)特別是氧化反應(yīng)使溫度升高。為了避免具有涂層的所述靶部段在幾個小時的持續(xù)時間內(nèi)產(chǎn)生過熱，通過特別使用的水冷裝置對每個靶部段進(jìn)行冷卻。對于導(dǎo)致在所述靶部段處進(jìn)行更高程度的熱傳遞的耦合接入的更高電流而言，在所述涂覆設(shè)備中利用多個單個靶部段是有利的。為了避免在所述涂覆設(shè)備中產(chǎn)生上述應(yīng)力或使所述應(yīng)力最小化至低于導(dǎo)致所述靶部段材料的形成裂紋的應(yīng)力水平的程度，使用下文所述的根據(jù)本發(fā)明的靶保持設(shè)備。
所述涂層源因此包括所述靶部段或多個靶部段、用于每個所述靶部段的電力連接裝置、將每個所述靶部段連接至所述冷卻系統(tǒng)以供應(yīng)和去除冷卻劑的連接裝置。通過氣體連接裝置且還通過氣體分配器進(jìn)行所述供應(yīng)所述惰性氣體和/或反應(yīng)性氣體的過程，所述氣體分配器被布置以使得氣體以相同的平均沖擊速度在所有靶部段上發(fā)生均勻數(shù)量分配。就設(shè)備方面而言，每個靶部段被包括在靶保持設(shè)備中。所述靶保持設(shè)備包括所述冷卻本體或多個冷卻本體以及外壁和用于將所述靶部段附接到所述冷卻本體上且還附接到所述涂層源的所述外壁上的連接裝置。
另一個優(yōu)點在于在涂覆工藝結(jié)束后已經(jīng)利用了涂層材料的時候單獨拆除所述靶部段的可能性，以便在重新磨光的步驟范圍內(nèi)再次為所述靶部段提供涂層材料。
當(dāng)使用小的部段時，所述靶部段中的殘余應(yīng)力是有限的，以使得可使用脆性且可組合性較差的涂層材料和/或涂層材料組合。對于高熱負(fù)載的情況而言，還可選擇小尺寸的靶部段以增加可通過緊固設(shè)備消散的熱量比例。這種熱傳遞的改進(jìn)基于熱交換表面比根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的熱交換表面更大的事實，原因在于所述緊固設(shè)備相對于所述靶部段而言具有更大的共用表面。此外，可通過使用接觸薄片以使得熱傳遞過程的限制因素不再是從所述靶部段向所述冷卻本體進(jìn)行的散熱，而使得熱傳遞過程受到冷卻本體性能的限制，從而改進(jìn)熱傳遞過程。
另一個優(yōu)點在于使靶回復(fù)(通過HIP，濺射工藝)的可能性，其中保持了在靶處的舌榫連接。
當(dāng)利用小部段時，靶中的殘余應(yīng)力是有限的，以使得可能實現(xiàn)更高的功率輸入。在靶處的熱應(yīng)力還由于表面積的增加而降低。
對于每個靶而言使用單個緊固設(shè)備有助于降低殘余應(yīng)力，從而使得可能使用脆且硬的涂層材料。
本發(fā)明的其它有利實施例是從屬權(quán)利要求的主題。
根據(jù)用于濺射源的靶的有利實施例，所述緊固裝置包括導(dǎo)電和/或?qū)岬难b置，以使得在操作狀態(tài)下，均勻的電流強(qiáng)度可被分配在所述靶部段的表面上，此外在所述靶部段上產(chǎn)生的熱量可被均勻地消散進(jìn)入底部本體內(nèi)。
根據(jù)用于濺射源的靶的有利實施例，所述緊固裝置包括插接連接裝置。
根據(jù)用于濺射源的靶的有利實施例，為多個靶部段設(shè)置插接連接裝置。
根據(jù)用于濺射源的靶的有利實施例，所述底部本體包括冷卻本體，每個靶部段可被電耦合和熱耦合至所述冷卻本體。
根據(jù)用于濺射源的靶的有利實施例，每個靶部段完全地包括涂層材料。借助于通過提供彈性接觸元件而補(bǔ)償熱應(yīng)力的可能性，保持所述靶部段沒有熱應(yīng)力。
根據(jù)用于濺射源的靶的有利實施例，一個靶部段包括至少第一層材料或?qū)硬牧系牡谝唤M合，所述第一層材料或?qū)硬牧系牡谝唤M合不同于第二靶部段的層材料或?qū)硬牧系慕M合。
根據(jù)一個前述實施例的靶特別用于氣體濺射方法的涂層源中。
一種用于涂覆部件的方法，所述部件包括濺射源、靶且還包括用于將濺射的涂層材料輸運至所述部件的氣體，所述方法包括的步驟有使氣體與所述靶表面接觸、釋放顆粒離開所述靶表面、通過所述氣體流輸運所述釋放的顆粒、用來自所述氣體流的顆粒對所述部件進(jìn)行涂覆，其中所述氣體流由每個靶部段成比例地釋放用于要進(jìn)行涂覆的所述部件的所述顆粒。
所述顆粒包括帶電顆粒，例如特別是離子和/或中性顆粒例如特別是原子。
為了實施所述濺射方法，所述濺射源包括靶，所述靶包含前述靶部段，沖擊產(chǎn)生裝置，換句話說特別是氣體原子和/或離子，且還需要移動裝置，特別是移動氣體流。所述沖擊產(chǎn)生裝置與所述靶接觸以便借助于在所述靶表面上產(chǎn)生的沖擊性沖擊從而借助于入射沖擊產(chǎn)生裝置的沖擊能量而由所述靶的表面釋放顆粒。移動裝置用于將所述濺射的顆粒從所述濺射源輸運至要進(jìn)行涂覆的部件。
特別地，根據(jù)前述方法，借助于氣體流使得由所述靶部段釋放出顆粒，從而使得所述部件上的不同層材料或?qū)硬牧辖M合的比例對應(yīng)于在所述靶上具有相應(yīng)的層材料或?qū)硬牧辖M合的所述靶部段的比例，從而使得通過第一靶部段的第一層材料或第一層材料組合且通過第二靶部段的第二層材料或第二層材料組合以成比例方式對所述部件進(jìn)行涂覆。
特別是，借助于可相對于所述靶進(jìn)行移動的氣體分配單元根據(jù)有利實施例改變通過所述氣體流進(jìn)行濺射的不同層材料或?qū)硬牧辖M合的比例。
用于前述實施例中的氣體特別地包括惰性氣體，特別是氬和/或被形成為準(zhǔn)中性等離子體。


圖1示出了根據(jù)第一實施例的靶保持設(shè)備的布置圖；圖2a示出了穿過根據(jù)圖1所示的靶保持設(shè)備的剖視圖；圖2b示出了帶有溝槽的T形螺母，接觸片層被推入所述溝槽中，其中上圖是沿下圖中由箭頭X示出的線進(jìn)行截取的側(cè)剖視圖；圖3示出了根據(jù)第二實施例的靶保持設(shè)備的布置圖；圖4示出了穿過根據(jù)圖3所示的靶保持設(shè)備的剖視圖；圖5示出了根據(jù)第三實施例的靶保持設(shè)備的布置圖；圖6示出了穿過根據(jù)圖5所示的靶保持設(shè)備的剖視圖；圖7示出了根據(jù)第四實施例的靶保持設(shè)備的布置圖；和圖8示出了穿過根據(jù)圖7所示的靶保持設(shè)備的剖視圖。
具體實施例方式
圖1示出了在涂層源中被緊固至靶保持器1的靶部段9的布置。每個靶部段9通過T形螺母8被螺合至冷卻本體的外壁2。T形螺母包括圓柱體22和附加部分23，所述附加部分具有T形橫截面。圓柱體22由冷卻本體13中的孔接收。T形附加部分23伸出超過冷卻本體的內(nèi)側(cè)表面。由低合金銅或鎳特別是由CuBe、CuCoBe或NiBe制成的接觸片層10被附接至T形螺母和/或施加電鍍涂層。至少一個靶部段9被插接到T形螺母8上，且T形螺母和靶部段具有中間空間，接觸片層10被布置在所述中間空間中。在圖1中，靶部段9被插接到T形附加部分23上。溝槽24被設(shè)置在靶部段中，所述溝槽被加寬成T形，所述溝槽被設(shè)計以與附加部分23的形狀匹配。接合進(jìn)入靶部段9的相關(guān)聯(lián)溝槽24內(nèi)的T形附加部分23可用于接收至少一個靶部段9。圖1示出了可能的變型，其中T形附加部分23用于接收多個靶部段9。靶以與靶部段已經(jīng)被插接進(jìn)入適當(dāng)位置處相同的方式被推入其位于T形附加部分23上的適當(dāng)位置處，且對于每個T形螺母而言靶部段的數(shù)量取決于部段寬度，所述寬度進(jìn)一步與源的尺寸直接相關(guān)。靶部段都被插接到T形螺母和/或相關(guān)聯(lián)的接觸片層和/或相關(guān)聯(lián)的電鍍涂層上。通過以圖1所示的T形式存在的溝槽接收具有對應(yīng)于附加部分23的形狀的對應(yīng)形狀的每個靶部段9。然而，可使用其它形式鎖定的連接裝置，通過所述連接裝置可至少部分地包含T形螺母和/或接觸片層。特別地，楔形溝槽可被設(shè)置在靶部段9中。接觸片層10被布置在靶部段9的溝槽中。接觸片層和/或電鍍涂層由于其良好的導(dǎo)熱特性而沿冷卻系統(tǒng)的方向傳導(dǎo)來自靶部段的熱量。為了改進(jìn)從靶部段9向接觸片層10進(jìn)行的熱傳遞過程，還可在接觸片層10上設(shè)置電鍍涂層。當(dāng)接觸片層被保持在T形螺母中時，電鍍涂層特別地位于面對靶部段或多個靶部段9的接觸片層10的表面上。當(dāng)接觸片層被接收在靶部段8中時，電鍍涂層位于面對T形螺母的接觸片層的側(cè)部上。惰性氣體的原子和/或離子在操作過程換句話說在涂覆工藝過程中沖擊在靶部段9上。它們將原子擊出靶部段材料。借助于撞擊在靶部段材料上的離子產(chǎn)生的沖擊，熱能被帶入靶部段9內(nèi)，通過接觸片層10、T形螺母8且還通過附接螺釘7將所述熱能帶到冷卻本體13。
在圖2a中，示出了圖1所示的靶保持器1的剖面。在圖2a中，僅在圖的上部中示出了附接螺釘7，為清晰起見，在下部中省略了附接螺釘7。在圖2a的最低位置處示出的附接螺釘示出了簡化的變型，此時由于T形螺母8的圓柱體22伸入冷卻本體13的內(nèi)部內(nèi)，因而使得不需要將T形螺母定位在冷卻本體內(nèi)。當(dāng)靶僅包括少量靶部段或當(dāng)靶部段的位置已經(jīng)由鄰接的靶部段確定時，可利用該變型。當(dāng)溫度負(fù)載太低從而使得未產(chǎn)生明顯熱膨脹時或當(dāng)靶部段包括涂層材料或涂層材料組合時，所述涂層材料或涂層材料組合的熱膨脹是可忽略的，即小于0.5mm，特別是小于0.1mm，優(yōu)選小于0.05mm，鄰接靶部段可彼此接觸。在圖2a的右側(cè)底部示出的變型中，進(jìn)一步示出了靶部段在溝槽24中具有凹部32以便接收接觸片層10。
靶部段的尺寸可被調(diào)節(jié)以使得在所需功率輸入下，靶部段具有小的長度、寬度以及深度尺寸從而使得通過暴露于氣體流的靶部段表面實現(xiàn)的最大可能的熱量輸入保持有限。將緊固設(shè)備制成一定尺寸以使得可通過T形螺母8或叉狀插接裝置12和/或通過具有相關(guān)聯(lián)的接觸片層3的附接螺釘7帶走所有熱量，從而使得被設(shè)計成冷卻本體13的冷卻系統(tǒng)的冷卻容量成為熱傳遞過程的限制因素。
通過每個所示接觸片層10，不僅通過擴(kuò)大熱傳遞表面而實現(xiàn)了熱傳遞的改進(jìn)而且彌補(bǔ)了溫度負(fù)載的靶部段的熱應(yīng)力。接觸片層10用作彈簧機(jī)構(gòu)，所述彈簧機(jī)構(gòu)的功能包括彈性地削弱涂層材料的熱膨脹效應(yīng)，由此使得不再需要現(xiàn)有技術(shù)和其它解決方案中已公知的間隙間隔，所述間隙間隔包括定位銷。使用接觸片層10的優(yōu)點還在于，在整個涂覆工藝的持續(xù)期間，通過冷卻本體13進(jìn)行的相關(guān)散熱過程以及相關(guān)的功率傳送過程是以均勻方式發(fā)生的。通過接觸片層可保證功率傳送過程且可保證散熱過程可借助于熱傳導(dǎo)而以就時間而言大體上恒定的方式發(fā)生，由此使得可能在對于功率傳送和散熱過程而言一致的條件下進(jìn)行濺射工藝。柔性箔片可被用作接觸片層。
還可有利地使用可以常規(guī)方式獲得的接觸片層，如圖2b所示。接觸片層10被推入T形螺母8的溝槽33內(nèi)且可在預(yù)應(yīng)力下被接收在該溝槽中和/或可通過鎖定元件被緊固以防止產(chǎn)生軸向移置。為了增加預(yù)應(yīng)力，接觸片層可包括第一區(qū)域35且還包括第二區(qū)域36，所述第一區(qū)域在安裝狀態(tài)下被支承在由接觸片層橫跨的T形螺母的表面上，所述第二區(qū)域在安裝狀態(tài)下保持與靶部段的接觸。此外，散熱過程借助于通過第二區(qū)域36和/或通過第一區(qū)域35且還通過接收在溝槽中的肋部37進(jìn)行的從靶部段向T形螺母的熱傳導(dǎo)過程而發(fā)生。通過接觸片層和T形螺母進(jìn)行的熱傳導(dǎo)過程快速地發(fā)生以使得要被帶走的熱量受到冷卻本體的冷卻容量的限制。因此，通過使用接觸片層，不僅導(dǎo)致對于進(jìn)入靶部段內(nèi)的電流輸入而言實現(xiàn)了均勻接觸，而且實現(xiàn)了改進(jìn)的熱傳遞過程。由于接觸片層用作彈簧機(jī)構(gòu)，因此可根據(jù)接觸片層的設(shè)計而設(shè)置任何所需預(yù)應(yīng)力。一方面，存在改變接觸片層的壁厚的可能性，另一方面，第一區(qū)域和第二區(qū)域35、36的比例可產(chǎn)生改變，以便實現(xiàn)精確限定且可重復(fù)的預(yù)應(yīng)力。接觸片層隨后在彈性區(qū)域中優(yōu)選產(chǎn)生變形以使得其可用于重復(fù)的組裝和拆除循環(huán)。
在特別地被成形為圓柱體22的T形螺母8的部分的內(nèi)部中，設(shè)置了內(nèi)螺紋25，如圖2a所示。附接螺釘?shù)耐饴菁y結(jié)合在內(nèi)螺紋25內(nèi)。附接螺釘特別地包括銅或低合金銅，如CuBe、CuCoBe、CuTeP。圖2的最下部所示的兩種緊固解決方案示出了套筒6的安裝過程，所述安裝過程是該圖上部所示過程的變型。該套筒6附加地用于去除熱能使其到達(dá)冷卻本體且在專業(yè)文獻(xiàn)中還被稱作擰入式片層或擰入式片層套筒。套筒6的主要功能在于改進(jìn)附接螺釘7與冷卻本體13之間的熱接觸和電接觸。套筒6被螺合在冷卻本體13內(nèi)或插接到所述冷卻本體上，以便通過特別地被設(shè)計成螺釘連接裝置或壓配合裝置的連接裝置保證良好的熱傳遞。
為了進(jìn)一步說明靶部段9被連接至冷卻本體的連接過程，再次參見圖2a。此處，通過靶部段9與位于附加部分23的靶部段側(cè)上的表面之間的接觸片層，通過靶部段9的后側(cè)靶部段表面至T形螺母8，通過T形螺母和T形螺母的圓柱體22的內(nèi)螺紋25至布置在內(nèi)螺紋25中的接觸片層3，且還從所述接觸片層進(jìn)入附接螺釘7，且還從所述附接螺釘直接到達(dá)冷卻本體或另一種可選方式是通過套筒6到達(dá)冷卻本體13而到達(dá)所述冷卻本體，而實現(xiàn)靶部段9與冷卻本體13和電力接觸器的連接，圖中未示出所述電力接觸器。接觸片層3是如圖2a的上部所示的附接螺釘7的一部分，或如圖2a的下部所示的T形螺母8的圓柱體22的一部分。如圖2a所示，套筒6與冷卻劑直接接觸，所述冷卻劑流動通過冷卻通路17。通過隔離區(qū)16對涂層源進(jìn)行絕緣以防止向外側(cè)放電。隔離區(qū)16位于外壁15處，所述外壁包含用于附接螺釘7的螺釘頭4的凹部。
在根據(jù)圖3和圖4的另一個實施例中，通過連接器16實現(xiàn)靶部段9與冷卻本體13和電力接觸器的連接，圖中未示出所述電力接觸器。連接器26包含位于冷卻本體側(cè)上的表面處的內(nèi)螺紋28，所述內(nèi)螺紋用于接收附接螺釘7，所述附接螺釘被制得與根據(jù)圖1或圖2a所示的實施例中的附接螺釘相同。連接器26包括位于冷卻本體側(cè)的表面處的接觸片層27和/或電鍍涂層以增加電流和/或增進(jìn)熱傳遞。在該布置中，接觸片層27不需要限于內(nèi)螺紋27，而是能夠包圍整個接觸表面。優(yōu)點在于可實現(xiàn)從連接器26向冷卻本體21內(nèi)部的直接熱傳遞。在圖3中被示作不可見元件的冷卻劑通路17在所示變型中位于與連接器26的處于冷卻本體側(cè)上的表面及其接觸片層27和/或其電鍍涂層緊鄰的位置處。接觸片層11被設(shè)置在靶部段9與連接器26的處于靶部段側(cè)的表面之間的槽狀凹部29中。凹部29用于接收靶部段9的肋部14，所述肋部旨在接合在槽狀凹部29內(nèi)。
根據(jù)同樣在圖3中示出的另一個可選實施例，連接器26在冷卻本體的整個長度上進(jìn)行延伸。在這種情況下，連接器26可能通過多個附接螺釘27被緊固到冷卻本體上。從根本上而言，連接器27和冷卻本體應(yīng)該選用熱膨脹系數(shù)相當(dāng)?shù)牟牧?。對于冷卻本體的情況且此外對于連接器的情況而言，存在基本上相同的材料需求，即良好的導(dǎo)熱性還有良好的導(dǎo)電性。已經(jīng)證實銅或銅合金特別適用于該目的。通過使用具有相同或相似熱膨脹系數(shù)的材料，連接器和冷卻本體將產(chǎn)生等量膨脹，以使得不會導(dǎo)致在附接螺釘7或在連接器26中產(chǎn)生不可允許的應(yīng)力。多個靶部段(9′、9″、9)隨后可被接收在一個連接器26中。
根據(jù)圖3未示出的另一個實施例，連接器26還可被設(shè)計成與冷卻本體成一整體。槽狀凹部29隨后將在冷卻本體的整個內(nèi)側(cè)21上進(jìn)行延伸。就這一點而言，還可使用交叉的通道狀結(jié)構(gòu)，以使得靶部段9可被附接至交叉點。因此，還可能使用交叉的肋部代替簡單的肋部14，其優(yōu)點在于，在組裝靶部段9時，所述靶部段的位置也是固定的。
正如在第一實施例中那樣，同樣地通過靶部段的肋部14，通過連接器26，通過內(nèi)螺紋28和可選地布置在內(nèi)螺紋28中的接觸片層3進(jìn)入附接螺釘7內(nèi)，且還從附接螺釘7直接到達(dá)冷卻本體，或所述直接到達(dá)方式的另一種可選方式是，通過套筒6到達(dá)冷卻本體13，而實現(xiàn)靶部段9與槽狀凹部29的靶部段側(cè)表面之間的熱傳遞。接觸片層3是如圖4的上部所示的附接螺釘7的一部分，或然而是如圖4的下部所示的連接器26的內(nèi)螺紋28的一部分。如圖4所示，套筒6未與流動通過冷卻通路17的冷卻劑直接接觸。接觸片層11可被布置在槽狀凹部29內(nèi)以便改進(jìn)電流傳遞和熱傳遞，且在結(jié)合圖1或圖2所示的實施例中，可實現(xiàn)對在靶的加熱過程中產(chǎn)生的長度變化的補(bǔ)償。
圖4所示的套筒6的安裝過程的變型還可應(yīng)用于根據(jù)圖2所示的實施例。套筒6被螺合在冷卻本體內(nèi)或壓入所述本體內(nèi)。為此目的，接收裝置20被設(shè)置在冷卻本體中，所述接收裝置是用于附接螺釘7和/或套筒6的孔。作為另一種可選方式，套筒還可被固定連接至附接螺釘7，即所述連接方式為螺釘連接或可對比形狀配合的連接或形式鎖定的連接或受壓連接方式。叉狀插接裝置12也可被接收在槽狀凹部29中，正如下面將要在根據(jù)圖5至圖8所示的實施例中所述地。叉狀插接裝置12特別地包括槽狀凹部，所述槽狀凹部包含在其內(nèi)部上的接觸片層。
在根據(jù)圖5所示的另一實施例中，靶保持器1同時被成形為冷卻系統(tǒng)。靶保持器1包括冷卻本體13，溝槽30位于所述冷卻本體中，至少一個叉狀插接裝置12可被接收在每條所述溝槽內(nèi)。冷卻本體13包括具有良好的導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性的材料，例如特別是銅或低合金銅。叉狀插接裝置12設(shè)有接觸片層11，所述接觸片層同樣包括具有良好的導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性的材料，特別是低合金銅。接觸片層11可被電涂覆以減小接觸阻力。這種接觸阻力總是存在于以區(qū)域性接觸方式彼此鄰接的兩個直接相鄰本體彼此之間的鄰界表面之間，特別是如果這些本體是由不同材料制成，正如在這種情況下靶部段和靶保持器的情況那樣。由于表面粗糙度以及由此導(dǎo)致的與相對設(shè)置的表面之間的距離的原因，在這種邊界表面處發(fā)生的熱傳遞過程被減弱，可通過電鍍涂層，即通過填充這種表面粗糙度，而改進(jìn)所述熱傳遞過程。T形螺母和附接螺釘在本實施例中被省略，如圖6所示。靶部段9的肋部14未在圖5或圖6所示的靶部段的整個高度上進(jìn)行延伸。可能在中間空間中設(shè)置其它連接裝置，圖中未詳細(xì)地示出所述連接裝置。因此，可采用錐形滑動器、偏心軸、借助于插接接觸器的鎖定裝置、拉簧或以氣動方式操作的板從而確保將靶部段9良好地保持在叉狀插接裝置12中。另一種可選方式是，還存在設(shè)置一個上述連接裝置或連接裝置的組合以代替叉狀插接裝置12的可能性，以使得靶部段被附接在冷卻本體13本身中。
圖6示出了穿過兩個鄰接靶部段9、9′的布置的剖視圖。每個靶部段包括肋部14，所述肋部由叉狀插接裝置12接收，且接觸片層11被設(shè)置在叉狀插接裝置的側(cè)壁處和/或底部區(qū)域中。由于肋部14的縱向尺寸比其中裝配有叉狀插接裝置12的溝槽30更小，因此圖中僅以示意性方式示出的接觸片層11的一部分是可見的。為了改進(jìn)熱傳遞過程，肋部14還可在溝槽的縱向尺寸的最大部分上進(jìn)行延伸。肋部14應(yīng)該能夠沿縱向方向不受阻礙地進(jìn)行擴(kuò)展，以便避免將熱應(yīng)力引入靶部段內(nèi)。
另一實施例未被示出，其中位于彼此之上的一列溝槽或位于彼此鄰接的位置處的一排溝槽被組合成單條通道，在所述通道中設(shè)置了一系列叉狀插接裝置12。借助于彈簧元件，所述彈簧元件的操作方式對應(yīng)于接觸片層，這種叉狀插接裝置可被接收在溝槽30中而沒有丟失(lost)的風(fēng)險，且此外通過彈簧拉伸對熱膨脹進(jìn)行補(bǔ)償。
根據(jù)圖7和圖8所示的另一個實施例，靶部段可被直接插接至冷卻本體13。在某些材料中，這種必要性是導(dǎo)致難以通過材料去除工藝而以機(jī)械方式或化學(xué)方式對它們進(jìn)行加工的原因。壓制粉末或燒結(jié)粉末被指定為實例，所述粉末被壓制成立方靶部段的形狀，且之后幾乎不可能改變它們的形狀。此外，可通過設(shè)計插接連接方式降低加工成本，且可降低材料成本，并可簡化安裝過程。靶部段與冷卻本體和電力連接裝置是借助于叉狀插接裝置12通過加工出的肋部14直接進(jìn)行連接的。與前面的實施例相反地，叉狀插接裝置12與冷卻本體的附接并非通過插接進(jìn)入冷卻本體的溝槽內(nèi)的方式發(fā)生，而是通過粘合連接方式例如粘結(jié)劑連接方式發(fā)生。接觸片層11，所謂叉狀插接片層，被插入叉狀插接裝置12內(nèi)。作為另一種可選方式，還可能將叉狀插接裝置釬焊或螺合到冷卻本體上，或通過切屑形成加工工藝如銑削工藝在冷卻本體上加工出所述叉狀插接裝置。
靶部段被插接并直接固定在這些叉狀插接裝置內(nèi)。利用適當(dāng)?shù)募庸し椒?根據(jù)材料例如EDM，銑削)加工靶部段以使得其肋部精確地配合進(jìn)入冷卻本體13的叉狀插接裝置12內(nèi)并與其緊密接觸。銑削或EDM(放電加工)特別地被用作加工方法。放電加工是一種高精度加工工藝，借助于所述工藝切削或鉆削材料。通過在電極上施加電位而進(jìn)行的電物理汽化工藝使得可能對甚至極硬、極韌或極脆的材料類型進(jìn)行加工。
對于具有下列尺寸的靶而言，可實現(xiàn)最佳的涂覆結(jié)果，其中，靶的寬度達(dá)到10至1000mm，特別是25至500mm，優(yōu)選為80至140mm。
靶部段的寬度優(yōu)選在0.05至10mm的范圍內(nèi)，特別是在0.05至50mm的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在0.05至30mm的范圍內(nèi)。
在要進(jìn)行涂覆的部件與靶的距離為10至1000mm，特別是20至500mm，優(yōu)選為20至150mm的情況下，可實現(xiàn)最優(yōu)涂覆結(jié)果。
根據(jù)任一前述實施例，靶部段9可被插接入靶保持設(shè)備1內(nèi)且同樣可以這種方式被拆除。因此，在所有型式中，還可以完全獨立于其它靶部段的方式更換單個靶部段。由于靶部段與叉狀插接裝置的區(qū)域接觸，而導(dǎo)致產(chǎn)生了大的有效熱傳遞表面，從而使得靶保持設(shè)備被直接連接至冷卻系統(tǒng)。隨后可簡單地帶走在靶部段中產(chǎn)生的熱量，從而使得可實現(xiàn)高的冷卻速率。
極軟的材料被考慮作為用于靶部段的材料，特別是純鋁或鎂。對于這些材料而言，由于它們的焊接性能較差，因而迄今為止成為提高功率輸入從而加速涂覆方法的限制因素。通過耦合接入更高的電流，通過特別地提高HS-PVD方法中進(jìn)行的施涂過程的濺射速率而可縮短層的施涂過程的持續(xù)時間。
借助于可通過與延展性涂層材料至少相同的功率輸入為極硬或極脆的材料如MCrAIY提供能量的事實，說明了使靶部段與一種上述涂覆設(shè)備結(jié)合使用的普遍本質(zhì)。
包括多個靶部段的靶被用于部件的涂覆方法中。對該方法而言，需要包括靶且還包括用于將濺射的涂層材料輸運至部件的氣體的濺射源，且該方法包括的步驟有使氣體與靶表面接觸、釋放顆粒離開靶表面、通過氣體流輸運釋放的顆粒、用來自氣體流的顆粒對部件進(jìn)行涂覆，且氣體流由每個靶部段成比例地釋放用于要進(jìn)行涂覆的部件的顆粒。該顆粒包括帶電顆粒，例如特別是離子和/或中性顆粒例如特別是原子。為了實施該濺射方法，濺射源包括靶，所述靶包含前述靶部段，沖擊產(chǎn)生裝置，換句話說是氣體原子和/或離子，且還需要移動裝置，特別是需要移動氣體流。沖擊產(chǎn)生裝置與靶接觸以便借助于在靶表面上產(chǎn)生的沖擊性沖擊而利用入射沖擊產(chǎn)生裝置的沖擊能量而由靶的表面釋放顆粒。移動裝置用于將濺射的顆粒從濺射源輸運至要進(jìn)行涂覆的部件。
特別地，根據(jù)前述方法，借助于氣體流使得由靶部段釋放出顆粒，從而使得部件上的不同涂層材料或涂層材料組合的比例對應(yīng)于在靶上具有相應(yīng)的層材料或?qū)硬牧辖M合的靶部段的比例，從而使得通過第一靶部段的第一涂層材料或第一涂覆層材料組合且通過第二靶部段的第二涂層材料或第二涂層材料組合以成比例方式對所述部件進(jìn)行涂覆。
根據(jù)有利的實施例，借助于可相對于靶進(jìn)行移動的氣體分配單元改變通過氣體流進(jìn)行濺射的不同涂層材料或?qū)硬牧辖M合的比例。按比例地由每個靶部段釋放涂層材料的基礎(chǔ)在于下列關(guān)系，所述關(guān)系為已通過經(jīng)驗方式建立起來的當(dāng)改變彼此不同的涂層材料的比例時，層的成分之間的關(guān)系，且此外可在數(shù)學(xué)上證實所述關(guān)系。不同層材料的靶部段的布置與可在涂覆的部件上獲得的層的成分之間的關(guān)系源自于統(tǒng)計分析，所述統(tǒng)計分析考慮了下述過程，由靶濺射出的顆粒在已經(jīng)行進(jìn)特定距離后再次沉積到位于與要進(jìn)行涂覆的部件距離較短的靶部段上，直至已經(jīng)到達(dá)靶的部件側(cè)端部，且顆粒被沉積到要進(jìn)行涂覆的部件的表面上。
在特定功率輸入下，位于特定點處，即位于具有預(yù)定成分的第一靶部段上的顆粒從其產(chǎn)生濺射到其重新沉積在第一靶部段的另一位置處的過程中行進(jìn)的平均路徑，或位于被布置在第一靶部段與要進(jìn)行涂覆的部件之間的第二靶部段上的顆粒行進(jìn)的平均路徑是已知的。在假設(shè)氣體流速恒定的情況下，可由顆粒從靶部段向要進(jìn)行涂覆的部件行進(jìn)的整個距離并且由單個濺射和沉積順序的持續(xù)時間計算每個顆粒直到沉積為止持續(xù)的時間。
這意味著與被布置在與要進(jìn)行涂覆的部件距離更短的位置處的顆粒相比，起初位于被設(shè)置在與要進(jìn)行涂覆的部件距離更遠(yuǎn)的位置處的靶部段上的顆粒需要更長的時間才能沉積在部件上。因此，對于被布置在與要進(jìn)行涂覆的部件更近的靶部段上的具有特定成分的顆粒而言，由于它們所要進(jìn)行的濺射和沉積順序更少，因此在單位時間里，更多的所述顆粒被沉積在要進(jìn)行涂覆的部件上。通過將具有特定成分的顆粒的靶部段布置在靶的限定點處，可通過充分利用該事實的優(yōu)點而準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)部件上的涂層成分。
在最后一段中，顆粒應(yīng)該包括帶電顆粒，換句話說是離子或中性顆粒，特別是由多個前述組群或晶體結(jié)構(gòu)或無定形結(jié)構(gòu)的顆粒形成的原子和/或分子。
使用靶部段導(dǎo)致可能將不同材料布置在一個靶上，且在考慮濺射和沉積順序的情況下可能預(yù)測每種材料在部件上的沉積量和沉積速度。
在每種涂覆工藝結(jié)束后，可通過改變靶部段的位置產(chǎn)生具有不同涂層成分的部件，以使得可通過使用靶部段實現(xiàn)單個涂層解決方案。
另一種可選方式是，或與前面的解決方案相結(jié)合，可能改變氣體的速度和/或量。特別地，可設(shè)置可以變化方式定位的氣體分配器。根據(jù)其位置，氣體分配器根據(jù)其位置覆蓋所有靶部段或僅一些靶部段，以使得可自由地設(shè)置靶的不同區(qū)域進(jìn)行濺射的時間點。這種變型可特別地用于制造多層涂層。此外，由于可根據(jù)需要快速地改變氣體分配器的位置，因此可產(chǎn)生極薄的層。借助于可變的氣體分配器和/或用于設(shè)置特定層成分的靶部段布置，可產(chǎn)生單分子或單原子層。這種層具有納米級層厚度且適用于制造從金向陶瓷層轉(zhuǎn)變的層，為此目的，目前使用的是層厚度達(dá)幾毫米的TGO層(熱生長氧化物)。
附圖標(biāo)記列表1、靶保持器2、冷卻本體外壁3、接觸片層4、緊固螺釘?shù)穆葆旑^5、板簧6、套筒7、緊固螺釘8、T形螺母9、靶部段10、T形螺母的接觸片層11、靶部段的接觸片層12、叉狀插接裝置13、冷卻本體
14、肋部15、外壁16、隔離設(shè)備17、冷卻劑通路18、入口冷卻劑19、出口冷卻劑20、接收裝置21、冷卻本體的內(nèi)側(cè)22、T形螺母的圓柱體23、附加部分24、靶部段中的溝槽25、內(nèi)螺紋T形螺母26、連接器27、接觸片層28、內(nèi)螺紋連接器29、槽狀凹部30、溝槽31、倒圓表面32、凹部33、T形螺母中的溝槽34、鎖定元件35、接觸片層的第一區(qū)域36、接觸片層的第二區(qū)域37、肋部
權(quán)利要求
1.一種用于濺射源的靶，其中所述靶可被再分成多個可交換的靶部段(9)，且每個靶部段(9)包含涂層材料，其中每個靶部段(9)與至少兩個相鄰靶部段(9′、9″)接界，其中每個靶部段可通過至多一個緊固裝置(7、8、10)被連接至底部本體(2、13、15)，其特征在于，所述緊固裝置與所述靶部段(9)具有中間空間，導(dǎo)電和導(dǎo)熱的裝置(6、10、11、12、27)被布置在所述中間空間中，以使得均勻的電流強(qiáng)度可被分配在所述靶部段(9)的表面上，且此外在所述靶部段上產(chǎn)生的熱量可被均勻地消散進(jìn)入所述底部本體內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于濺射源的靶，其中所述導(dǎo)電和導(dǎo)熱的裝置包括接觸片層(10、11、27)。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的用于濺射源的靶，其中所述緊固裝置(7、8、10)包括插接連接裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的靶，其中為多個靶部段(9、9′、9″、9、9″″)設(shè)置插接連接裝置(8、12)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的用于濺射源的靶，其中所述底部本體(2、13、15)包括冷卻本體(13)，每個靶部段(9)可被電耦合和熱耦合到所述冷卻本體上。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的用于濺射源的靶，其中每個靶部段(9)完全地包括涂層材料。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的用于濺射源的靶，其中至少一個靶部段(9)包括第一層材料或?qū)硬牧系牡谝唤M合，所述第一層材料或?qū)硬牧系牡谝唤M合不同于第二靶部段(9′、9″、9、9″″)的層材料或?qū)硬牧系慕M合。
8.一種根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的用于氣體流濺射方法的涂層源。
9.一種用于涂覆部件的方法，所述部件包括濺射源、根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的靶且還包括用于將濺射的涂層材料輸運至所述部件的氣體，所述方法包括的步驟有使氣體與所述靶表面接觸、由所述靶表面釋放顆粒、通過所述氣體流輸運所述釋放的顆粒、用來自所述氣體流的顆粒對所述部件進(jìn)行涂覆，其特征在于，所述氣體流由每個靶部段成比例地釋放要進(jìn)行涂覆的所述部件的所述顆粒。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述氣體流由所述靶部段釋放顆粒，從而使得所述部件上的不同層材料或?qū)硬牧辖M合的比例對應(yīng)于在所述靶上具有相應(yīng)的層材料或?qū)硬牧辖M合的所述靶部段(9、9′、9″、9、9″″)的比例，從而使得通過第一靶部段(9)的第一層材料或第一層材料組合且通過第二靶部段(9′、9″、9、9″″)的第二層材料或第二層材料組合以成比例方式對所述部件進(jìn)行涂覆。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的方法，其中借助于可相對于所述靶進(jìn)行移動的氣體分配單元改變通過所述氣體流進(jìn)行濺射的不同層材料或?qū)硬牧辖M合的比例。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10或11中任一項所述的方法，其中所述氣體包括惰性氣體特別是氬和/或所述氣體被形成為準(zhǔn)中性等離子體。
全文摘要
一種用于濺射源的靶可被再分成多個可交換的靶部段(9)。每個靶部段(9)包含涂層材料，其中每個靶部段(9)與至少兩個相鄰靶部段(9′、9″)接界，其中每個靶部段可通過至多一個緊固裝置(7、8、10)被連接至底部本體(2、13、15)。
文檔編號C23C14/54GK101067198SQ20071010190
公開日2007年11月7日 申請日期2007年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月26日
發(fā)明者W·比爾, G·埃申多爾夫 申請人:蘇舍美特科公司