專利名稱：：用于無機(jī)組合庫的打印液體溶液陣列的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明屬于制備液體溶液復(fù)本組合庫的方法和系統(tǒng)領(lǐng)域。液體溶液的母版陣列(masterarray)可以復(fù)制在基片上?？梢员热缤ㄟ^化學(xué)反應(yīng)和/或物理調(diào)理(physicalconditions)使液體溶液的陣列反應(yīng)以便提供固體產(chǎn)品無機(jī)組合物?？梢苑治鲋频玫漠a(chǎn)品組合物的組合陣列的所需性質(zhì)，諸如電學(xué)性質(zhì)、介電性質(zhì)、磁性、機(jī)械性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)和光學(xué)性質(zhì)、磷光性質(zhì)、晶核形成、超導(dǎo)性等。
背景技術(shù)：
：材料的組合陣列可用于比如篩選性質(zhì)獨(dú)特的或性質(zhì)增強(qiáng)的組合物。在生物科學(xué)中，組合陣列可用于發(fā)現(xiàn)具有所需結(jié)合或催化活性的分子。在材料科學(xué)中，已經(jīng)構(gòu)建組合陣列以便發(fā)現(xiàn)具有有用的物理、催化、化學(xué)、機(jī)械或光學(xué)性質(zhì)的材料。組合技術(shù)能提供有效的途徑來產(chǎn)生和篩選在醫(yī)藥、電子、光學(xué)、包裝、機(jī)械和更多領(lǐng)域中有用的材料。可以在許多領(lǐng)域中發(fā)現(xiàn)陣列，比如印刷、數(shù)學(xué)、視頻顯示、藝術(shù)、生命科學(xué)、電子學(xué)等。這些陣列通常包括許多聚集在陣列的均勻區(qū)、具有共同性質(zhì)的元素以便形成有趣的或有用的圖案(諸如，圖像、織構(gòu)或環(huán)境)。組合陣列通常包括基片，在該基片上任意不同或系統(tǒng)性差別的成份結(jié)合于不同位置處。大規(guī)模的組合庫可以包括處于不同位置處的不同材料組合的廣泛陣列，以提供含有各種有用性質(zhì)的可篩選的群體。人們發(fā)現(xiàn)化學(xué)中的組合陣列可用于發(fā)現(xiàn)具有獨(dú)特性質(zhì)的化學(xué)物質(zhì)或發(fā)現(xiàn)已知分子的改進(jìn)形式。在Agrafiotis等人的美國專利第5463564號(hào)"自動(dòng)產(chǎn)生具有所需性質(zhì)的化學(xué)配混物的系統(tǒng)和方法(SystemandMethodofAutomaticallyGeneratingChemicalCompoundswithDesiredProperties)"中，一禾中以電腦為基礎(chǔ)的迭代(interative)過程產(chǎn)生具有定義的化學(xué)性質(zhì)的化學(xué)實(shí)體。在每一次迭代過程中，根據(jù)機(jī)器合成指令由機(jī)器產(chǎn)生定向的多樣化化學(xué)庫；對該定向的多樣化化學(xué)庫中的化合物進(jìn)行分析以便確定具有所需性質(zhì)的化合物；使用結(jié)構(gòu)-性質(zhì)數(shù)據(jù)選擇將在下一次迭代作用中合成的化合物；自動(dòng)產(chǎn)生新的機(jī)器合成指令以便控制用于下一次迭代作用的定向多樣化化學(xué)庫的合成。Agrafiotis等人的組合有機(jī)化學(xué)是比如通過將液滴底物混合并分離到不同的有機(jī)試劑中的組合機(jī)器或順序?qū)⒃噭┺D(zhuǎn)移至固體支持物陣列位置的機(jī)器來操作的。生物領(lǐng)域中的組合陣列可以包括在諸如固體支持物上的珠子或格子之類的基片上的不規(guī)則的或系統(tǒng)的生物分子陣列。在Fodor等人的美國專利第5424186號(hào)"極大規(guī)模固定化聚合物合成(VeryLargeScaleImmobilizedPolymerSynthesis)"中，比如，將核苷酸的順序混合物延伸為生長在基片上的寡聚核苷酸。伴隨由通過掩模照明基片位置來指導(dǎo)的反應(yīng)，通過使用光活化作用化學(xué)系統(tǒng)來制備具有不同序列的寡聚核苷酸陣列。如同Agrafiotis技術(shù)，陣列的增殖需要通過重復(fù)整個(gè)合成順序來從頭再構(gòu)建。在無機(jī)材料科學(xué)中，已經(jīng)通過連續(xù)地或分別地將用于反應(yīng)的不同無機(jī)材料應(yīng)用在基片上來制備陣列。比如，在Shultz等人的美國專利第5985356號(hào)"新型材料組合合成(CombinatorialSynthesisofNovelMaterials)"中，在使混合物反應(yīng)前，多種不同的無機(jī)材料被應(yīng)用于陣列的多個(gè)不同區(qū)域以便形成無機(jī)材料的組合陣列。Shultz等人討論了使用自動(dòng)學(xué)分別地將不同的組合材料應(yīng)用在基片上，使用掩模指導(dǎo)將材料應(yīng)用到基片的特定區(qū)域，使用梯度以改變比率的形式將材料應(yīng)用到基片上，分隔陣列位置以便減少交叉污染。然而，要在基片上提供符合定義的、均勻的和可重復(fù)的具有比例相同的相同組合的陣列，存在問題。再次地，在Shultz等人的方法中，陣列復(fù)制過程需要從頭完全再構(gòu)建復(fù)本陣列(duplicatearray)。該發(fā)明可以被應(yīng)用于合成無機(jī)材料組合陣列的液體溶液方法中。然而，液體組合庫可能難以制備。本領(lǐng)域已知的制備液體組合庫的一般方法具有穩(wěn)定性、均勻性、統(tǒng)一性的問題，特別是如果陣列的成員包含溶劑化的金屬離子時(shí)。通常，僅僅可能使具有高化合價(jià)的離子(比如，諸如Ti4+、Ta5+和NbS+之類的稀土金屬離子)溶劑化。盡管某些有機(jī)溶劑可能偶爾在這方面起作用，更多情況下，這些離子沉淀形成非均勻的溶液或其它不穩(wěn)定的溶液。即使有人能夠生產(chǎn)含有這些金屬離子(包括高化合價(jià)稀土金屬離子)的溶液，如果加入新的溶劑或試劑，或與來自不同庫的溶劑組合或混合，仍然存在離子物質(zhì)沉淀或溶液不穩(wěn)定的可能性。對于水性溶液特別如此。因此，本領(lǐng)域需要一種穩(wěn)定材料液體陣列(包括高化合價(jià)離子溶液)的方法以便可以儲(chǔ)存該陣列以用于進(jìn)一步處理?？紤]這種中間體陣列在那種穩(wěn)定條件下可以被商業(yè)化以便另一個(gè)研究者或商業(yè)實(shí)體可以根據(jù)其自己的業(yè)主權(quán)益進(jìn)一步處理該陣列。本發(fā)明人己經(jīng)開發(fā)了用于控制和保持金屬離子以分子水平穩(wěn)定分散在溶液中，以此確保得到均勻的混合物的體系和方法，當(dāng)處理液體母版陣列或?qū)⑵滢D(zhuǎn)移至基片或中間體液體陣列時(shí)，這些技術(shù)特別有用。根據(jù)這些方法，使金屬前體和可溶聚合物反應(yīng)以形成不會(huì)遭受膠凝或沉淀常規(guī)問題的溶液。所述的聚合物與金屬離子活性結(jié)合并用于包埋金屬，防止混合物的組成離子之間的化學(xué)反應(yīng)，保持離子以均勻分布的方式存在于溶液中。換句話說，聚合物起作用以確保金屬離子均勻分布在溶液中，以及將離子相互分離開以便防止金屬離子成分之間發(fā)生不需要的反應(yīng)。在這種狀態(tài)下的穩(wěn)定化的陣列可以是母版陣列或復(fù)本陣列，它可以包含在最終沉積到基片上之前存在的陣列以便產(chǎn)生產(chǎn)品陣列。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，這種穩(wěn)定化的液體溶液(作為陣列的單個(gè)成員存在)一次穩(wěn)定期達(dá)數(shù)月。鑒于以上事實(shí)，人們需要能可靠地和可重復(fù)地通過液體溶液制備無機(jī)材料組合陣列的系統(tǒng)和方法。人們希望具有能容易地在可操作的基片上制備均勻的、混合良好的和穩(wěn)定的液體溶液復(fù)本陣列的系統(tǒng)。本發(fā)明提供這些和其它技術(shù)特征，通過閱覽以下內(nèi)容它們將顯而易見。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供制備無機(jī)材料組合的復(fù)本組合庫的方法和系統(tǒng)。這些組合可以反應(yīng)生成具有有用的可探測性質(zhì)的產(chǎn)品。制備無機(jī)材料組合的陣列的方法包括，比如制備具有為最終的無機(jī)材料組合設(shè)計(jì)的配方的、混合良好和均勻的液體溶液母版陣列和將母版陣列的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)移至基片上以便提供液體溶液組合的復(fù)本陣列的過程。母版陣列可以儲(chǔ)存起來以用于在另一時(shí)間制備相同的第二、第三或第四復(fù)本陣列?？梢詫?fù)本陣列進(jìn)行處理，比如曝露在某些物理?xiàng)l件下的某些化學(xué)反應(yīng)過程中以形成最終單相或多相材料的陣列?？梢詫Ψ磻?yīng)產(chǎn)品組合物進(jìn)行分析以確定有用的過程條件和/或鑒定具有所需性質(zhì)的組合物。本發(fā)明方法的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是能夠在同類基片上容易地和準(zhǔn)確地生產(chǎn)一套相同的各種組合物材料陣列以用于在不同化學(xué)或物理?xiàng)l件下進(jìn)行單個(gè)測試。母版陣列可以人工制備或通過自動(dòng)技術(shù)制備。無機(jī)材料溶液的儲(chǔ)備溶液通常人工制備以便具有已知濃度(摩爾濃度)的無機(jī)材料。起穩(wěn)定作用的聚合物可以包括在內(nèi)，比如以便使材料化學(xué)穩(wěn)定或幫助保持材料均勻分散在溶液中。可以通過比如混合母版陣列位置上的兩種或多種儲(chǔ)備溶液來制備兩種或多種無機(jī)材料的組合。母版陣列可以具有比如2個(gè)或更多個(gè)位置，8個(gè)或更多個(gè)位置，32個(gè)或更多個(gè)位置，96個(gè)或更多個(gè)位置，384個(gè)或更多個(gè)位置。每一個(gè)母版陣列位置能接受材料，該材料提供與在母版陣列上的其它位置的組合明顯不同的(比如在材料和/或材料比例上)無機(jī)材料組合。一般的母版陣列可以包括在兩個(gè)或多個(gè)孔中含有不同無機(jī)材料組合的一個(gè)或多個(gè)多孔板(muMwdldish)。無機(jī)材料可以是比如不包括碳-氫鍵的任何材料。無機(jī)物質(zhì)可以由在水性的和/或有機(jī)溶劑液體中的溶液形式的金屬化合物生產(chǎn)。在許多情況下，無機(jī)物質(zhì)可以是與溶液形式的起穩(wěn)定作用的聚合物相結(jié)合的金屬化合物。一般的無機(jī)物質(zhì)是金屬、金屬離子、金屬鹽和/或金屬氧化物。這些物質(zhì)可以是比如鋁、銻、鋇、鉍、硼、鎘、鈣、碳、鈰、鉻、鈷、銅、鏑、鉺、銪、禮、鍺、金、鉿、鈥、銦、銥、鐵、鑭、鉛、鋰、镥、鎂、錳、鉬、釹、鎳、鈮、鈀、鉑、釙、鐠、錸、銠、釕、釤、鈧、硒、硅、銀、鍶、鉭、碲、鋱、鉈、銩、錫、鈦、鎢、釩、鐿、釔、鋅、鋯的化合物，它們的氧化形式和/或它們的離子化形式?；梢允侨魏芜m用于復(fù)本陣列且與反應(yīng)兼容以產(chǎn)生產(chǎn)品組合物的基片?；话阌膳c反應(yīng)條件兼容且具有適合接受組合的轉(zhuǎn)移物和適合組合物分析的表面的材料制成。普通的基片由比如陶瓷、玻璃、石墨、硅、氧化鋁、聚合物、碳復(fù)合物、金屬等制成?；梢圆捎萌魏魏线m的形式，諸如平圓盤、分離的表面或珠群。將組合從母版陣列轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列的過程可以是順序的，或者可以并行轉(zhuǎn)移陣列的成員。復(fù)本陣列在布局上可以安排成與母版陣列準(zhǔn)確一致，或者復(fù)本可以包括與母版陣列排版不同的選擇組合成員。在一個(gè)實(shí)施方式中，轉(zhuǎn)移過程包含順序?qū)⒛赴骊嚵幸后w無機(jī)物質(zhì)組合用機(jī)器轉(zhuǎn)移至基片的過程。在代替的實(shí)施方式中，轉(zhuǎn)移過程包含比如使用轉(zhuǎn)移塊一次將液體無機(jī)物質(zhì)組合并行轉(zhuǎn)移到基片上的過程。使干燥的液體陣列的復(fù)本陣列反應(yīng)以形成產(chǎn)品固體無機(jī)材料陣列的過程可以通過將組合曝露在促進(jìn)所需反應(yīng)的化學(xué)和/或物理?xiàng)l件下來完成?？梢酝ㄟ^將材料組合曝露在某一溫度、pH、光頻率、金屬蒸汽(比如促進(jìn)外延生長)、壓力、溶劑、氣體等中某一時(shí)間長度來促進(jìn)反應(yīng)。溫度在許多實(shí)施方式中是重要的反應(yīng)參數(shù)。比如，可以通過將基片上的組合曝露于45(TC或更高的溫度下來進(jìn)行反應(yīng)以便形成產(chǎn)品組合物。反應(yīng)過程可以包括調(diào)節(jié)反應(yīng)環(huán)境壓力，比如從強(qiáng)真空至高壓，從約10托至約5000psi，從約100托至約2000psi，從約500托至約1000psi或從約760托至約100psi。可以通過分析產(chǎn)品組合物來確定有用的過程參數(shù)和組合物。可以通過檢測從基片上的一個(gè)或多個(gè)產(chǎn)品組合物發(fā)出的信號(hào)進(jìn)行分析。分析組合物可以基于光譜檢測、檢測電流、檢測測電壓、顯微鏡檢測、熒光檢測、磁檢測和或類似手段，視情況而定。在比較反應(yīng)過程參數(shù)的實(shí)施方式中，將相同的復(fù)本陣列從母版陣列轉(zhuǎn)移至兩個(gè)基片上，使第一復(fù)本陣列曝露在第一方法條件下，使第二復(fù)本陣列曝露在第二方法條件下。檢測來自第一和第二陣列相同位置的信號(hào)。比較從第一和第二陣列上的相應(yīng)陣列位置檢測到的信號(hào)以便確定第一和第二方法條件對無機(jī)材料組合影響的區(qū)別?？梢赃x擇形成更需要的產(chǎn)品的方法條件用于產(chǎn)品的大規(guī)模生產(chǎn)，或該條件可以為更多輪的過程參數(shù)篩選過程提供比較的標(biāo)準(zhǔn)。本發(fā)明中考慮制備無機(jī)材料組合的復(fù)本陣列和用于反應(yīng)和產(chǎn)品組合物篩選的系統(tǒng)。比如，所述的系統(tǒng)可以包括液體溶液母版陣列、具有接受液體溶液復(fù)本陣列的表面的基片、和將液體溶液從母版陣列轉(zhuǎn)移至基片表面的設(shè)備。無機(jī)材料液體溶液可以基本上如以上對于制備復(fù)本陣列的方法所描述的。該液體溶液可以包含無機(jī)溶液或聚合物穩(wěn)定的溶液。所述的聚合物可以是比如聚陰離子聚合物、聚陽離子聚合物、混合離子聚合物、肽、聚乙烯亞胺(PEI)、肝素、羧化聚乙烯亞胺(PEIC)、聚環(huán)氧乙垸、聚電解質(zhì)、聚丙烯酸酯、全氟磺酸酯、全氟羧酸酯、丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯腈、多核苷酸、蛋白質(zhì)、聚碳酸酯、二乙基氨基乙基-葡聚糖、硫酸葡聚糖、聚谷氨酸、聚磷酸酯、聚硼酸酯、次氮基三乙酸酯(NTA)、乙二胺四乙酸酯(EDTA)類、多組氨酸、DMPS、DMSA、DMSO、聯(lián)吡啶、乙二醇雙(2-氨乙基)四乙酸(EGTA)、羥乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、羥乙基淀粉(HES)、葡聚糖、糊精、菊粉、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚苯乙烯和/或類似物。轉(zhuǎn)移設(shè)備可以是任何合適的設(shè)備，諸如多管吸移管管理器、機(jī)器轉(zhuǎn)移設(shè)備、直接印刷或間接印刷技術(shù)、泵驅(qū)動(dòng)導(dǎo)管、順序轉(zhuǎn)移設(shè)備、并行轉(zhuǎn)移設(shè)備等。在一種實(shí)施方式中，轉(zhuǎn)移設(shè)備是具有按與母版陣列位置對齊來設(shè)置的轉(zhuǎn)移探管(probe)陣列的轉(zhuǎn)移塊。這些探管可以是比如針管或毛細(xì)管。系統(tǒng)可以包括比如加熱設(shè)備以便干燥材料組合、從組合中蒸發(fā)聚合物和/或提供優(yōu)選的反應(yīng)溫度。加熱設(shè)備可以是比如加熱板、干燥器、烘箱、加熱爐、加熱燈、激光、電阻加熱器等，以便在基片或陣列位置提供所需的熱量。在許多實(shí)施方式中，加熱設(shè)備是提供反應(yīng)溫度和/或壓力以便將材料組合轉(zhuǎn)化為產(chǎn)品組合物的烘箱。本發(fā)明的系統(tǒng)可以包括一個(gè)或多個(gè)檢測器以便檢測來自基片表面的信號(hào)。檢測器可以是比如歐姆表、熒光計(jì)、電壓表、安培表、光度計(jì)、電荷耦合裝置、磁力儀、酶、顯微鏡等。檢測器可以用于分析或篩選產(chǎn)品組合物的組合陣列以獲得有用的性質(zhì)。本發(fā)明的實(shí)施方式涉及制備液體溶液復(fù)本陣列的方法，該方法包括制備液體溶液母版陣列，每一種液體溶液在母版陣列中具有獨(dú)特的地址；將母版陣列的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)移至第一基片上。這種轉(zhuǎn)移可以依次(意味著每一個(gè)陣列成員按順序轉(zhuǎn)移)或并行(成員同時(shí)轉(zhuǎn)移)進(jìn)行。在并行轉(zhuǎn)移的情況下，可以使母版陣列與轉(zhuǎn)移塊接觸，然后使轉(zhuǎn)移塊與基片接觸。這樣就產(chǎn)生了液體溶液的第一復(fù)本陣列。然后可以將液體溶液陣列的該復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化為固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列。轉(zhuǎn)化作用可以通過干燥、化學(xué)反應(yīng)或通過將基片加熱至大于約20°C的溫度而發(fā)生。產(chǎn)品陣列中的固體無機(jī)材料可以是氧化的形式或離子形式。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，在母版陣列的每一個(gè)地址，母版陣列的液體溶液組合至少兩種金屬元素、金屬化合物、含有金屬的化合物或無機(jī)化合物，和它們的各種組合。母版陣列在陣列中具有至少8種溶液，因此具有至少8個(gè)位置。在本發(fā)明的一種實(shí)施方式中，母版陣列的每一種液體溶液包含在多孔板的一個(gè)孔中。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，其上印刷了復(fù)本陣列的基片可以包含各種材料，包括陶瓷、玻璃、硅、石英、石墨、聚合物、塑料、復(fù)合物、金屬和金屬化合物。而且，液體溶液母版陣列可以具有至少一種液體溶液以穩(wěn)定形式存在于陣列中。在一些實(shí)施方式中，穩(wěn)定的液體溶液可以用聚合物穩(wěn)定，但是考慮穩(wěn)定液體溶液的其它方法。當(dāng)聚合物被用于穩(wěn)定液體溶液時(shí)，至少一種液體溶液的成分可能結(jié)合到聚合物上。本發(fā)明的實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)包括制備兩個(gè)復(fù)本陣列或兩個(gè)產(chǎn)品陣列，比較這兩者之間的不同，它們僅僅在處理過程中具有輕微差別。由于每種陣列可以含有大量的地址，這使得要并行操作大量的實(shí)驗(yàn)。比如，本發(fā)明的實(shí)施方式包括制備液體溶液復(fù)本陣列的方法，該方法包括以下過程首先制備液體溶液的母版陣列，每一種液體溶液在母版陣列中具有獨(dú)特的地址；將每一種液體溶液的至少一部分從母版陣列轉(zhuǎn)移至第一基片以便形成液體溶液的第一復(fù)本陣列；將每種液體溶液的至少一部分從母版陣列轉(zhuǎn)移至第二基片以便形成液體溶液的第二復(fù)本陣列；使用第一方法以便將液體溶液的第一復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化為固體無機(jī)材料的第一產(chǎn)品陣列；使用第二方法將液體溶液的第二復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化為固體無機(jī)材料的第二產(chǎn)品陣列；然后檢測來自第一產(chǎn)品陣列的至少一個(gè)地址的信號(hào)，將該信號(hào)與從第二產(chǎn)品陣列的相應(yīng)地址檢測到的信號(hào)作比較。第一和第二方法參數(shù)可以是溫度、壓力、時(shí)間、輻射照射、化學(xué)反應(yīng)、溶劑曝露或氣體接觸。本發(fā)明的實(shí)施方式包括制備液體溶液復(fù)本陣列的系統(tǒng)。這種系統(tǒng)可以包含液體溶液母版陣列，每一種液體溶液在母版陣列中具有獨(dú)特的地址；基片，該基片具有接受來自液體溶液母版陣列的復(fù)本陣列的表面；用于將母版陣列的至少一種液體溶液轉(zhuǎn)移至基片表面以便制備復(fù)本陣列的轉(zhuǎn)移設(shè)備。轉(zhuǎn)移設(shè)備可以包含具有按照與母版陣列的液體溶液地址對齊來設(shè)置的轉(zhuǎn)移探管陣列的轉(zhuǎn)移塊。這些轉(zhuǎn)移探管可以包括針管或毛細(xì)管。定義除非此處或以下的說明書中另外指出，本文使用的所有科技術(shù)語具有本發(fā)明所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員共同認(rèn)為的意義。在具體描述本發(fā)明之前，應(yīng)該理解本發(fā)明不局限于特定設(shè)備或生物系統(tǒng)，它們當(dāng)然可以改變。也應(yīng)該理解，本文使用的術(shù)語僅僅出于描述特定實(shí)施方式的目的，無意對本發(fā)明進(jìn)行限制。如在說明書和附加的權(quán)利要求中使用的，單數(shù)形式"一"和"該"包括復(fù)數(shù)所指對象，除非該內(nèi)容另外清楚地闡明。因此，比如對"一種材料"的指代可以包括兩種或多種材料的組合；對"成分"的指代可以包括一種或多種成分等。盡管可以在實(shí)施本發(fā)明中使用許多與本文描述的方法和材料類似的、相當(dāng)?shù)?、或修改這些方法和材料所得的許多方法和材料，而無需進(jìn)行過度的實(shí)驗(yàn)，但是本文描述了優(yōu)選的材料和方法。在描述和要求保護(hù)本發(fā)明過程中，根據(jù)以下敘述的定義使用以下術(shù)語。如本文所使用的，術(shù)語"組合陣列"指在一個(gè)基片上不同位置的兩種或更多種不同產(chǎn)品組合物的集合，其中所述的產(chǎn)品組合物是由兩種或多種不同材料的組合生產(chǎn)的。如本文所使用的，術(shù)語"產(chǎn)品組合物"是指兩種或多種不同的無機(jī)材料的反應(yīng)產(chǎn)物。不同的產(chǎn)品組合物可以是不同的無機(jī)材料組合的反應(yīng)產(chǎn)物或以不同比例組合的相同無機(jī)材料的反應(yīng)產(chǎn)物。如本文所使用的，術(shù)語"反應(yīng)"是指任何將兩種或多種不同材料的組合轉(zhuǎn)化為產(chǎn)品組合物的化學(xué)或物理反應(yīng)。物理反應(yīng)包括，比如共結(jié)晶、熔合(fusion)、合金化(alloying)、汞齊化、熔化在一起(meltingtogether)、燒結(jié)等。化學(xué)反應(yīng)包括本領(lǐng)域已知的反應(yīng)，諸如兩種或多種元素和/或分子之間的分子鍵的形成。如本文所使用的，術(shù)語"基片"是指具有剛性或半剛性表面的材料，無機(jī)材料的液體溶液或懸浮液可以應(yīng)用在該表面上。如本文所使用的，術(shù)語"無機(jī)材料"是指不含碳?xì)?C-H)鍵的元素或分子。通常，無機(jī)材料是礦物或金屬。"無機(jī)材料組合"是指兩種或多種不同無機(jī)材料的混合物或固溶體。如本文所普遍使用的，術(shù)語"金屬"是指金屬鹽、金屬氧化物、金屬離子、作為分子、晶體或合金的一種成分的金屬；或元素形式的金屬。術(shù)語"母版陣列"是指可由其轉(zhuǎn)移一份或多份復(fù)本陣列的兩種或多種不同液體溶液的陣列。"復(fù)本陣列"是指從母版陣列轉(zhuǎn)移至基片上的液體溶液母版陣列的復(fù)制品。復(fù)本陣列可以具有以與母版陣列相同的或不同的空間次序(諸如以"鏡像"排版或更高密度微陣列)排版的液體溶液。如本文所使用的，術(shù)語"蒸發(fā)"是指以蒸汽或氣體的形式除去某些組分。如本文所使用的，術(shù)語"熔合"是指由加熱造成的兩種或多種不同材料的組合。比如，熔化金屬、形成合金或加熱和冷卻以便形成兩種或多種無機(jī)材料的晶體。如本文所使用的，術(shù)語"燒結(jié)"是指通過將兩種或多種不同材料的混合物加熱至小于至少一種材料的熔點(diǎn)的溫度而使該混合物轉(zhuǎn)化為固體物質(zhì)。圖1顯示了用于制備液體溶液復(fù)本陣列、反應(yīng)和分析相關(guān)無機(jī)產(chǎn)品組合物組合陣列的示例性機(jī)器系統(tǒng)的示意圖。圖2顯示了表明制備復(fù)本陣列的過程步驟的示意圖和圖像，該制備過程是通過將液體溶液從母版陣列并行轉(zhuǎn)移至基片上的復(fù)本陣列來實(shí)現(xiàn)的。圖3顯示了磷光體產(chǎn)品組合物陣列的照明圖像和檢測技術(shù)的示意圖。圖4顯示了為提供具有不同性質(zhì)的產(chǎn)品組合物的組合陣列而在不同條件下處理的復(fù)本陣列的圖像。圖5顯示了由復(fù)本陣列制備的產(chǎn)品組合物陣列。具體實(shí)施例方式本發(fā)明涉及制備液體溶液的復(fù)本陣列和無機(jī)材料產(chǎn)品組合物的組合陣列的方法和系統(tǒng)。液體溶液母版陣列可以在比如多孔板中制備。可以將母版陣列依次和/或并行轉(zhuǎn)移至基片的表面以便提供母版陣列的復(fù)本陣列?？梢允共牧辖M合反應(yīng)以形成組合的產(chǎn)品組合物。對組合物進(jìn)行分析以便鑒定它們的性質(zhì)。制備復(fù)本液體溶液組合陣列的方法制備無機(jī)材料產(chǎn)品組合物陣列的方法通常可以包括以下步驟制備液體溶液的母版陣列，將母版陣列組合的樣品轉(zhuǎn)移至基片上的位置以便提供材料組合的復(fù)本陣列，使這些組合反應(yīng)以便形成產(chǎn)品無機(jī)組合物的組合陣列。反應(yīng)可以包括在組合中的材料間的化學(xué)和/或物理反應(yīng)。可以檢測從陣列位置處的材料或產(chǎn)品發(fā)出的信號(hào)以進(jìn)行分析。在基片上復(fù)制液體溶液陣列可以通過各種合適的技術(shù)將無機(jī)材料或聚合物穩(wěn)定的無機(jī)材料溶液從母版陣列轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列。母版陣列材料轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列的過程可以依次和/或并行、直接或間接、人工或自動(dòng)地進(jìn)行。比如，組合的金屬氧化物(無機(jī)材料組合)溶液的組合陣列可以通過在96孔板液體母版陣列的孔中人工組合不同金屬鹽來形成。液體溶液陣列可以通過使用比如機(jī)械臂末端的針頭(可濕潤探針)轉(zhuǎn)移設(shè)備將其依次轉(zhuǎn)移至基片上的位置處以便制備材料組合的復(fù)本陣列。任選地，機(jī)械臂可以包括，比如多管吸移管管理器頭以便將多種材料組合一次轉(zhuǎn)移至基片上?？梢詫訜幔稍锊Y(jié)復(fù)本陣列位置處的液體溶液以便形成產(chǎn)品無機(jī)組合物的組合陣列。或者，可以使用并行轉(zhuǎn)移技術(shù)來制備復(fù)本陣列。比如，可以用機(jī)器在384孔板中組合無機(jī)材料溶液的儲(chǔ)備溶液以便提供母版陣列。提供具有從板支持體表面突出的探頭的轉(zhuǎn)移塊，該支持體表面采用與384孔板中的孔間隔對齊的模式。以探頭與孔對齊的方向放置該轉(zhuǎn)移塊以便探頭可以被一次浸入以接觸多孔中的溶液。與溶液接觸的探頭是濕的。將轉(zhuǎn)移塊重新定位在基片表面上方以便濕探頭并行接觸表面和將溶液轉(zhuǎn)并行移至表面以便在基片上產(chǎn)生液體溶液的復(fù)本陣列。如上所述，可以加熱基片以便形成產(chǎn)品無機(jī)組合物陣列，用于分析。在另一種實(shí)施方式中，可以直接將母版陣列的溶液轉(zhuǎn)移至基片表面。比如，可以將基片表面置于直接處于多孔板中材料組合的母版陣列上方的位置?？梢詳D壓基片使其與孔板上部密封接觸，比如將孔板和基片倒扣在一起。來自母版陣列的液體材料組合將接觸和濕潤位置處的基片表面以便在基片上提供母版陣列的鏡像復(fù)本?？梢韵蛘戏綆Щ乜装?基片組合，移去基片以用于反應(yīng)和分析。該過程可以用新基片重復(fù)以便制備多個(gè)復(fù)本。任選地，在與膠版印刷類似的技術(shù)中，鏡像陣列可以被轉(zhuǎn)移至轉(zhuǎn)移表面，轉(zhuǎn)移表面被帶去與基片接觸以便提供具有與母版陣列相同的陣列成員順序的復(fù)本陣列(即非鏡像陣列)。在另一種實(shí)施方式中，一部分液體溶液陣列從母版陣列轉(zhuǎn)移至基片上的復(fù)本陣列，比如在復(fù)本陣列排版中不必重復(fù)或反映母版陣列的排版。比如，具有母版陣列組合數(shù)據(jù)庫的計(jì)算機(jī)可以指導(dǎo)機(jī)器轉(zhuǎn)移設(shè)備將特別關(guān)注的組合轉(zhuǎn)移至基片上，比如轉(zhuǎn)移的次序不由母版陣列的原始次序決定。該計(jì)算機(jī)可以保留被轉(zhuǎn)移至每一個(gè)復(fù)本陣列位置的母版陣列組合的記錄?？梢允怪频玫膹?fù)本陣列反應(yīng)并進(jìn)行分析。如本領(lǐng)域中所認(rèn)為的，根據(jù)該方法的計(jì)算機(jī)記錄，容易確定關(guān)注產(chǎn)品的組成和相應(yīng)的母版陣列位置。無機(jī)材料溶液應(yīng)用于本發(fā)明陣列中的受關(guān)注的無機(jī)材料可以是比如無碳-氫鍵的元素、離子或分子。為了應(yīng)用于基片，這些無機(jī)材料形成液體形式的溶液。液體可以是比如水、極性溶劑、有機(jī)溶劑、和/或疏水液體。這些材料可以與一種或多種起穩(wěn)定材料溶液作用的聚合物相結(jié)合。本發(fā)明中關(guān)注的許多有用的無機(jī)材料包括元素形式或金屬化合物形式的金屬。比如，無機(jī)材料可以包含元素形式、離子形式、和/或化合物形式的以下物質(zhì)比如鋁、銻、鋇、鉍、硼、鎘、鈣、碳、鈽、鉻、鈷、銅、鏑、鉺、銪、釓、鍺、金、鉿、鈥、銦、銥、鐵、鑭、鉛、鋰、镥、鎂、錳、鉬、釹、鎳、鈮、鈀、鉑、針、鐠、錸、銠、釕、釤、鈧、硒、硅、銀、鍶、鉭、碲、鋱、鉈、銩、錫、鈦、鎢、釩、鐿、釔、鋅、鋯、它們的氧化形式、它們的離子形式、和/或類似物。離子化形式可以包括金屬鹽，諸如碳酸鹽、硝酸鹽、磷酸鹽、氯化物、乙酸鹽、螯合形式、和/或類似物。用于本發(fā)明的聚合物可以穩(wěn)定溶液中的無機(jī)材料。如本文關(guān)于聚合物所使用的，穩(wěn)定化是指與關(guān)注的無機(jī)材料發(fā)生相互作用以便可以使用本發(fā)明的方法前后一致地應(yīng)用這些無機(jī)材料。通常，在加工本發(fā)明的組合陣列的至少一個(gè)階段中，將聚合物溶液與金屬離子溶液混合以便產(chǎn)生穩(wěn)定的陣列。可以通過將諸如聚乙烯亞胺(C2H5N)n之類的聚合物溶解在水中來制備聚合物溶液?？梢詫⑵渌煞秩缫叶匪囊宜?EDTA，doHwN208)加入該溶液中。接下來，通過將鹽溶解在水中來制備組合庫中被調(diào)查的金屬離子的相應(yīng)鹽。在本發(fā)明的一種實(shí)施方式中，可以使用硝酸鹽。然后將金屬離子溶液與聚合物溶液混合以便聚合物/EDTA包埋所述的金屬離子。在一些情況中，可能必需在聚合物/EDTA金屬鹽溶液中加入酸或堿以促進(jìn)包埋作用。其它可以與EDTA結(jié)合使用以便包埋金屬離子和穩(wěn)定液體陣列的聚合物包括聚陰離子聚合物、聚陽離子聚合物、混合離子聚合物、肽、聚乙烯亞胺(PEI)、肝素、羧化聚乙烯亞胺(PEIC)、聚環(huán)氧乙烷、聚電解質(zhì)、聚丙烯酸酯、全氟磺酸酯、全氟羧酸酯、丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯腈、多核苷酸、蛋白質(zhì)、聚碳酸酯、二乙基氨基乙基-葡聚糖、硫酸葡聚糖、聚谷氨酸、聚磷酸酯、聚硼酸酯、次氮基三乙酸酯(NTA)、乙二胺四乙酸酯(EDTA)類、多組氨酸、DMPS、DMSA、DMSO、聯(lián)吡啶、乙二醇雙(2-氨乙基)四乙酸(EGTA)、羥乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、羥乙基淀粉(HES)、葡聚糖、糊精、菊粉、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚苯乙烯和/或類似物。實(shí)際上，周期表中的任何金屬可以被用于本發(fā)明的實(shí)施方式。比如，所述的金屬可以包括第IA族元素，諸如U、Na、K、Rb或Cs。這些離子是單價(jià)的。或者，所述金屬可以包括來自第IIA族堿土金屬列的二價(jià)離子，諸如Ca、Sr、Ba、Mg，或其它二價(jià)金屬離子，諸如Co、Mn、Zn和Pb。三價(jià)金屬離子包括Al、Ga、La、Ce、Pr、Nd、Po、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y、Bi和Cr。四價(jià)的金屬離子和/或半導(dǎo)體元素包括Ge、Zr、Hf和Sn。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式可以被穩(wěn)定的五價(jià)金屬離子和無機(jī)非金屬元素包括V和P，六價(jià)的金屬是Mo和W。比如，起穩(wěn)定作用的聚合物可溶解于選擇的應(yīng)用液體中，可以具有與無機(jī)材料相互作用以便促進(jìn)其均勻分散在所述液體中的離子性質(zhì)、螯合性質(zhì)、和/或增粘性質(zhì)。在應(yīng)用過程中操作液體時(shí)和/或在過程之間保存液體時(shí)，起穩(wěn)定作用的聚合物可以幫助保持材料均勻的分散。一些起穩(wěn)定作用的聚合物具有還原氧化和/或沉淀無機(jī)材料的有用性質(zhì)。在無機(jī)材料作為離子存在于溶液中的實(shí)施方式中，起穩(wěn)定作用的聚合物具有相反電荷的離子基以便材料與聚合物形成離子連接。聚合物的溶解、懸浮和/或結(jié)構(gòu)基質(zhì)(比如，互相纏結(jié)的或交聯(lián)的凝膠基質(zhì))也可以幫助保持離子材料均勻分散在應(yīng)用液體中。離子聚合物能與離子材料的反離子交換以避免具有反離子的離子的溶解性限制。伴隨與聚合物連接的(比如，以離子鍵連接)無機(jī)材料離子，通過比如超濾或透析，可以將不需要的反離子和其它雜質(zhì)從應(yīng)用液體中除去。起穩(wěn)定作用的離子聚合物可以包括比如聚陰離子聚合物、聚陽離子聚合物、混合離子聚合物、肽、核苷酸、聚乙烯亞胺(PEI)、肝素、羧化聚乙烯亞胺(PEIC)、聚環(huán)氧乙烷、聚電解質(zhì)、聚丙烯酸酯、全氟磺酸酯、全氟羧酸酯、丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯腈、多核苷酸、蛋白質(zhì)、聚碳酸酯、二乙基氨基乙基-葡聚糖、硫酸葡聚糖、聚谷氨酸、聚磷酸酯、聚硼酸酯等。無機(jī)材料是離子材料時(shí)，起穩(wěn)定作用的聚合物較優(yōu)地包含某些螯合特征?？梢酝ㄟ^與具有可用螯合基的聚合物結(jié)合使材料組合溶液中的金屬離子(諸如堿土金屬離子和許多過渡金屬離子)穩(wěn)定。比如，起穩(wěn)定作用的聚合物可以具有諸如次氮基三乙酸酯(NTA)、乙二胺四乙酸酯(EDTA)類、多組氨酸、DMPS、DMSA、DMSO、聯(lián)吡啶、乙二醇雙(2-氨乙基)四乙酸(EGTA)、羥乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)和/或類似物之類的螯合基。在無機(jī)材料容易在應(yīng)用液體中形成非均一分散時(shí)(比如，在材料是顆粒、沉淀物、吸附到表面上或脫離懸浮時(shí))，粘性的聚合物或支持性的聚合物基質(zhì)可以幫助保持材料均勻分散在液體中足夠長的時(shí)間以便將材料均勻地、一致地或可重復(fù)地轉(zhuǎn)移和應(yīng)用到基片上。當(dāng)提高應(yīng)用溶液粘度的起穩(wěn)定作用的聚合物用于本發(fā)明的方法和系統(tǒng)時(shí)，可以提供有利之處。粘性聚合物存在于應(yīng)用溶液中可以幫助保持材料在液體中的均一性。粘性聚合物的存在可以減少懸浮的但不溶的無機(jī)材料的沉降。粘性聚合物可以減少液體中的對流，因此比如減少液體儲(chǔ)存過程中材料曝露在不利的反應(yīng)試劑如氧氣或水中。合適的起穩(wěn)定作用的增粘聚合物使液體的粘度增加至少50%,或使液體的粘度提高至少10厘泊(CP)。優(yōu)選的起穩(wěn)定作用的增粘聚合物以一定量存在于液體中，該量足以使粘度增加約100cP、約1000cP、約104cP、約105cP、約106cP、約10cP或更多。上述起穩(wěn)定作用的聚合物可以提供有利的粘度增加。其它有用的起穩(wěn)定作用的增粘聚合物包括，比如羥乙基淀粉(HES)、葡聚糖、糊精、菊粉、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚苯乙烯等。許多起穩(wěn)定作用的增粘聚合物帶來的其它好處是增強(qiáng)了組合溶液和基片之間的相互作用。聚合物能增加液體對基片的親和性(比如使其更粘)以便在施加液體后，液體保持與基片接觸。更粘的液體能流得更慢以便它們在處理步驟過程中不會(huì)從陣列位置上過度移動(dòng)。在其它實(shí)施方式中，通過選擇幫助避免材料沉淀的溶劑和/或反離子使無機(jī)材料保持在均勻的溶液中。比如，許多金屬提高了在溶液中的溶解度，如硝酸鹽。任選地，可以使用某些非水性溶劑(比如有機(jī)或硅溶劑)，使一些材料保留在溶液中。母版陣列母版陣列包括作為溶液保留在兩個(gè)或多個(gè)位置的無機(jī)材料組合。因?yàn)殛嚵谐蓡T是液體形式的，母版陣列的位置通常需要某種容納形式，諸如孔、容器、防水表面、濕潤表面和/或液體移動(dòng)邊界?？梢栽谂c母版陣列分離的位置上制備材料組合，但是通常在陣列位置原位制備組合。制備母版陣列通常以配制無機(jī)材料儲(chǔ)備溶液開始。將濃縮形式的無機(jī)物質(zhì)(比如高級(jí)純液體溶液或物質(zhì)的鹽)溶解在溶劑中或與溶劑混合以便提供已知摩爾濃度的儲(chǔ)備溶液或懸浮液。根據(jù)物質(zhì)，儲(chǔ)備溶液的制備可能需要調(diào)節(jié)pH、加熱、加入用于溶解的反離子、加入表面活性劑、加入起穩(wěn)定作用的聚合物、攪拌等以便提供均勻的儲(chǔ)備液體。可以以不同的組合和/或比例在不同的母版陣列位置組合無機(jī)材料的儲(chǔ)備溶液以便提供母版陣列。陣列經(jīng)常是以行和列排列的矩陣形式的陣列。比如，陣列的每一行和每一列可以包括不同的無機(jī)材料。在特定行的每個(gè)位置上的第一材料可以與每一列中的不同材料混合。在另一行的每一個(gè)位置上的第二材料也可以與每一列中的不同材料混合。在每一行和每一列中具有不同材料的情況下，可以提供在每一個(gè)位置上具有不同材料組合的母版陣列。任選地，可以通過比如在不同的位置、行和/或列中包括不同量的材料來考慮組合的化學(xué)計(jì)量比，由此在不同位置上提供比例不同的相同材料的組合。任選地，母版陣列可以不那么規(guī)則，比如在兩個(gè)或多個(gè)位置有多余的組合、空位置、非行或列排列的陣列、無歸則的組合、無規(guī)則的比例等?？梢匀斯ぶ苽淠赴骊嚵形恢蒙系慕M合。技術(shù)員可以使用吸移管管理器、多管吸移管管理器、重復(fù)吸移管管理器、可編程的吸移管管理器和/或類似設(shè)備將定量的儲(chǔ)備溶液轉(zhuǎn)移至母版陣列位置。比如，技術(shù)員可以使用12頭(tips)多管吸移管管理器將第一材料儲(chǔ)備溶液一次轉(zhuǎn)移至96孔板的整行中?？梢允褂?2頭吸移管管理器將不同的儲(chǔ)備溶液轉(zhuǎn)移至96孔板剩下的7行中。使用8頭吸移管管理器，技術(shù)員可以一次一列將不同的儲(chǔ)備溶液轉(zhuǎn)移至多孔板的12列中。結(jié)果是形成孔板上96種不同材料組合的陣列。任選地，可以在任何特定的母版陣列位置組合兩種以上不同的材料。任選地，任何或所有的行或列可以具有不同量的某些材料，以便比如提供在不同位置具有不同反應(yīng)化學(xué)計(jì)量比的相同材料組合的陣列?？梢哉J(rèn)為單個(gè)多孔板或單個(gè)多孔板的一部分是母版陣列。兩個(gè)或多個(gè)多孔板或這些多孔板的一部分也可以被認(rèn)為是母版陣列。在每個(gè)位置處可以以較大體積組合材料來制備母版陣列母板。可以將母板的等分部分轉(zhuǎn)移至一個(gè)或多個(gè)子板以用于比如作為母板陣列即時(shí)使用，而將母板儲(chǔ)存起來(比如冷凍或冷藏)以備以后使用。母版陣列可以使用自動(dòng)或半自動(dòng)技術(shù)來制備。特別是對于非常大的陣列，自動(dòng)組合材料能提供制備母版陣列的制備成本、速度和可靠性方面的優(yōu)勢。通常，自動(dòng)制備陣列(比如機(jī)器制備)以類似于上述的人工技術(shù)的模式進(jìn)行。機(jī)器可以通過重復(fù)的浸濕和轉(zhuǎn)移步驟或通過導(dǎo)管轉(zhuǎn)移(所述導(dǎo)管含有不同儲(chǔ)備溶液的分隔流)來依次提供儲(chǔ)備溶液。母版陣列就陣列位置的數(shù)量和排列方面可以發(fā)生廣泛的變化。人工制備的母版陣列比如可以在兩個(gè)、約8個(gè)、約96個(gè)、約384個(gè)或更多位置處舒適地包括不同的材料的組合。機(jī)器的液體操作設(shè)備可以容易地制備具有獨(dú)特的組合和/或材料比例的組合無機(jī)材料母版陣列，數(shù)量從比如小于約24個(gè)位置至約96個(gè)位置、至約384個(gè)位置、至約1536個(gè)位置或更多。通過使用多個(gè)母版陣列板和/或通過使用微陣列版式，母版陣列可以包括大量獨(dú)特的陣列組合，比如從約100個(gè)組合、至約103個(gè)組合、至約104個(gè)組合、至約105個(gè)組合、至約106個(gè)組合、至約107個(gè)組合、至約108個(gè)組合或更多，它們具有顯著不同的組合和/或材料比例。在某些實(shí)施方式中，母版陣列可以具有比如約0.01至10或更多的陣列組合/毫米，或約0.1至100或更多的陣列組合/毫米2?；ǔＪ莿傂曰虬雱傂缘牟牧?，具有其上施加了含有無機(jī)材料的液體的表面?；哂羞m合比如特定陣列復(fù)制過程和成分反應(yīng)和分析技術(shù)的形狀?；梢杂赡艹惺懿僮骱吞幚?xiàng)l件(諸如高溫和曝露于液體)的材料形成?；ǔＪ蔷哂衅教共牧鲜┘颖砻娴臒岱€(wěn)定的固體。比如，基片可以是基本上不會(huì)在空氣存在下被約45(TC和200(TC之間的溫度破壞的平坦陶瓷圓盤。在其它實(shí)施方式中，基片可以由比如玻璃、金屬、石墨、硅、氧化鋁、碳復(fù)合物、陶瓷、聚合物、和/或類似物來制造?？梢允够纬伤茍A盤、卡片、圓筒、球體、管子等的形狀。在一些實(shí)施方式中，基片可以是兩個(gè)或多個(gè)珠的形式?；谋砻婵梢跃哂羞m合處理、保持和顯示無機(jī)組合物的組合陣列的位置。該表面可以是光滑的和均一的以便比如提供與某些復(fù)制過程中使用的設(shè)備的簡單、精確的接觸?；砻婵梢允谴植诨蚨嗫椎囊员阄胶?或保留施加的材料。基片表面可以具有由邊界確定的位置，諸如通道、脊、疏水區(qū)域、親水區(qū)域、和/或類似物，以在復(fù)本陣列的特定位置處保留轉(zhuǎn)移的材料。表面可以包括比如用于對施加設(shè)備定位的參考標(biāo)記。比如，表面的邊緣可以包括物理參考物，諸如孔、槽或針，它們與施加設(shè)備框架相互作用以便在材料被施加于表面上時(shí)使基片保持處于設(shè)備的相對位置。參考標(biāo)記可以是比如兩個(gè)或多個(gè)圓點(diǎn)或印在表面的其它指示物，用于與施加設(shè)備操作面上的特定點(diǎn)對準(zhǔn)，在施加設(shè)備中精確地人工安排基片，或由成像系統(tǒng)檢測以確定基片在施加設(shè)備中合適的對準(zhǔn)。復(fù)本陣列復(fù)本陣列是從母版陣列轉(zhuǎn)移至基片上的液體溶液的陣列。復(fù)本陣列可以包括所有或部分母版陣列成員。復(fù)本陣列可以排列成與母版陣列相同，或復(fù)本陣列可以具有位于不同布局中的陣列成員(來自特定陣列位置的組合)。組合從母版陣列轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列可以如上所述是直接的或間接的、依次的或一次性的?？梢蕴幚韽?fù)本陣列以使組合物質(zhì)反應(yīng)，在基片的不同位置形成不同的產(chǎn)品組合物。根據(jù)材料組合從母版陣列轉(zhuǎn)移的技術(shù)，復(fù)本陣列可以具有基本上與母版陣列相同的組合布局，或復(fù)本陣列可以具有不同的布局。比如，在使用轉(zhuǎn)移塊將所有的母版陣列成員一次轉(zhuǎn)移至基片的情況下，得到的通常是位置的安排次序和間隔與母版陣列基本上相同的復(fù)本陣列。在直接在母版陣列和復(fù)本陣列之間轉(zhuǎn)移(比如如上所述的密封接觸和倒置(inversion))的情況中，鏡像復(fù)本具有次序相反的陣列成員，但保留與母版陣列基本上相同的間隔。在一些實(shí)施方式中，比如在某些依次轉(zhuǎn)移技術(shù)中，復(fù)本陣列的成員被轉(zhuǎn)移至比母版陣列中更靠近和/或次序不同的位置中。本發(fā)明的一方面，可以將可能包含在兩個(gè)或多個(gè)多孔板上的大母版陣列復(fù)制在較小的單個(gè)基片上。比如，機(jī)器可以依次將母版陣列上間隔1cm的各組合轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列基片上間隔lmm或更小的位置中。任選地，一個(gè)或多個(gè)母版陣列板上的所有或部分母版陣列成員可以被轉(zhuǎn)移至面積比母版陣列中相同的材料組合所占據(jù)面積小約2倍、10倍、100倍或1000倍的復(fù)本陣列的基片位置中。復(fù)本陣列上的位置可以具有1個(gè)位置/cm2、4個(gè)位置/cm2、16個(gè)位置/cm2、100個(gè)位置/cm2、10000個(gè)位置/cm2、或更大的密度。復(fù)本陣列可以在數(shù)量和陣列位置的安排方面廣泛變化。在一個(gè)或多個(gè)基片上的一個(gè)復(fù)本陣列可以包括一個(gè)或多個(gè)母版陣列的所有或部分成員。比如，來自一個(gè)或多個(gè)母版陣列的組合無機(jī)材料的復(fù)本陣列可以在比如從小于約8個(gè)位置至約24個(gè)位置、至約96個(gè)位置、至約384個(gè)位置、至約1536個(gè)位置、或更多位置處包括獨(dú)特的組合和/或材料比例。通過使用多個(gè)復(fù)本陣列基片或通過使用微陣列版式，復(fù)本陣列可以包括大量處于不同位置的獨(dú)特陣列組合，比如在復(fù)本陣列庫中具有顯著不同的組合的約100個(gè)組合至約103個(gè)組合、至約104個(gè)組合、至約105個(gè)組合、至約106個(gè)組合、至約107個(gè)組合、至約108個(gè)組合或更多。.可以重復(fù)轉(zhuǎn)移步驟以制備多個(gè)具有基本上相同數(shù)量的材料組合的復(fù)制板。比如，可以重復(fù)依次轉(zhuǎn)移操作以從同一母版陣列提供附加的復(fù)本陣列。在另一個(gè)實(shí)施方式中，可以重復(fù)并行轉(zhuǎn)移，諸如轉(zhuǎn)移塊轉(zhuǎn)移、接觸和倒置轉(zhuǎn)移或膠版印刷轉(zhuǎn)移，以提供比如具有相同數(shù)量材料組合的兩個(gè)或多個(gè)復(fù)制板。組合材料的反應(yīng)可以使復(fù)本陣列位置處的液體溶液形式的兩種或多種不同無機(jī)材料的混合物(比如無機(jī)材料組合的液體陣列)反應(yīng)，形成反應(yīng)產(chǎn)品組合物的組合陣列。在一些情況下，不同的材料比如在母版陣列的孔中與其它材料接觸將自發(fā)反應(yīng)。在許多情況下，通過將復(fù)本陣列曝露于某些物理或化學(xué)條件下來啟動(dòng)材料組合的反應(yīng)。如本文所使用的，術(shù)語"反應(yīng)"是指在陣列位置處無機(jī)材料的化學(xué)和/或物理結(jié)合，形成比如物質(zhì)的反應(yīng)產(chǎn)物組合物分子、晶體、汞合金、燒結(jié)產(chǎn)物或合金。基片上陣列位置處的反應(yīng)可以根據(jù)比如反應(yīng)的性質(zhì)和反應(yīng)所需的條件同時(shí)或依次發(fā)生。反應(yīng)至少部分地包括無機(jī)材料混合物相互之間和/或與其它工藝成分的化學(xué)反應(yīng)。比如，在陣列位置處的兩種元素金屬的反應(yīng)可以包括由環(huán)境中存在的空氣氧造成的或由材料組合溶液或懸浮液中存在的化學(xué)氧化劑造成的金屬氧化反應(yīng)。在一些實(shí)施方式中，當(dāng)陣列位置處材料組合中的液體蒸發(fā)而使無機(jī)材料濃縮在一起時(shí)，反應(yīng)發(fā)生。比如，失去結(jié)合水會(huì)造成一些材料混合物相互反應(yīng)。在其它情況下，失去應(yīng)用液體溶劑會(huì)使材料曝露于外部反應(yīng)試劑中，致使材料與比如來自大氣的水或氧氣發(fā)生共反應(yīng)。在一種或多種無機(jī)材料與起穩(wěn)定作用的聚合物結(jié)合的實(shí)施方式中，當(dāng)比如通過蒸發(fā)作用除去聚合物時(shí)，反應(yīng)發(fā)生。比如，在無機(jī)材料通過離子相互作用與帶電荷的聚合物結(jié)合的情況下，材料不能與該位置處的其它材料反應(yīng)直到通過加熱除去聚合物。環(huán)境中氧氣的存在能加速除去聚合物的過程(即聚合物被燒掉)。在其它實(shí)施方式中，反應(yīng)可以包括在復(fù)本陣列基片上將組合的無機(jī)材料燒結(jié)在一起。在燒結(jié)過程中，干燥的液體溶液在低于它們的熔點(diǎn)的溫度下被結(jié)合在一起，但是該溫度對于形成所需無機(jī)材料的固相的相互作用來說是足夠高的。所得的可能是比如微孔非均質(zhì)的或均質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)。在氧氣存在下，燒結(jié)過程也會(huì)導(dǎo)致一種或多種無機(jī)材料的氧化。在其它實(shí)施方式中，反應(yīng)包括將組合的無機(jī)材料的熔合在一起。熔合的反應(yīng)產(chǎn)物可以是比如滎合金、晶體或合金。在一些情況下，某些無機(jī)材料不需加熱就熔合。在許多情況下，需要加熱以便將混合的無機(jī)材料熔合。在每一種材料都是純元素金屬的材料組合的情況下，根據(jù)依數(shù)性對熔化溫度的影響，混合的組合物可以在小于任何一種純金屬的熔化溫度的溫度下熔化。純金屬熔合產(chǎn)生汞合金或合金反應(yīng)產(chǎn)物，特別是當(dāng)所處環(huán)境不含氧化劑時(shí)。在氧化劑(諸如大氣氧)存在時(shí)，熔化的金屬會(huì)變成氧化物，結(jié)果得到比如金屬氧化物晶體反應(yīng)產(chǎn)物組合物。在許多本發(fā)明的實(shí)施方式中，組合材料的反應(yīng)依靠將基片溫度提高至環(huán)境條件以上。比如，可以通過將基片加熱至大于約30(TC、大于約45(TC、大于約50(TC、大于約75(TC、大于約IOO(TC、大于約1200°C、大于約1500°C、大于約175(TC或大于約200(TC的溫度來啟動(dòng)反應(yīng)。這可以通過比如在烘箱中加熱基片、電阻加熱基片或使基片與熱氣接觸、微波輻射、輻射加熱等來實(shí)現(xiàn)。在一些實(shí)施方式中，可以通過加熱材料而基本不加熱基片使組合材料反應(yīng)。比如，可以通過曝露于紅外輻射、熱流體或激光中將陣列位置的材料組合容易地加熱到反應(yīng)溫度。在一些實(shí)施方式中，反應(yīng)和處理可以進(jìn)一步包括材料從陣列位置處外延生長?；系慕M合陣列可以裝載到通過比如物理氣相沉積(PVD)、分子束外延(MBE)、化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)等進(jìn)行晶體生長的腔中。組合陣列或產(chǎn)品組合物的分析可以分析無機(jī)材料組合物的組合陣列以便檢測具有具備所需性質(zhì)的產(chǎn)品組合物的陣列位置。檢測方法經(jīng)常依據(jù)關(guān)注的性質(zhì)。比如，陣列位置處的組合物可以具有光學(xué)性質(zhì)、磷光性、晶體成核現(xiàn)象、超導(dǎo)性、和/或半導(dǎo)體性質(zhì)。可以通過光譜檢測、電磁傳感器、顯微鏡檢測、檢測電壓、檢測壓力響應(yīng)電壓、檢測曝光響應(yīng)電壓、檢測溫度響應(yīng)電壓、檢測電阻、熒光檢測、和/或類似方法檢測陣列位置處的組合的組合物。在陣列位置處分析無機(jī)組合物可以依次地或并行地進(jìn)行?？梢杂脵C(jī)器測試組合物的性質(zhì)，諸如對電流的電阻，具體操作是將基片接地，并人工或機(jī)器接觸組合物，從而在每個(gè)位置處進(jìn)行電阻測試?？梢允褂脠D像處理設(shè)備并行測試某些光學(xué)性能。比如，磷光性可以通過以下方法檢測用激發(fā)波長照射組合陣列，然后使用CCD基照相機(jī)和視頻監(jiān)視器監(jiān)控陣列位置所需光波長的發(fā)射。在特定的實(shí)施方式中，制備兩種或多種復(fù)本陣列，在不同的反應(yīng)條件下處理每一個(gè)復(fù)本陣列。分析反應(yīng)產(chǎn)物組合物可以幫助鑒定混合物組合和處理?xiàng)l件，提供對于特定使用優(yōu)選的組合物。比如，一個(gè)復(fù)本陣列可以用不同于處理該復(fù)本陣列的另一個(gè)復(fù)本的溫度、時(shí)間、pH、壓力、曝光頻率、曝露于金屬氣相、曝露于溶劑或氣體接觸來處理。分析以不同方式處理的組合陣列可以提供用于設(shè)計(jì)或優(yōu)化在陣列中生產(chǎn)組合物質(zhì)的方法的數(shù)據(jù)。分析以不同方式處理的陣列可以鑒定最適合特定應(yīng)用的組合物，諸如在對選擇波長激發(fā)作用的響應(yīng)中具有在特定波長下最強(qiáng)磷光的組合物。制備組合陣列的系統(tǒng)制備無機(jī)材料組合的復(fù)本陣列的系統(tǒng)可以包括母版陣列、基片和將母版陣列復(fù)制到基片表面的轉(zhuǎn)移設(shè)備。該系統(tǒng)可以包括反應(yīng)器和檢測器以便生產(chǎn)和分析產(chǎn)品組合物。在一種實(shí)施方式中，如圖1所示，本發(fā)明的系統(tǒng)IO可以包括將母版陣列液體材料組合12從母版陣列13轉(zhuǎn)移至基片14上的位置的轉(zhuǎn)移設(shè)備11，以此提供復(fù)本陣列15。比如，制備復(fù)本陣列的系統(tǒng)可以包括依次從母版陣列的位置處取出母版陣列材料組合的等分樣品并將它們轉(zhuǎn)移至基片表面上的復(fù)本陣列位置的機(jī)器。該機(jī)器可以準(zhǔn)確地將母版陣列的物理排版復(fù)制到基片上。任選地，該機(jī)器可以將組合材料的等分樣轉(zhuǎn)移至空間排列與母版陣列不同的基片表面。該系統(tǒng)可以包括加熱器和/或烘箱，比如以便在陣列位置處處理、干燥材料組合或使其反應(yīng)。比如，可以在干燥器16中干燥復(fù)本陣列，然后將基片轉(zhuǎn)移至烘箱17中，比如在高溫下使其反應(yīng)以便將材料燒結(jié)成產(chǎn)品組合物的組合陣列。根據(jù)材料和所需的產(chǎn)品組合物，可以使用各種加熱器在陣列位置處干燥、化學(xué)反應(yīng)、熔化、熔合、結(jié)晶或燒結(jié)兩種或多種材料。轉(zhuǎn)移設(shè)備可以是本領(lǐng)域己知的將母版陣列成員轉(zhuǎn)移至基片位置的任何方法。轉(zhuǎn)移設(shè)備可以包括以上在"制備復(fù)本無機(jī)組合陣列的方法"部分中所述的設(shè)備。轉(zhuǎn)移設(shè)備可以與一種轉(zhuǎn)移設(shè)備(諸如針頭或毛細(xì)管)濕潤接觸，然后該設(shè)備與基片接觸。轉(zhuǎn)移設(shè)備的轉(zhuǎn)移方法可以采用直接在基片表面與母版陣列成員接觸的方式。轉(zhuǎn)移方法可以采用使轉(zhuǎn)移表面與母版陣列成員接觸，然后轉(zhuǎn)移表面與基片接觸(膠版印刷)的方式。轉(zhuǎn)移方法可以包括通過導(dǎo)管從母版陣列位置將母版陣列等分樣抽到基片上的復(fù)本陣列位置。比如，可以用機(jī)器使吸管(sibbertube)位于母版陣列位置的上方以便從母版陣列吸收等分樣。將等分樣抽到導(dǎo)管中以便使其離開機(jī)械臂或X-Y標(biāo)繪器末端的毛細(xì)管以排到復(fù)本陣列位置的基片表面。對于一些實(shí)施方式，任選的轉(zhuǎn)移方法包括由技術(shù)員使用手操作吸移管管理器依次轉(zhuǎn)移母版陣列等分樣。本發(fā)明的系統(tǒng)可以包括分析設(shè)備(檢測設(shè)備)18，以確定組合陣列產(chǎn)品組合物的性質(zhì)。通常關(guān)注的性質(zhì)包括，比如與組合物吸光度、熒光性、磷光性、發(fā)光性有關(guān)的光激發(fā)和/或發(fā)射曲線、；電子響應(yīng)，諸如對電流的阻力、壓電效應(yīng)、整流作用、介電性質(zhì)、光電效應(yīng)、接頭效應(yīng)、各種溫度下的超導(dǎo)率等；化學(xué)和生物催化活性；晶體成核行為；和/或類似物。分析設(shè)備可以包括比如歐姆表、熒光計(jì)、電壓表、安培表、光度計(jì)、電荷耦合裝置、磁力儀、酶、顯微鏡等。實(shí)施例提供以下實(shí)施例以說明但不限制要求保護(hù)的發(fā)明。實(shí)施例1印刷液體無機(jī)材料溶液陣列制備無機(jī)磷光體的組合陣列并分析用各種輻射源激發(fā)后的光致發(fā)光性質(zhì)。設(shè)計(jì)關(guān)于無機(jī)材料組合的實(shí)驗(yàn)以便評(píng)估多孔版式中六種無機(jī)材料與其它六種無機(jī)材料的組合。選擇A組無機(jī)材料為Sr、Gd、Y、Pb、Bi和Ba。選擇B組無機(jī)材料是B、Ga、Si、Al、Mo和P。Sr、Ga和Al使用穩(wěn)定的硝酸溶液。Gd、Y、Pdb、Bi、Ba和Mo使用聚合物穩(wěn)定的硝酸溶液。Si、P和B分別使用(NH》2SiF6溶液、(NH4)2H2POjnHB03溶液。通過人工移液技術(shù)在多孔板中制備兩種A組材料與兩種B組材料以及0.05當(dāng)量的銪(Eu)的各種組合。通過軌道搖動(dòng)(orbitalshaking)使制得的無機(jī)材料組合的母版陣列混合。將多孔板液體陣列的復(fù)本并行印刷在具有384個(gè)陣列位置的基片上，如圖2中所示。使用具有設(shè)置在支持板上的96針頭21(與96孔板中的孔間隔對齊)的轉(zhuǎn)移塊20來完成該操作。將所有針頭一次浸入組合無機(jī)材料的96個(gè)孔中，然后使它們與基片22的表面接觸以便將液體材料的樣品從每個(gè)孔轉(zhuǎn)移至基片上。執(zhí)行從另外三個(gè)液體材料96孔板至基片的全部384個(gè)陣列位置上的轉(zhuǎn)移?？梢灾貜?fù)該并行轉(zhuǎn)移過程以便在基片上制備另外的復(fù)本陣列。在加熱板23上于20(TC干燥兩個(gè)復(fù)本基片陣列上的液體材料，然后在120(TC在加熱爐(烘箱)24中加熱使其反應(yīng)(燒結(jié))以便在陣列位置處使混合的無機(jī)材料燒結(jié)。通過照射基片和透過濾光器觀察，分析產(chǎn)品組合物的磷光性質(zhì)。根據(jù)響應(yīng)來自LED的光(460nm)、紫外光和X射線的磷光能力，篩選陣列。對每個(gè)陣列位置處的磷光拍攝數(shù)碼圖像30，如圖3中所示。對每一個(gè)激發(fā)光源，在一波長范圍內(nèi)的磷光強(qiáng)度的分光光譜掃描31對于每一個(gè)陣列位置處的磷光體作圖。閱覽從該實(shí)驗(yàn)獲得的數(shù)據(jù)庫以選擇對于特定使用有潛力的磷光體。比如，在對UV光的激發(fā)作用的響應(yīng)中，對于500nm處的峰強(qiáng)度磷光可以鑒定優(yōu)選的無機(jī)材料組合和比例。在對藍(lán)LED的激發(fā)作用的響應(yīng)中，伴隨650nm處的峰強(qiáng)度磷光，可以發(fā)現(xiàn)具有特定比例的無機(jī)材料的不同組合。實(shí)施例2通過測試復(fù)本陣列優(yōu)化方法將液體溶液的復(fù)本陣列從母版陣列印刷到基片上，根據(jù)對復(fù)本陣列的分析鑒定優(yōu)選的處理?xiàng)l件和磷光體配方。根據(jù)配方(Alx.yBxCy)Z和(d-x.yBxDy)Z在多孔板中人工制備材料組合的母版陣列，其中A、B、C和D是2+價(jià)金屬離子，Z是硅或鋁。使用轉(zhuǎn)移塊將液體溶液等分部份的陣列從母版陣列并行轉(zhuǎn)移至基片上以便提供16行X16列的材料組合的復(fù)本陣列。將母版陣列的第二復(fù)本陣列轉(zhuǎn)移至第二基片上。在110(TC燒結(jié)第一復(fù)本陣列以便使混合無機(jī)材料在陣列位置處反應(yīng)，在120(TC使第二復(fù)本陣列燒結(jié)。在356nm照射每一個(gè)基片上的產(chǎn)品組合物的組合陣列，并用數(shù)碼相機(jī)攝像。一些材料混合物在110(TC沒有有效地反應(yīng)以在測試的激發(fā)和發(fā)射波長下提供顯著的磷光(見陣列40，圖4)。然而，另外幾種無機(jī)材料組合的配方在1200°C反應(yīng)時(shí)，產(chǎn)生了在引用的條件下能有效地發(fā)磷光的組合物(見陣列41)。一些配方在110(TC燒結(jié)時(shí)具有更高的強(qiáng)度，其它的在120(TC燒結(jié)時(shí)具有更高的強(qiáng)度。許多產(chǎn)品組合物根據(jù)反應(yīng)溫度顯示出不同的發(fā)射波長(即根據(jù)視覺檢查的明顯的顏色)。復(fù)本陣列復(fù)制品可以用于改進(jìn)方法或篩選提供所需結(jié)果的材料/條件組合?？梢栽诟鞣N或不同的條件(比如反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間、特定氣體的存在或缺失等)下處理復(fù)本陣列。就所需的性質(zhì)分析制得的產(chǎn)品組合物陣列，包括對選擇的激發(fā)波長的響應(yīng)的特定波長處的發(fā)射強(qiáng)度。實(shí)施例3制備和分析閃爍體庫在多孔板母版陣列中制備組合礦物鹽和起穩(wěn)定作用的聚合物的溶液并轉(zhuǎn)移至基片上。烘烤組合材料以形成產(chǎn)品磷光體組合物。分析這些組合物的磷光性。將3.5g起穩(wěn)定作用的聚合物(PENE)和1.7gEDTA溶解在50ml去離子水中來制備起穩(wěn)定作用的溶液。將金屬鹽溶液與起穩(wěn)定作用的溶液混合以便制備金屬的儲(chǔ)備溶液。使用HN03或NH40H進(jìn)行合適的pH調(diào)節(jié)來進(jìn)一步穩(wěn)定儲(chǔ)備溶液。通過按比例人工混合儲(chǔ)備溶液以便提供如以下表1中所示的所需的配方，在96孔板中制備組合材料的母版陣列。在另一個(gè)96孔板中制備相同的溶液母版陣列，但是添加了3重量X的Ce。表1<table>complextableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>使用轉(zhuǎn)移塊針頭將96孔板中的液體溶液并行轉(zhuǎn)移至陶瓷基片的表面上。在加熱爐中在約120(TC烘烤基片6小時(shí)以便形成產(chǎn)品組合物。在紫外光照射下觀察由此獲得的閃爍體產(chǎn)品組合物陣列。選擇具有特定目的所需的強(qiáng)度和顏色的產(chǎn)品組合物。進(jìn)一步篩選最佳配方的過程包括將選擇的配方與比如成分比例作略微調(diào)整的類似配方比較?？梢詫⑦x擇的配方放大以進(jìn)行實(shí)際的測試和使用。盡管為了清楚和理解的目的具體描述了上述發(fā)明，但是對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，閱讀本公開后將清楚，可以在不脫離本發(fā)明真正的范圍情況下作各種形式和細(xì)節(jié)上的變化。比如，可以以各種組合使用上述的許多組合物、技術(shù)和設(shè)備。所有的公開、專利、專利申請、和/或其它在本申請中引用的文獻(xiàn)都以它們的完整形式為了所有目的通過引用結(jié)合于此，其程度等同于單獨(dú)地指明每一個(gè)單獨(dú)的公開、專利、專利申請、和/或其它文獻(xiàn)為了所有目的通過引用結(jié)合于此。權(quán)利要求1.一種制備液體溶液的復(fù)本陣列的方法，該方法包括制備液體溶液的母版陣列，各液體溶液在母版陣列中具有唯一的地址；將母版陣列的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)移至第一基片上；從而產(chǎn)生液體溶液的第一復(fù)本陣列。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將液體溶液的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化成固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，制備母版陣列的過程包括在母版陣列的每一個(gè)地址處混合至少兩種不同的金屬化合物。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述母版陣列包括至少8個(gè)地址。5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述母版陣列的每一個(gè)液體溶液包含在多孔板的一個(gè)孔中。6.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述固體無機(jī)材料包含一種或多種選自下組的金屬鋁、銻、鋇、鉍、硼、鎘、鈣、碳、鈰、鉻、鈷、銅、鏑、鉺、銪、軋、鍺、金、鉿、鈥、銦、銥、鐵、鑭、鉛、鋰、镥、鎂、錳、鉬、釹、鎳、鈮、鈀、鉑、針、鐠、錸、銠、釕、釤、鈧、硒、硅、銀、鍶、鉭、碲、鋱、鉈、銩、錫、鈦、鎢、釩、鐿、釔、鋅和鋯。7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述無機(jī)材料是氧化形式的。8.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述無機(jī)材料是離子形式的。9.如權(quán)利要求l所述的方法，其特征在于，所述基片選自下組陶瓷、玻璃、硅、石英、石墨、碳復(fù)合物、聚合物、塑料、復(fù)合物、化合物半導(dǎo)體、金屬和金屬化合物。10.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，制備液體溶液的母版陣列還包括穩(wěn)定至少一個(gè)液體溶液的過程。11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)液體溶液是用聚合物穩(wěn)定的。12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述液體溶液的至少一個(gè)組分與起穩(wěn)定作用的聚合物結(jié)合。13.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述聚合物選自下組聚陰離子聚合物、聚陽離子聚合物、混合離子聚合物、肽、聚乙烯亞胺(PEI)、肝素、羧化聚乙烯亞胺(PEIC)、聚環(huán)氧乙垸、聚電解質(zhì)、聚丙烯酸酯、全氟磺酸酯、全氟羧酸酯、丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯腈、多核苷酸、蛋白質(zhì)、聚碳酸酯、二乙基氨基乙基-葡聚糖、硫酸葡聚糖、聚谷氨酸、聚磷酸酯、聚硼酸酯、次氮基三乙酸酉旨(NTA)、乙二胺四乙酸酯(EDTA)群、多組氨酸、DMPS、DMSA、DMSO、聯(lián)吡啶、乙二醇雙(2-氨乙基)四乙酸(EGTA)、羥乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、羥乙基淀粉(HES)、葡聚糖、糊精、菊粉、聚乙烯吡咯垸酮(PVP)和聚苯乙烯。14.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述母版陣列的液體溶液被依次轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列。15.如權(quán)利要求l所述的方法，其特征在于，所述母版陣列的液體溶液被并行轉(zhuǎn)移至復(fù)本陣列。16.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，所述并行轉(zhuǎn)移包括使母版陣列與轉(zhuǎn)移塊接觸，然后使基片與轉(zhuǎn)移塊接觸。17.如權(quán)利要求l所述的方法，其特征在于，還包括將基片加熱至高于約2(TC的溫度。18.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，通過干燥將所述液體溶液的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化為固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列。19.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，通過化學(xué)反應(yīng)將所述液體溶液的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化為固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列。20.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，還包括檢測產(chǎn)品陣列中至少一種固體無機(jī)材料的信號(hào)。21.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，使用選自下組的技術(shù)檢測所述信號(hào)電壓測量、電流測量、磁性質(zhì)測量、光譜檢測、顯微鏡檢測和熒光檢測。22.—種制備液體溶液的復(fù)本陣列的方法，該方法包括制備液體溶液的母版陣列，各液體溶液在母版陣列中具有唯一的地址；將每個(gè)液體溶液的至少一部分從母版陣列轉(zhuǎn)移至第一基片，以形成液體溶液的第一復(fù)本陣列；將每個(gè)液體溶液的至少一部分從母版陣列轉(zhuǎn)移至第二基片，以形成液體溶液的第二復(fù)本陣列；使用第一方法將液體溶液的第一復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化成固體無機(jī)材料的第一產(chǎn)品陣列；使用第二方法將液體溶液的第二復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化成固體無機(jī)材料的第二產(chǎn)品陣列；檢測來自第一產(chǎn)品陣列的至少一個(gè)地址的信號(hào)，將該信號(hào)與從第二產(chǎn)品陣列相應(yīng)地址測得的信號(hào)相比較。23.如權(quán)利要求22所述的方法，其特征在于，所述第一和第二方法參數(shù)選自下組溫度、壓力、時(shí)間、輻射照射、化學(xué)反應(yīng)、溶劑曝露和氣體接觸。24.如權(quán)利要求23所述的方法，其特征在于，檢測來自第一產(chǎn)品陣列的至少一個(gè)地址的信號(hào)和檢測來自第二產(chǎn)品陣列的相應(yīng)地址的信號(hào)的過程使用選自下組的技術(shù)來進(jìn)行電壓測量、電流測量、磁性質(zhì)測量、光譜檢測、顯微鏡檢測和熒光檢測。25.—種制備液體溶液的復(fù)本陣列的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括液體溶液的母版陣列，各液體溶液在母版陣列中具有唯一的地址；具有接受復(fù)本陣列的表面的基片，所述復(fù)本陣列來自液體溶液的母版陣列；用于將母版陣列的至少一個(gè)液體溶液轉(zhuǎn)移至基片表面以制備復(fù)本陣列的轉(zhuǎn)移設(shè)備。26.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于將液體溶液的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化成固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列的處理設(shè)備。27.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述母版陣列包含至少8個(gè)地址。28.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，母版陣列的每一個(gè)液體溶液包含在多孔板的一個(gè)孔中。29.如權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述固體無機(jī)材料包含選自下組的一種或多種金屬鋁、銻、鋇、鉍、硼、鎘、鈣、碳、鈰、鉻、鈷、銅、鏑、鉺、銪、軋、鍺、金、鉿、鈥、銦、銥、鐵、鑭、鉛、鋰、镥、鎂、錳、鉬、釹、鎳、鈮、鈀、鉑、釙、鐠、錸、銠、釕、釤、鈧、硒、硅、銀、鍶、鉭、碲、鋱、鉈、銩、錫、鈦、鉤、釩、,顯、卒乙、鋅和鋯。30.如權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述無機(jī)材料是氧化形式的。31.如權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述無機(jī)材料是離子形式的。32.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述復(fù)本陣列的至少一個(gè)液體溶液是穩(wěn)定的液體溶液。33.如權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一個(gè)穩(wěn)定的液體溶液是用聚合物穩(wěn)定的。34.如權(quán)利要求33所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述聚合物選自下組聚陰離子聚合物、聚陽離子聚合物、混合離子聚合物、肽、聚乙烯亞胺(PEI)、肝素、羧化聚乙烯亞胺(PEIC)、聚環(huán)氧乙烷、聚電解質(zhì)、聚丙烯酸酯、全氟磺酸酯、全氟羧酸酯、丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯腈、多核苷酸、蛋白質(zhì)、聚碳酸酯、二乙基氨基乙基-葡聚糖、硫酸葡聚糖、聚谷氨酸、聚磷酸酯、聚硼酸酯、次氮基三乙酸酯(NTA)、乙二胺四乙酸酯(EDTA)類、多組氨酸、DMPS、DMSA、DMSO、聯(lián)吡啶、乙二醇雙(2-氨乙基)四乙酸(EGTA)、羥乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、羥乙基淀粉(HES)、葡聚糖、糊精、菊粉、聚乙烯吡咯垸酮(PVP)和聚苯乙烯。35.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述基片選自下組陶瓷、玻璃、硅、石墨、聚合物、碳復(fù)合物、化合物半導(dǎo)體、金屬和含金屬的化合物。36.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移設(shè)備包括具有轉(zhuǎn)移探管陣列的轉(zhuǎn)移塊，所述的轉(zhuǎn)移探管陣列的設(shè)置與母版陣列的液體溶液地址對齊。37.如權(quán)利要求36所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移探管包含針管或毛細(xì)管。38.如權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述用于將液體溶液的復(fù)本陣列轉(zhuǎn)化成固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列的處理設(shè)備是加熱設(shè)備。39.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于從固體無機(jī)材料的產(chǎn)品陣列的至少一個(gè)地址檢測信號(hào)的檢測器。全文摘要本發(fā)明提供從液體溶液的母版陣列制備復(fù)本陣列的方法和系統(tǒng)?？梢允挂后w溶液的復(fù)本陣列反應(yīng)以形成產(chǎn)品固體無機(jī)材料陣列以便分析和選擇最佳處理過程和具有所需性質(zhì)的產(chǎn)品。文檔編號(hào)C23C26/00GK101365523SQ200680042121公開日2009年2月11日申請日期2006年9月18日優(yōu)先權(quán)日2005年9月19日發(fā)明者成世凡,李依群,翊董,陶德節(jié)申請人:因特麥崔克斯股份有限公司