專利名稱：蒸發(fā)裝置、蒸鍍裝置以及蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使規(guī)定的材料蒸鍍到配置在真空容器內(nèi)的基板上的蒸鍍裝置、使規(guī)定的材料蒸發(fā)的蒸發(fā)裝置、以及在蒸鍍裝置中使用的蒸發(fā)裝置的切換方法。
背景技術(shù)：
在使規(guī)定的材料蒸鍍到置于真空下的基板的表面上、形成薄膜的蒸鍍裝置中，通過(guò)加熱配置在真空下的材料的蒸發(fā)源，使材料蒸發(fā)，同時(shí)，使蒸發(fā)的蒸發(fā)材料附著到置于同樣的真空下的基板的表面上，形成薄膜。
不過(guò)，在于真空下、即真空容器內(nèi)配置基板及蒸發(fā)源的蒸鍍裝置中，在追加或者更換蒸發(fā)源時(shí)，真空容器內(nèi)部回到大氣之后，有必要將真空容器內(nèi)部再次抽成真空，造成時(shí)間的損失。
已經(jīng)提出了消除這種時(shí)間上的損失的蒸鍍裝置的方案(例如，參照特開2003-297565號(hào)公報(bào))。
這種蒸鍍裝置，在真空容器的下部配置兩個(gè)分別設(shè)置有真空閥的有機(jī)EL材料的材料排出口，同時(shí)，在所述各個(gè)排出口處連接有配置了材料蒸發(fā)源的蒸發(fā)室。
利用這種結(jié)構(gòu)，例如，利用來(lái)自于一個(gè)蒸發(fā)室的蒸發(fā)材料進(jìn)行薄膜的形成。例如，在更換材料的情況下，在另一個(gè)蒸發(fā)室中配置材料進(jìn)入的蒸發(fā)源并進(jìn)行加熱，然后使該蒸發(fā)室在真空狀態(tài)下待機(jī)，在進(jìn)行這種更換時(shí)，在將一個(gè)蒸發(fā)室側(cè)的真空閥關(guān)閉之后，打開另一個(gè)蒸發(fā)室側(cè)的真空閥，通過(guò)將蒸發(fā)材料導(dǎo)入到真空容器內(nèi)，不會(huì)發(fā)生材料更換時(shí)的作業(yè)時(shí)間的損失。
不過(guò)，當(dāng)利用這種蒸發(fā)裝置的結(jié)構(gòu)時(shí)，只要有兩個(gè)(兩批)蒸發(fā)源就沒有問(wèn)題，但是，在進(jìn)一步連續(xù)地進(jìn)行蒸鍍的情況下，有必要制成下述結(jié)構(gòu)。
即，在設(shè)置兩個(gè)蒸發(fā)源的同時(shí)，有必要分別設(shè)置將由所述各個(gè)蒸發(fā)源蒸發(fā)的蒸發(fā)材料導(dǎo)入蒸鍍室的導(dǎo)入通路，進(jìn)而，在各個(gè)導(dǎo)入通路的中途設(shè)置開閉閥，在從一個(gè)蒸發(fā)源導(dǎo)入蒸發(fā)材料的期間，關(guān)閉另一個(gè)導(dǎo)入通路的開閉閥，在這種狀態(tài)下，更換另一個(gè)蒸發(fā)源(例如，參照特許第2912756號(hào)的專利說(shuō)明書)。
但是，如上所述，在設(shè)置兩個(gè)蒸發(fā)源的情況下，對(duì)于一個(gè)真空容器連接兩個(gè)蒸發(fā)室，即，設(shè)置兩個(gè)系統(tǒng)的蒸發(fā)材料的排出管，同時(shí)，在真空容器內(nèi)的連接位置不同，所以，例如在更換材料(蒸發(fā)源)的情況下，特別是，在成膜的中途材料用盡、導(dǎo)入來(lái)自于另一個(gè)蒸發(fā)室的蒸發(fā)材料以便再次開始蒸鍍的情況下，先前的蒸鍍條件和現(xiàn)在的蒸鍍條件不同，存在著形成于基板表面上的薄膜的品質(zhì)產(chǎn)生偏差的問(wèn)題。
另外，在需要這種高真空度的系統(tǒng)中，很難獲得完全的密封，無(wú)論如何也會(huì)有少量的外部氣體進(jìn)入，不能維持規(guī)定的真空度，以及由于容器等的加熱而從其結(jié)構(gòu)材料內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生雜質(zhì)成分氣體，所以，有必要始終使真空泵動(dòng)作，例如，在上述專利說(shuō)明書中揭示的結(jié)構(gòu)中，在蒸發(fā)材料的一部分被導(dǎo)入到蒸發(fā)室內(nèi)之前，存在被真空泵排出到外部的可能性，存在材料的使用效率下降的問(wèn)題。
進(jìn)而，設(shè)置能夠回收一部分的捕集器，但是，對(duì)于一度加熱、冷卻的材料的再利用，首先，由于不能說(shuō)一定與加熱蒸發(fā)的材料具有相同的品質(zhì)，所以，使用時(shí)的材料受到限制，另外，由于對(duì)于捕集器需要加熱裝置等，所以，增加了附加設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種能夠防止將要蒸鍍的材料的使用效率降低的蒸發(fā)裝置，以及利用該蒸發(fā)裝置且在從多個(gè)部位將蒸發(fā)材料導(dǎo)入蒸鍍室時(shí)、蒸鍍條件不發(fā)生變化的蒸鍍裝置，以及在蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法。
為了解決上述課題，本發(fā)明的蒸發(fā)裝置是一種在規(guī)定的真空度下使規(guī)定的材料蒸發(fā)的蒸發(fā)裝置，該蒸發(fā)裝置具備蒸發(fā)用容器，該蒸發(fā)用容器連接到排氣裝置上，同時(shí)，在上部設(shè)置能夠排出蒸發(fā)的蒸發(fā)材料的材料排出孔；以及載置臺(tái)，該載置臺(tái)可借助升降裝置自由升降地設(shè)置在蒸發(fā)用容器內(nèi)，同時(shí)，能夠載置容納有材料的材料容納容器，在上述蒸發(fā)用容器的材料排出孔的周圍設(shè)置筒狀的間隔壁構(gòu)件，所述間隔壁構(gòu)件，通過(guò)在上述材料容納容器經(jīng)由載置臺(tái)上升時(shí)覆蓋其外周，抑制蒸發(fā)材料向所述蒸發(fā)用容器內(nèi)的排出，在上述載置臺(tái)及間隔壁構(gòu)件上，具有加熱上述材料容納容器的加熱裝置，另外，在上述載置臺(tái)側(cè)設(shè)置接觸部，所述接觸部在所述載置臺(tái)借助升降裝置上升時(shí)與間隔壁構(gòu)件的下端部接觸，能夠阻止所述間隔壁構(gòu)件內(nèi)的蒸發(fā)材料的排出。
另外，本發(fā)明的蒸鍍裝置，具備有至少兩臺(tái)根據(jù)上述發(fā)明的蒸發(fā)裝置；在規(guī)定的真空度下將蒸發(fā)材料蒸鍍到被蒸鍍構(gòu)件上的一個(gè)蒸鍍用容器；跨于該蒸鍍用容器與上述各蒸發(fā)裝置的材料排出孔之間設(shè)置的材料移送通路，其中，上述材料移送通路的一端側(cè)連接到上述蒸鍍用容器側(cè)，并且，其另一端側(cè)分支，分別連接到上述各個(gè)蒸發(fā)裝置的材料排出孔上，進(jìn)而，在這些分支的各個(gè)材料移送通路的中途分別配置有開閉閥。
進(jìn)而，本發(fā)明的蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法，用于對(duì)在根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍裝置中使用的蒸發(fā)裝置進(jìn)行切換，所述蒸鍍裝置利用至少兩臺(tái)蒸發(fā)裝置向一個(gè)蒸鍍用容器供應(yīng)蒸發(fā)材料，進(jìn)行蒸鍍，所述切換方法包括以下步驟預(yù)熱步驟，在該預(yù)熱步驟中，于在一個(gè)蒸發(fā)裝置中材料變?yōu)椴蛔愕臓顟B(tài)之前，使另一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料容納容器在間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升，利用加熱裝置加熱到比材料的蒸發(fā)溫度低的規(guī)定溫度，雜質(zhì)排出步驟，在該雜質(zhì)排出步驟中，使加熱到規(guī)定溫度的材料容納容器從間隔壁構(gòu)件下降，利用排氣裝置將在所述材料容納容器內(nèi)氣化的雜質(zhì)排出到外部，正式加熱步驟，在該正式加熱步驟中，在雜質(zhì)排出后，再次使材料容納容器在間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升，加熱到材料的蒸發(fā)溫度，將設(shè)置在上述一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料移送通路中的開閉閥關(guān)閉、同時(shí)將設(shè)置在另一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料移送通路中的開閉閥打開的步驟。
根據(jù)上述蒸發(fā)裝置，由于一面利用排氣裝置保持蒸發(fā)用容器內(nèi)的清潔，一面使材料容納容器在和材料排出孔連通的間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升并用加熱裝置加熱，所以，可以將蒸發(fā)材料的大部分導(dǎo)入材料排出孔，從而，由于可以極力地減少由排氣裝置對(duì)蒸發(fā)材料的排出，所以，能夠有效地利用材料。即，可以防止材料利用效率的降低。
另外，根據(jù)上述蒸鍍裝置，由于在交替地利用至少兩臺(tái)蒸發(fā)裝置連續(xù)進(jìn)行蒸鍍時(shí)，從各個(gè)蒸發(fā)裝置將蒸發(fā)材料導(dǎo)入蒸鍍用容器的材料移送通路在蒸鍍室側(cè)的連接部位為一個(gè)部位，所以，蒸鍍條件不會(huì)變化，從而，可以防止形成在被蒸鍍構(gòu)件上的薄膜的品質(zhì)產(chǎn)生波動(dòng)。
進(jìn)而，根據(jù)上述切換方法，在預(yù)熱階段，使包含在材料容納容器及材料中的雜質(zhì)氣化，同時(shí)，一度使材料容納容器從間隔壁構(gòu)件下降，利用排氣裝置將所述雜質(zhì)排出到外部，因此，在切換連續(xù)蒸鍍時(shí)使用的至少兩臺(tái)蒸發(fā)裝置時(shí)，可以防止形成在被蒸鍍構(gòu)件上的薄膜的品質(zhì)降低。


圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施形式的蒸鍍裝置的簡(jiǎn)略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
圖2是在該蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的主要部分的剖視圖。
圖3是說(shuō)明在該蒸鍍裝置中的蒸鍍動(dòng)作的剖視圖。
圖4是說(shuō)明在該蒸鍍裝置中的蒸鍍動(dòng)作的剖視圖。
圖5是說(shuō)明在該蒸鍍裝置中的蒸鍍動(dòng)作的剖視圖。
圖6是說(shuō)明在該蒸鍍裝置中的蒸鍍動(dòng)作的剖視圖。
圖7是表示在該蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的變形例的主要部分的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
下面，基于圖1～圖6，說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施形式的蒸發(fā)裝置以及利用該蒸發(fā)裝置的蒸鍍裝置和在該蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法。
首先，對(duì)于作為整體結(jié)構(gòu)的蒸鍍裝置進(jìn)行說(shuō)明。
如圖1所示，該蒸鍍裝置大致劃分為由以下部分構(gòu)成蒸鍍用容器(將容器內(nèi)部稱為蒸鍍室3a，另外，盡管圖中未示出，在容器的側(cè)壁部設(shè)置玻璃基板的運(yùn)入、運(yùn)出用開口部，另外，還備有真空泵等排氣裝置)3，該蒸鍍用容器3的構(gòu)成方式使得作為被蒸鍍構(gòu)件的玻璃基板1以其蒸鍍面位于下方的方式沿水平方向插入，同時(shí)被保持器2保持；兩臺(tái)蒸發(fā)裝置4(4A、4B)，所述兩臺(tái)蒸發(fā)裝置4(4A、4B)配置于所述蒸鍍用容器3下方，進(jìn)行規(guī)定的材料(在用于有機(jī)EL畫面的情況下，采用有機(jī)材料)的蒸發(fā)(下面，將規(guī)定的材料(原料)稱作蒸鍍材料(A)，將蒸發(fā)的材料稱作蒸發(fā)材料(B))；材料移送管5，所述材料移送管5連接所述各個(gè)蒸發(fā)裝置4和上述蒸鍍用容器3，作為用于將蒸發(fā)材料移送到蒸鍍室3a的材料移送通路。
上述各個(gè)蒸發(fā)裝置4由以下部分構(gòu)成內(nèi)部具有蒸發(fā)室11a的蒸發(fā)用容器11；作為排氣裝置的真空泵12，其連接到所述蒸發(fā)用容器11的壁部上，用于使所述蒸發(fā)室11a內(nèi)部形成規(guī)定的真空度(例如，1×10-4Pa左右)，同時(shí)保持該真空度；圓盤狀的載置臺(tái)15，所述載置臺(tái)15在所述蒸發(fā)室11a內(nèi)連接到作為升降裝置的升降用缸體裝置13上、可自由升降地設(shè)置，同時(shí)，能夠載置容納有蒸鍍材料且上面敞開的圓筒狀的材料容納容器(也稱為坩堝)14。
在上述蒸發(fā)用容器11的側(cè)面設(shè)置運(yùn)入運(yùn)出材料容納容器14用的運(yùn)入運(yùn)出用開口部11b、以及開閉所述運(yùn)入運(yùn)出用開口部11b的開閉門16。
另外，在上述各個(gè)蒸發(fā)用容器11的上壁部11c形成用于排出蒸發(fā)材料的材料排出孔17，同時(shí)，在該材料排出孔17的中途設(shè)置針形閥18，作為開閉所述排出孔17或者能夠調(diào)節(jié)其開口面積的開閉閥。
進(jìn)而，如圖2所示，在蒸發(fā)用容器11的上壁部11c的材料排出孔17的周圍的下表面，下垂設(shè)置筒狀的間隔壁構(gòu)件19，該間隔壁構(gòu)件19用于通過(guò)覆蓋經(jīng)由載置臺(tái)15上升的材料容納容器14的周圍，極力減少(抑制)從所述材料容納容器14排出的蒸發(fā)材料向蒸發(fā)室11a側(cè)的移動(dòng)，同時(shí)，在載置臺(tái)15上升時(shí)，至少其上表面的周緣部與間隔壁構(gòu)件19的下端部接觸，使之成為不產(chǎn)生間隙的環(huán)狀的接觸部(貼緊部)15a。另外，在尺寸上盡可能地縮小間隔壁構(gòu)件19與材料容納容器14的間隙。
并且，為了將蒸發(fā)用容器11內(nèi)的蒸鍍材料(A)加熱到規(guī)定的蒸發(fā)溫度，在載置臺(tái)15的內(nèi)部及間隔壁構(gòu)件19的外周面上設(shè)置電加熱器等加熱裝置20、21。
另外，上述材料移送管5用于將兩臺(tái)蒸發(fā)裝置4連接到1個(gè)蒸鍍用用容器3上，其上端部5a在一個(gè)部位處連接(連通)到蒸鍍用容器3的底壁部3b上，另外，其下端側(cè)分支成兩根，形成Y字形的通路，同時(shí)，各個(gè)分支的下端部5b、5c連接(連通)至各個(gè)蒸發(fā)用容器11的材料排出孔17。
另外，盡管圖中未示出，對(duì)于蒸發(fā)材料移動(dòng)的路徑，全部設(shè)置電熱加熱器等加熱裝置，維持其蒸發(fā)溫度。另外，利用設(shè)置在材料移送管5及蒸發(fā)用容器11側(cè)的材料排出孔17構(gòu)成材料移送通路。
以下，對(duì)于上述蒸鍍裝置中的蒸鍍方法，特別是著眼于在蒸發(fā)裝置中的蒸發(fā)動(dòng)作、而且是切換兩臺(tái)蒸發(fā)裝置時(shí)的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。
首先，對(duì)于利用一臺(tái)(一個(gè))蒸發(fā)裝置4A向保持在蒸鍍用容器3中的玻璃基板1的表面蒸鍍蒸發(fā)材料時(shí)的情況簡(jiǎn)單地進(jìn)行說(shuō)明。
如圖1所示，在將容納蒸鍍材料(A)的材料容納容器14載置到蒸發(fā)用容器11內(nèi)的載置臺(tái)15上之后，使真空泵12動(dòng)作，形成規(guī)定的真空度，同時(shí)，保持該真空度。另外，在進(jìn)行蒸鍍的期間，例如，為了排出從蒸發(fā)裝置4A的各個(gè)構(gòu)成設(shè)備中的連接部侵入的空氣、從構(gòu)成設(shè)備本身排出的雜質(zhì)(雜質(zhì)氣體成分)等，真空泵12連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)。
其次，如圖3所示，在使材料容納容器14在間隔壁構(gòu)件19內(nèi)上升(移動(dòng))的狀態(tài)下，借助各個(gè)加熱裝置20、21將所述材料容納容器14加熱到規(guī)定的蒸發(fā)溫度，使材料容納容器14內(nèi)的蒸鍍材料(A)的蒸發(fā)開始。然后，當(dāng)打開針形閥18時(shí)，蒸發(fā)的蒸發(fā)材料(B)從材料排出孔17經(jīng)由材料移送管5被導(dǎo)入到蒸鍍用容器3的蒸鍍室3a，附著到玻璃基板1的表面，形成薄膜。當(dāng)然，在進(jìn)行蒸發(fā)材料的排出的期間，該材料移送通路被加熱，以便使得蒸發(fā)材料不會(huì)附著到其薄膜上。
并且，當(dāng)在一個(gè)蒸發(fā)裝置4A中的材料容納容器14內(nèi)的蒸鍍材料減少時(shí)，開始進(jìn)行切換到從另一個(gè)蒸發(fā)裝置4B供應(yīng)(導(dǎo)入)蒸發(fā)材料的準(zhǔn)備。
在這種切換時(shí)，在另一個(gè)蒸發(fā)裝置4B中進(jìn)行預(yù)熱，同時(shí)，將水分等雜質(zhì)(作為氣體成分)排出后，進(jìn)行以應(yīng)有的蒸發(fā)溫度的加熱(下面也稱之為正式加熱)。例如，在蒸發(fā)溫度(正式加熱的溫度)為200℃的情況下，使作為材料不蒸發(fā)的溫度的預(yù)熱溫度比該溫度低，例如為150℃等，可以在比正式加熱低幾度～10幾度的程度的范圍內(nèi)任意設(shè)定。另外，當(dāng)預(yù)熱溫度接近材料的蒸發(fā)溫度時(shí)，可以縮短過(guò)渡到蒸發(fā)的時(shí)間。
下面，詳細(xì)說(shuō)明蒸發(fā)裝置4的切換方法。
即，如圖3所示，在利用一個(gè)蒸發(fā)裝置4A進(jìn)行蒸發(fā)材料(B)的供應(yīng)期間，載置在另一個(gè)蒸發(fā)裝置4B的載置臺(tái)15上的材料容納容器14借助升降用缸體裝置13在間隔壁構(gòu)件19內(nèi)上升，同時(shí)，利用設(shè)置在載置臺(tái)15及間隔壁構(gòu)件19的外周上的加熱裝置20、21加熱到比蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度低的規(guī)定溫度。當(dāng)然，在這種預(yù)熱時(shí)，利用真空泵12進(jìn)行排氣(預(yù)熱步驟)。
然后，當(dāng)加熱到規(guī)定溫度時(shí)，如圖4所示，借助升降用缸體裝置13使載置臺(tái)15下降，將材料容納容器14從間隔壁構(gòu)件19中抽出。
這樣，存在于間隔壁構(gòu)件19內(nèi)的水分等雜質(zhì)被真空泵12經(jīng)過(guò)蒸發(fā)室11a被排出到外部(雜質(zhì)排出步驟)。
當(dāng)這種雜質(zhì)的排出完畢時(shí)，如圖5所示，再次使載置臺(tái)15上升，使材料容納容器14上升(移動(dòng))到間隔壁構(gòu)件19內(nèi)的加熱位置。這時(shí)，由于設(shè)置在載置臺(tái)15側(cè)的環(huán)狀的接觸部15a與間隔壁構(gòu)件19的下端部接觸，所以，在間隔壁構(gòu)件19內(nèi)蒸發(fā)的蒸發(fā)材料(B)不會(huì)被抽出并排出到外部。即，由于防止由為了排出雜質(zhì)而總是運(yùn)轉(zhuǎn)的真空泵12所引起的蒸發(fā)材料向外部的排出，所以，可以防止蒸鍍材料的使用效率的降低。
其次，在借助加熱裝置20、21將材料容納容器14加熱到蒸發(fā)溫度進(jìn)行蒸發(fā)(正式加熱步驟)的同時(shí)，如圖6所示，當(dāng)關(guān)閉設(shè)置在一個(gè)蒸發(fā)裝置4A上的針形閥18、并且打開設(shè)置在另一個(gè)蒸發(fā)裝置4B上的針形閥18時(shí)，由另一個(gè)蒸發(fā)裝置4B蒸發(fā)的蒸發(fā)材料(B)經(jīng)由材料移送管5被導(dǎo)入到蒸鍍室3a內(nèi)，接著進(jìn)行向玻璃基板1的附著。另外，之后，可以使一個(gè)蒸發(fā)裝置4A的材料容納容器14下降，打開開閉門16將其取出，更換成新的。另外，通過(guò)根據(jù)蒸發(fā)裝置4A的材料使用情況在恰當(dāng)?shù)臅r(shí)刻開始在另一個(gè)蒸發(fā)裝置4B中的正式加熱，可以將這種切換時(shí)間縮短到幾分鐘的水平。
這里，當(dāng)按步驟表示上述蒸發(fā)裝置的切換方法時(shí)，如下所述。
即，這種切換方法是一種利用至少兩臺(tái)蒸發(fā)裝置向一個(gè)蒸鍍用容器供應(yīng)蒸發(fā)材料進(jìn)行蒸鍍時(shí)切換所使用的蒸發(fā)裝置的方法，該方法包括以下步驟預(yù)熱步驟，在該步驟中，當(dāng)在一個(gè)蒸發(fā)裝置中材料變成不足的狀態(tài)之前，使另一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料容納容器在間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升，利用加熱裝置將其加熱到比材料的蒸發(fā)溫度低的規(guī)定溫度；雜質(zhì)排出步驟，在該步驟中，使加熱到規(guī)定溫度的材料容納容器從間隔壁構(gòu)件下降，利用真空泵將在該材料容納容器內(nèi)氣化的雜質(zhì)排出到外部；正式加熱步驟，在該步驟中，在雜質(zhì)排出后，再次使材料容納容器在間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升，加熱到材料的蒸發(fā)溫度；材料移送通路切換步驟，在該步驟中，關(guān)閉設(shè)置在上述一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料排出孔的中途的針形閥，同時(shí)，打開設(shè)置在另一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料排出孔的中途的針形閥。
如上所述，由于將兩臺(tái)蒸發(fā)裝置4經(jīng)由材料移送管5連接到蒸鍍用容器3上，同時(shí)，通過(guò)針形閥18的開閉切換在蒸鍍中使用的蒸發(fā)裝置4，所以，能夠連續(xù)地進(jìn)行蒸鍍，同時(shí)，由于向蒸鍍室3a的供應(yīng)部位(導(dǎo)入部位)是一個(gè)部位，所以，例如，與利用各自的材料移送管將兩臺(tái)蒸發(fā)裝置分別連接到蒸鍍用容器上(供應(yīng)部位不同)的情況相比，在切換蒸發(fā)裝置時(shí)，蒸鍍條件沒有變化，所以，可以防止形成在玻璃基板1上的薄膜的品質(zhì)的差異。
另外，在預(yù)熱階段，使附著在材料容納容器14上的以及包含在蒸鍍材料內(nèi)的雜質(zhì)氣化，同時(shí)，將材料容納容器14一度從間隔壁構(gòu)件19向外側(cè)抽出，利用真空泵將所述雜質(zhì)排出到外部，所以，在切換連續(xù)蒸鍍時(shí)使用的兩臺(tái)蒸發(fā)裝置時(shí)，可以防止形成在玻璃基板1表面上的薄膜的品質(zhì)降低。
進(jìn)而，在正式加熱時(shí)的階段，由于材料容納容器14在間隔壁構(gòu)件19內(nèi)上升，同時(shí)利用載置臺(tái)15使之成為基本上密閉的狀態(tài)，所以，即使在為了排出從蒸發(fā)裝置4的構(gòu)成設(shè)備系統(tǒng)侵入的空氣、雜質(zhì)等而驅(qū)動(dòng)真空泵12的情況下，也可以防止(抑制)從材料容納容器14排出的蒸發(fā)材料被排出到外部，從而，可以防止蒸發(fā)材料的使用效率降低。
不過(guò)，在上述實(shí)施形式中，在載置臺(tái)15的外周設(shè)置兼作材料容納容器14的位置限制部的環(huán)狀的接觸部15a，但是，例如圖7所示，也可以在載置臺(tái)15的接觸部15a位于間隔壁構(gòu)件19內(nèi)側(cè)的位置處，以能夠相對(duì)于間隔壁構(gòu)件19正確地移動(dòng)(導(dǎo)向)的方式形成環(huán)狀的突狀部(位置限制部的另外的例子)15b。在這種情況下，盡可能地縮小間隔壁構(gòu)件19與材料容納容器14的間隙。
另外，在利用針形閥18進(jìn)行的封閉不充分的情況下，也可以在材料移送管5的分支的下端部5b、5c處進(jìn)一步設(shè)置針形閥等開閉閥。
進(jìn)而，在上述實(shí)施形式中，對(duì)于具有兩臺(tái)蒸發(fā)裝置的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但是，也可以配備3臺(tái)以上的蒸發(fā)裝置。
工業(yè)上的利用可能性本發(fā)明，如上所述，設(shè)置多個(gè)蒸發(fā)裝置，同時(shí)，在將由這些蒸發(fā)裝置蒸發(fā)的蒸發(fā)材料連續(xù)、或者更換其種類地導(dǎo)入到蒸鍍室內(nèi)時(shí)，通過(guò)操作設(shè)置在材料移送通路中的開閉閥，可以不會(huì)浪費(fèi)蒸發(fā)材料、并且不會(huì)使蒸鍍條件發(fā)生變化地進(jìn)行蒸鍍，所以，例如，最適合于在將有機(jī)EL材料蒸鍍到基板上時(shí)使用。不言而喻，此外，也可以有效地用于各種蒸鍍材料的蒸鍍。
權(quán)利要求
1.一種蒸發(fā)裝置，用于在規(guī)定的真空度下使規(guī)定的材料蒸發(fā)，其特征在于，所述蒸發(fā)裝置配備有蒸發(fā)用容器，該蒸發(fā)用容器連接到排氣裝置上，同時(shí)在上部設(shè)置有能夠?qū)⒄舭l(fā)的蒸發(fā)材料排出的材料排出孔；載置臺(tái)，該載置臺(tái)借助升降裝置在所述蒸發(fā)用容器內(nèi)自由升降地設(shè)置，同時(shí)能夠載置容納了材料的材料容納容器；在上述蒸發(fā)用容器的材料排出孔的周圍設(shè)置筒狀的間隔壁構(gòu)件，所述間隔壁構(gòu)件通過(guò)在上述材料容納容器經(jīng)由載置臺(tái)上升時(shí)覆蓋其外周，抑制蒸發(fā)材料向所述蒸發(fā)用容器內(nèi)的排出，在上述載置臺(tái)及間隔壁構(gòu)件中具有加熱上述材料容納容器的加熱裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，在上述載置臺(tái)側(cè)設(shè)置接觸部，所述接觸部在所述載置臺(tái)借助升降裝置上升時(shí)與間隔壁構(gòu)件的下端部接觸，能夠阻止所述間隔壁構(gòu)件內(nèi)的蒸發(fā)材料的排出。
3.一種蒸鍍裝置，包括如權(quán)利要求1或2所述的至少兩臺(tái)蒸發(fā)裝置；在規(guī)定的真空度下將蒸發(fā)材料蒸鍍到被蒸鍍構(gòu)件上的一個(gè)蒸鍍用容器；跨于該蒸鍍用容器與上述各個(gè)蒸發(fā)裝置的材料排出孔之間設(shè)置的材料移送通路，其中，上述材料移送通路的一端側(cè)連接到上述蒸鍍用容器側(cè)，并且使其另一端側(cè)分支以分別連接到上述各個(gè)蒸發(fā)裝置的材料排出孔上，進(jìn)而，在這些分支的材料移送通路的中途分別配置開閉閥。
4.一種蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法，用于對(duì)在利用至少兩臺(tái)蒸發(fā)裝置向一個(gè)蒸鍍用容器供應(yīng)蒸發(fā)材料以進(jìn)行蒸鍍的、根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置中使用的蒸發(fā)裝置進(jìn)行切換，其中，所述切換方法包括以下步驟預(yù)熱步驟，在該步驟中，當(dāng)在一個(gè)蒸發(fā)裝置中變成材料不足的狀態(tài)之前，使另一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料容納容器在間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升，利用加熱裝置加熱到比材料的蒸發(fā)溫度低的規(guī)定溫度，雜質(zhì)排出步驟，在該步驟中，使加熱到規(guī)定溫度的材料容納容器從間隔壁構(gòu)件下降，利用排氣裝置將在所述材料容納容器內(nèi)氣化的雜質(zhì)排出到外部，正式加熱步驟，在該步驟中，在雜質(zhì)排出后，再次使材料容納容器在間隔壁構(gòu)件內(nèi)上升，加熱到材料的蒸發(fā)溫度，將設(shè)置在上述一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料移送通路中的開閉閥關(guān)閉、同時(shí)將設(shè)置在另一個(gè)蒸發(fā)裝置的材料移送通路中的開閉閥打開的步驟。
全文摘要
一種在規(guī)定的真空度下使規(guī)定的材料蒸發(fā)的蒸發(fā)裝置(4)，包括連接到真空泵(12)上，同時(shí)，在上壁部(11c)上設(shè)置能夠放出蒸發(fā)的蒸發(fā)材料(B)的材料放出孔的蒸發(fā)用容器(11)；借助升降用氣缸裝置(13)可以在該蒸發(fā)容器(11)內(nèi)自由升降地設(shè)置、同時(shí)能夠載置容納蒸鍍材料(A)的材料容納容器(14)的載置臺(tái)(15)；在上述蒸發(fā)用容器(14)的材料放出孔(17)的周圍，設(shè)置筒狀的間隔壁構(gòu)件(19)，所述間隔壁構(gòu)件(19)，通過(guò)上述材料容納容器(14)經(jīng)由載置臺(tái)(15)上升時(shí)覆蓋其外周，抑制蒸發(fā)材料向所述蒸發(fā)用容器(11)內(nèi)放出，并且，在上述載置臺(tái)(15)及間隔壁構(gòu)件(16)上，具有加熱上述材料容納容器(14)的加熱裝置(21)。
文檔編號(hào)C23C14/02GK1950537SQ20058001465
公開日2007年4月18日 申請(qǐng)日期2005年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月28日
發(fā)明者松本祐司, 前羽良保, 鈴木和人, 井上鐵也, 大工博之 申請(qǐng)人:日立造船株式會(huì)社