1.一種用于將飛秒或皮秒激光束掩模投射到襯底表面上的設(shè)備，
其特征在于，
由激光束脈沖組成的激光束(2)在光軸(5)的位置(P)處形成以產(chǎn)生具有擴展的激光束橫截面的激光束脈沖或具有減小的激光束橫截面的激光束脈沖，并且所述激光束在激光束橫截面上具有均勻強度分布，
具有預(yù)定光闌孔徑幾何形狀的光闌(6)和具有預(yù)定掩?？讖綆缀涡螤畹难谀?7)連續(xù)地定位在所述位置(P)處的光束路徑中，
所述設(shè)備還包含：
場透鏡系統(tǒng)(8)和成像透鏡(10)，場透鏡系統(tǒng)(8)和成像透鏡(10)以這樣的方式定位，使得由所述光闌(6)和所述掩模(7)透射的激光束脈沖的非衍射和衍射光束分量借助于所述場透鏡系統(tǒng)(8)以這樣的方式被引導(dǎo)到具有預(yù)定孔徑的所述成像透鏡(10)中，使得由所述光闌和所述掩模生成的強度剖面的在每個細節(jié)上精確并且具有預(yù)定成像比(V)的縮小圖像(14)在成像平面(11)中的激光束脈沖的激光束橫截面上生成，
所述設(shè)備的特征還在于，
在光束引導(dǎo)變型1中，加入的透鏡系統(tǒng)(16)、所述場透鏡系統(tǒng)(8)和所述成像透鏡以這樣的方式相對于彼此定位，使得在所述成像透鏡(10)和襯底表面(12)之間生成焦點1(19)，并且在光束引導(dǎo)變型2中，所述加入的透鏡系統(tǒng)(16)、所述場透鏡系統(tǒng)(8)和所述成像透鏡以這樣的方式相對于彼此定位，使得在所述場透鏡系統(tǒng)(8)和所述成像透鏡(10)之間生成焦點2(22)，
存在取決于情況而圍繞所述焦點1(19)或所述焦點2(22)的區(qū)域的至少一個真空容器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，
其特征在于，
在所述場透鏡系統(tǒng)(8)和所述成像透鏡(10)之間布置90°偏轉(zhuǎn)鏡(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，
其特征在于，
存在用于改變所述成像透鏡(10)的主平面(35)與所述襯底表面(12)之間的距離(s)的裝置，借助于所述用于改變所述成像透鏡(10)的主平面(35)與所述襯底表面(12)之間的距離(s)的裝置，通過改變所述成像透鏡的主平面與所述襯底表面(12)之間的距離(s)，所述成像平面(11)的預(yù)定位置選擇性地置于所述襯底表面(12)的上方、上面或下方，其中所述預(yù)定位置被限定為離所述成像透鏡(10)的主平面(35)的圖像距離(b)的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，
其特征在于，
用于改變所述成像透鏡(10)的主平面(35)與所述襯底表面(12)之間的距離(s)的裝置是xyz坐標(biāo)臺(32)的z軸，襯底(13)被緊固到所述xyz坐標(biāo)臺的z軸。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，
其特征在于，
用于改變所述成像透鏡(10)的主平面(35)與所述襯底表面(12)之間的距離(s)的裝置是線性軸(33、34)，借助于所述線性軸，緊固到這些線性軸的所述場透鏡系統(tǒng)(8)和所述成像透鏡(10)以沿著光軸(5)能夠以預(yù)定路徑移位的方式布置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的設(shè)備，
其特征在于，
在光束引導(dǎo)變型1中，橫向噴射惰性氣體噴嘴(21)布置在所述至少一個真空容器(20)和所述襯底表面(12)之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的設(shè)備，
其特征在于，
在光束引導(dǎo)變型2中，惰性氣體噴嘴系統(tǒng)(24)附連在所述成像透鏡(10)和所述襯底表面(12)之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的設(shè)備，
其特征在于，
至少包括所述場透鏡系統(tǒng)(8)、所述成像透鏡(10)和所述至少一個真空容器的光學(xué)部件的孔徑被選擇為大到使得從一階到至少三階衍射，甚至由于所述掩模(7)的預(yù)定掩模孔徑幾何形狀被衍射的激光束分量也在所述襯底表面上成像。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的設(shè)備，
其特征在于，
使用的激光器(1)在“脈沖串模式”中操作。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的設(shè)備，
其還包括光束擴展器(3)或光束橫截面減小器(3)；以及
位于所述激光器(1)和所述光束擴展器(3)或光束橫截面減小器(3)之間的設(shè)備(15)，用于生成二次諧波(倍頻，SHG)或三次諧波(三倍頻，THG)或四次諧波(四倍頻，F(xiàn)HG)，
其特征在于，
飛秒激光束脈沖或皮秒激光束脈沖在從所述激光器(1)出現(xiàn)之后分別穿過用于生成二次諧波(倍頻，SHG)或三次諧波(三倍頻，THG)或四次諧波(四倍頻，F(xiàn)HG)的設(shè)備(15)，并且所述光束擴展器(3)或光束橫截面減小器(3)、所述加入的透鏡系統(tǒng)(16)、所述光闌(6)、所述掩模(7)、所述場透鏡系統(tǒng)(8)、所述成像透鏡(10)和所述至少一個真空容器中的至少一個具有適于透射生成的具有基波波長的一半或三分之一或四分之一的光子輻射的設(shè)計。