技術(shù)編號(hào):12282818
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于飛秒和皮秒激光束的掩模投射的設(shè)備。背景技術(shù)用于準(zhǔn)分子激光束的掩模投射的方法和設(shè)備是已知的并且用于固態(tài)表面的微結(jié)構(gòu)化,并且特別是也用于通過(guò)借助于準(zhǔn)分子激光器進(jìn)行結(jié)構(gòu)化、逐層材料燒蝕來(lái)生成三維微結(jié)構(gòu)(尤其參見(jiàn)Excimerlasertechnology,Ed.Dr.DirkBasting,LambdaPhysikAG2001,ISBN3-00-006395-1,以及Weissmantel,S.;Reisse,G.;Haehnel,F.;Bertram,R.;Boettcher,R....
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。