用于在移動幅材上制造印記的方法和裝置制造方法
【專利摘要】一種用于在移動幅材(WEB1)上制造印記(MRK1)的方法，包括：-在縱向方向(SX)上移動所述幅材(WEB1)，-通過使用第一光束轉(zhuǎn)向體(100)和第二光束轉(zhuǎn)向體(200)將激光(LB2)遞送至移動瞄準點(SP2)，以使得所述瞄準點的位置((x(t),y(t))取決于所述第一體(100)的角度取向(α)并取決于所述第二體(200)的角度取向(β)，-使所述第二體(200)從第一角度取向(β1)旋轉(zhuǎn)到第二角度取向(β2)，從所述第一角度(β1)取向到所述第二角度取向(β2)的旋轉(zhuǎn)定義寫入時段(TA)，其中所述在所述寫入時段(TA)期間所述第二體(200)的旋轉(zhuǎn)移動所述瞄準點(SP2)，使得所述瞄準點(SP2)的平均縱向速度分量(vx2)在所述幅材(WEB1)的速度(v1)的50％到150％范圍內(nèi)，-使所述第一體(100)旋轉(zhuǎn)，以使得所述瞄準點(SP2)在所述寫入時段(TA)期間跨越縱向基準線(YREF)多次，以及-根據(jù)所述第一體(100)的角度取向(α)并且根據(jù)所述第二體(200)的取向(β)控制所述激光(LB2)的強度。
【專利說明】用于在移動幅材上制造印記的方法和裝置 發(fā)明領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設(shè)計在移動幅材上制造印記。
[0002] 概述
[0003] 眾所周知，紙質(zhì)文檔可包括水印以便改善文檔的視覺外觀或者使偽造文檔更加困 難。
[0004] 概述
[0005] 本發(fā)明的一個目標是提供一種用于在移動幅材上制造印記的方法。本發(fā)明的一個 目標是提供一種用于在移動幅材上制造印記的裝置。本發(fā)明的一個目標是提供一種包括由 所述裝置制造的印記的產(chǎn)品。
[0006] 根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法。
[0007] 根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求25所述的計算機程序。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求26所述的計算機程序產(chǎn)品。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求27所述的產(chǎn)品。
[0011] 印記可由激光束制造在移動幅材上，通過使用第一旋轉(zhuǎn)光束轉(zhuǎn)向體和第二旋轉(zhuǎn)光 束轉(zhuǎn)向體，激光束根據(jù)預(yù)定的掃描圖案被定向至該幅材。該激光束的強度可以基于撞擊在 該幅材上的該激光束的瞬時位置來控制以便在所選擇的位置處局部改變該幅材的結(jié)構(gòu)和/ 或化學(xué)成分。例如，可在紙幅材上形成多個孔。這些孔可一起形成印記的至少一部分。
[0012] 由于在快速移動的幅材上形成可見印記所需的高的峰值強度，在快速移動的幅材 上制造印記可能是具有挑戰(zhàn)性的。該移動幅材的給定部分可能僅在印記裝置附近度過非常 短的時段，而可用于制造印記的時段可能很短。該移動幅材的給定部分在印記裝置附近度 過非常短的時間，而制造印記所需的操作的時序可能很關(guān)鍵。
[0013] 通過根據(jù)二維掃描圖案來使激光束的方向轉(zhuǎn)向，并且根據(jù)激光點的瞬時位置來調(diào) 制激光束的強度，可以制造印記。具體而言，所述掃描圖案可由多個傾斜軌跡構(gòu)成。
[0014] 可以通過使用第一光束轉(zhuǎn)向體使該激光束在橫向方向上被偏轉(zhuǎn)，該第一光束轉(zhuǎn)向 體可被旋轉(zhuǎn)以將從單一激光器獲得的激光分布到多個橫向位置。該印記激光束可通過使用 第二光束轉(zhuǎn)向體在縱向方向上被偏轉(zhuǎn)。該印記光束可被偏轉(zhuǎn)，使得在該幅材上形成的激光 點跟隨該幅材的移動。這可允許減小該激光器的峰值功率，這可允許激光點相對于已經(jīng)制 造在幅材上的印記有更精確的定位，和/或這可允許減小激光束的調(diào)制頻率。
[0015] 該第一體和/或該第二體可包括多個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域。在一實施例中，該第一體和該 第二體可以是具有反射刻面的多面體。當(dāng)該第一體包括數(shù)個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域時，這可允許縮短 兩個連續(xù)橫向掃掠之間的無用時間。當(dāng)該第一體包括數(shù)個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域時，這還可允許按高 頻率的橫向掃掠，而不需要使用該第一體的高旋轉(zhuǎn)速度。當(dāng)該第二體包括數(shù)個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域 時，這可允許縮短在該幅材上制造兩個連續(xù)印記之間的無用時間。
[0016] 附圖簡述
[0017] 在以下示例中，將參考附圖更詳細地描述本發(fā)明的實施例，在附圖中：
[0018] 圖Ia以三維視圖示出用于在移動幅材上制造印記的設(shè)備，
[0019] 圖Ib以三維視圖示出包括數(shù)個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域的光束轉(zhuǎn)向體，
[0020] 圖Ic以三維視圖示出用于在移動幅材上制造印記的設(shè)備，其中該設(shè)備的至少一 個光束轉(zhuǎn)向體包括兩個或更多個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域，
[0021] 圖2a以三維視圖示出激光點相對于靜止參考點的位置，
[0022] 圖2b以側(cè)視圖示出標記激光束的角度取向，
[0023] 圖2c以端視圖示出標記激光束的角度取向，
[0024] 圖3a以側(cè)視圖示出改變激光點的縱向位置，
[0025] 圖3b示出在一時刻正在旋轉(zhuǎn)的第一體的光偏轉(zhuǎn)區(qū)域的角度取向，
[0026] 圖3c示出在一時刻正在旋轉(zhuǎn)的第二體的光偏轉(zhuǎn)區(qū)域的角度取向，
[0027] 圖4a以俯視圖示出激光點在靜止坐標系中的跡線，
[0028] 圖4b以俯視圖示出激光點在移動坐標系中的跡線，
[0029] 圖5a以俯視圖示出幅材上形成的完整點陣列構(gòu)成的印記，
[0030] 圖5b以俯視圖示出在幅材上產(chǎn)生的印記，
[0031] 圖6a以俯視圖示出激光點在靜止坐標系中的跡線，其中所述跡線已被重疊在該 移動幅材上形成的點圖案的靜止圖像上，
[0032] 圖6b作為示例示出激光點在以下情形中的跡線：其中第二體的旋轉(zhuǎn)被停止，而第 一體的旋轉(zhuǎn)不導(dǎo)致縱向速度分量，
[0033] 圖6c作為示例示出激光點在以下情形中的跡線：其中第二體的旋轉(zhuǎn)被停止，而第 一體的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致縱向速度分量，
[0034] 圖6d示出針對第一體的旋轉(zhuǎn)不導(dǎo)致縱向速度分量的情形的速度圖，
[0035] 圖6e示出針對第一體的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致縱向速度分量的情形的速度圖，
[0036] 圖6f以俯視圖示出激光點在該靜止坐標系中的跡線，其中所述跡線被重疊在該 移動幅材上形成的點圖案的靜止圖像上，
[0037] 圖6g以俯視圖示出具有傾斜旋轉(zhuǎn)軸的第一體，
[0038] 圖6h以三維視圖示出通過使用光束旋轉(zhuǎn)器來修改跡線的取向，圖6i以三維視圖 示出具有傾斜刻面的第一體，
[0039] 圖7以側(cè)視圖示出包括印記設(shè)備的幅材處理裝置，
[0040] 圖8a示出印記設(shè)備的各單元，
[0041] 圖8b示出印記設(shè)備的各單元，
[0042] 圖9以側(cè)視圖示出該印記設(shè)備的光學(xué)設(shè)置，
[0043] 圖10以三維視圖示出該印記設(shè)備的光學(xué)設(shè)置，
[0044] 圖11以側(cè)視圖示出該印記激光束的可用角度取向，
[0045] 圖12a示出在移動坐標系中激光點因變于時間的縱向位置，
[0046] 圖12b示出，作為對比示例，在不使用第二旋轉(zhuǎn)體的情況下，在移動坐標系中激光 點因變于時間的縱向位置，
[0047] 圖12c不出激光點因變于時間的橫向位置，
[0048] 圖12d示出在靜止幀中激光點因變于時間的縱向位置，
[0049] 圖12e示出在移動幀中激光點因變于時間的縱向位置，
[0050] 圖12f示出在使用附加方向調(diào)制器時該激光點因變于時間的橫向位置，
[0051] 圖13示出通過使用第一旋轉(zhuǎn)體和附加方向調(diào)制器來調(diào)制光束的方向，以及
[0052] 圖14示出包括激光器模塊和可控強度調(diào)制器的激光器單元。

【具體實施方式】
[0053] 參考圖1，裝置500可包括激光器單元400、第一光束轉(zhuǎn)向體100、以及第二光束轉(zhuǎn) 向體200。裝置500可被布置成在移動幅材WEBl上產(chǎn)生一個或多個印記MRKl。幅材WEBl 可以速度V1在縱向方向SX上移動。激光器單元400可提供激光，該激光可由光束轉(zhuǎn)向體 100、200遞送以形成印記激光束LB2。印記激光束LB2的方向可在移動幅材WEBl上定義激 光點SP2。
[0054] 光束轉(zhuǎn)向體100、200可以是可旋轉(zhuǎn)的。第一體100可包括一個或多個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域 Fla。第二體200可包括一個或多個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域F2a。激光器400可提供主光束LB0。第一 光束轉(zhuǎn)向體100可通過將主光束LBO的光偏轉(zhuǎn)來提供中間光束LB1，使得中間光束LBl的 方向取決于第一光束轉(zhuǎn)向體100的角度取向。第二光束轉(zhuǎn)向體200可通過將中間光束LBl 的光偏轉(zhuǎn)來提供（印記）激光束LB2,使得激光束LB2的方向取決于第二光束轉(zhuǎn)向體200的 角度取向。激光束LB2可在點SP2處撞擊幅材WEBl。激光束LB2可以可任選地通過使用 (靜止的）聚焦用光學(xué)器件350(圖3a)來聚焦到點SP2。光束轉(zhuǎn)向體100、200可被布置成 將激光LB2遞送到點SP2,使得點SP2的位置取決于第一體100的角度取向并且取決于第二 體200的角度取向。
[0055] 第一光束轉(zhuǎn)向體100可被旋轉(zhuǎn)以改變激光點SP2的橫向位置（在方向SY上）。第 二體200可被旋轉(zhuǎn)以改變激光點SP2的縱向位置（在方向SX上）。SX、SY和SZ表示正交 的方向。
[0056] 當(dāng)不旋轉(zhuǎn)第一體100而單獨旋轉(zhuǎn)第二體200時，點SP2可基本上在縱向方向SX上 移動。第二體200的旋轉(zhuǎn)可被配置成導(dǎo)致點SP2的縱向速度分量，使得點SP2可與幅材WEBl 在相同方向上移動。印記MRKl可在被稱為寫入時段的時段期間形成。寫入時段期間點SP2 的平均縱向速度分量可以在幅材WEBl的速度V 1的50%到150%范圍內(nèi)。從而，點SP2可 以"跟隨"、"趕上"或者甚至"超越"移動幅材WEBl。在不旋轉(zhuǎn)第二體200而單獨旋轉(zhuǎn)第一 體100時，點SP2可基本上在與縱向方向SX垂直或相對于縱向方向SX傾斜的橫向方向上 移動。第一體100的旋轉(zhuǎn)可被布置成移動點SP2,以使得點SP2穿越基準線YREF?；鶞示€ YREF可以是縱向基準線。第一體100可以被布置成旋轉(zhuǎn)以使得點SP2在寫入時段期間穿越 基準線YREF數(shù)次。
[0057] 體100、200可被布置成同時旋轉(zhuǎn)，以使得激光點SP2沿多條傾斜和鄰近的軌跡 (參見圖4a和圖6)移動。激光點SP2可被布置成根據(jù)一掃描圖案移動，該掃描圖案可包 括多條鄰近的（直或曲）線（參見圖4a)。該掃描圖案還可被稱為掃掠圖案（sweeping pattern)。激光束LB2的功率可根據(jù)點SP2的瞬時位置來改變，以使得幅材WEBl的變換在 幅材WEBl的期望位置處發(fā)生。
[0058] 光束轉(zhuǎn)向體100、200遞送至點SP2的激光LB2的強度可基于體100、200的瞬時角 度取向來控制，以便在移動幅材WEBl上形成一個或多個印記MRK1。印記MRKl可包括例如 圖形符號，例如字母和/或數(shù)字。印記MRKl可包括例如字母"ABC"。
[0059] 設(shè)備500可包括控制單元CNTl，該控制單元可被布置成發(fā)送用于控制體100的旋 轉(zhuǎn)的信號S ltltl?？刂茊卧狢NTl可被布置成發(fā)送用于控制體200的旋轉(zhuǎn)的信號S2tltl?？刂茊卧?CNTl可確定點SP2的位置（例如，基于控制信號S1TO、S2tJ?？刂茊卧狢NTl可確定點SP2的 位置（例如，基于從位置傳感器（參見圖8a、8b)獲得的位置信號S a、Se)?？刂茊卧狢NTl 可被布置成根據(jù)點SP2的位置來控制遞送至點SP2的強度?？刂茊卧狢NTl可被布置成發(fā) 送用于控制撞擊在點SP2上的光LB2的強度的信號S 4tltl。信號S2(l(l、S4tltl例如可經(jīng)由電 纜或光纜CA1、CA2、CA3來傳遞。
[0060] 第一體100的角度取向可以通過第一致動器120來改變。第二體200的角度取向 可以通過第二致動器220來改變。致動器120和/或220可以例如是電動馬達、電動致動 器（例如，基于在磁場中移動的線圈、或基于在變化磁場中移動的磁體）、靜電致動器，特別 是MEMS致動器（微機電系統(tǒng)）或壓電致動器。
[0061] 第一致動器120可使第一體100繞第一旋轉(zhuǎn)軸AXl旋轉(zhuǎn)。第二致動器220可使第 二體200繞第二旋轉(zhuǎn)軸AX2旋轉(zhuǎn)。第一體100的角度取向可以按角速度％改變，該角速 度可以是恒定的或在實際上變化。體100的旋轉(zhuǎn)移動可以是單向或雙向的。體100可以被 布置成旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)或小于一轉(zhuǎn)（即，小于360° )。第二體200的角度取向可以按角速 度ω2改變，該角速度可以是恒定的或在時間上變化。體200的旋轉(zhuǎn)移動可以是單向或雙 向的。體200可以被布置成旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)或小于一轉(zhuǎn)（即，小于360° )。
[0062] 按基本恒定的角速度O1使體100旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)可有助于減小振動。由于第一 體按基本恒定的速度旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)的第一體所產(chǎn)生的機械振動的幅度可能比光束由傾斜的鏡 子（其在產(chǎn)生印記期間數(shù)次加速和減速）在橫向方向上轉(zhuǎn)向時更小。低振動可允許產(chǎn)生具 有改善精度的印記。按基本恒定的角速度使體100旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)可提供每單位時間的大 量橫向掃掠。按基本恒定的角速度使體100旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)可允許相對于移動點SP2的橫 向位置的非常精確和/或可重復(fù)激光脈沖時序。
[0063] 而且，第二體200可以按基本恒定的角速度（ω2)旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)，例如，以便減 小振動和/或以便提供相對于移動點SP2的縱向位置的精確的和/或可重復(fù)的激光脈沖時 序。
[0064] 由于按基本恒定的角速度旋轉(zhuǎn)，因此這些體的瞬時角度取向可以被以很高的精度 監(jiān)視，即便是使用非常簡單的位置傳感器（例如，光電開關(guān)）來檢測這些體的瞬時角度取 向。
[0065] 另一方面，使體100和/或200按時間上變化的角速度旋轉(zhuǎn)小于360°可提供制造 不同印記的更大的適應(yīng)性。使體200按時間上變化的角速度旋轉(zhuǎn)可允許在移動幅材WEBl上 產(chǎn)生三個連貫的印記，使得第一印記和第二印記之間的距離L%不同于第二印記和第三印 記之間的距離。使體200按時間上變化的角速度旋轉(zhuǎn)可允許在移動幅材WEBl上產(chǎn)生連貫 的印記，使得距離和/或L sync可被快速調(diào)整（例如，在圖5a中示出了距離Li和Lsync)。
[0066] 第一體100可按基本恒定的角速度ω 1旋轉(zhuǎn)，以提供高橫向掃掠率，而第二體200 可按不恒定的角速度《2旋轉(zhuǎn)以便提供選擇印記MRKl相對于移動幅材WEBl的縱向位置的 更多自由度。
[0067] 激光LB2可被作為短激光脈沖遞送至點SP2,以便在遞送至點SP2的光的強度低于 或等于0時點SP2的位置也改變。當(dāng)不向點SP2遞送激光時，點SP2也可根據(jù)體100、200 的旋轉(zhuǎn)移動。點SP2也可在連貫的各激光脈沖之間根據(jù)體100、200的旋轉(zhuǎn)移動。點SP2也 可被稱為瞄準點。裝置500可被布置成通過使用光束轉(zhuǎn)向布置將激光LB2遞送至移動的瞄 準點SP2,該光束轉(zhuǎn)向布置包括第一光束轉(zhuǎn)向體100和第二光束轉(zhuǎn)向體200,其中瞄準點SP2 的位置（x(t)，y(t))(參見圖2)取決于第一體100的角度取向α和第二體200的角度取 向β (參見圖3a和圖3b)。
[0068] 點SP2可根據(jù)一掃描圖案移動，使得激光在激光點SP2的位置與印記MRKl的點Dl 的期望位置沖突時的那些時刻被遞送（例如，聚焦）至（僅）移動激光點SP2。對于大多數(shù) 時間，點SP2可根據(jù)該掃描圖案移動，以使得激光不被遞送至點SP2。
[0069] 幅材WEBl可按速度V1移動。速度V1可以例如在5到50m/s范圍內(nèi)。尤其是，速 度V 1可在10到30m/s范圍內(nèi)。
[0070] 撞擊在移動幅材WEBl上的激光束LB2可在幅材WEBl上形成激光點SP2。遞送至 點SP2的激光束LB2的能量可以至少部分被幅材WEBl吸收，導(dǎo)致幅材WEBl的結(jié)構(gòu)和/或 材料的化學(xué)成分的局部的且不可逆的改變。例如，可在WEBl上燒蝕出孔。例如，在移動紙 質(zhì)幅材上形成的孔的直徑可以例如在0. 05mm到Imm范圍內(nèi)。材料可以被從幅材WEBl燒蝕 掉，使得幅材WEBl的厚度被局部減小。該幅材的化學(xué)成分可被改變。具體而言，幅材WEBl 的材料可被局部碳化（燒焦）以提供棕色或黑色。
[0071] 幅材WEBl可包括例如紙和/或卡板。幅材WEBl可包括例如金屬箔和/或聚合物 箔。幅材WEBl可包括附加于紙或卡板的金屬箔。幅材WEBl可包括附加于紙或卡板的聚合 物箔。幅材WEBl可包括附加于紙或卡板的金屬箔和聚合物箔。幅材WEBl可任選地包括 吸收激光束LB2的波長處的輻射的材料（例如，染料）。激光器400可以例如是二氧化碳 (CO 2)激光器。
[0072] 參考圖lb，第一旋轉(zhuǎn)體100可包括Hi1光束偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla、Flb。第一體100的光束 偏轉(zhuǎn)區(qū)域可以規(guī)則或不規(guī)則地間隔開。尤其是，光束偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla、Flb可以被放置得使得 旋轉(zhuǎn)體100相對于第一轉(zhuǎn)軸AXl具有Hi 1-重旋轉(zhuǎn)對稱性。例如在最小化振動和/或連貫橫 向掃掠之間的無用時間時這可以是有利的。數(shù)目Hi1例如可以在1到1000范圍內(nèi)。該裝置 可制造的印記MRKl的最大橫向維度WA(圖5a)可取決于數(shù)目Hi 1。較小的Hi1值可允許產(chǎn)生 具有更大橫向維度Wa的印記。然而，當(dāng)數(shù)目ml非常低（例如，在1到4范圍內(nèi)）時，橫向維 度WA也可受裝置的其他光學(xué)組件的屬性的限制，例如受（任選的）聚焦光學(xué)器件350 (圖 3a)的接受角和/或（任選的）中繼光學(xué)器件（圖9和10中示出）的接受角的限制。增大 的Hi1值可允許產(chǎn)生具有更高的橫向工作周期Ji y的小印記。這又進而允許減小激光器功率 和/或調(diào)制頻率。數(shù)目Hl1可被選擇為例如大于或等于5,以便避免減小光學(xué)器件的受限的 接受角所導(dǎo)致的橫向工作周期H y。數(shù)目Hi1可以例如在5到1000范圍內(nèi)。尤其是，數(shù)目Hi1 可以例如在50到1000范圍內(nèi)。
[0073] 參考圖lc，第二旋轉(zhuǎn)體200可包括m2波束偏轉(zhuǎn)區(qū)域F2a、F2b。第二體200的波束 偏轉(zhuǎn)區(qū)域可以規(guī)則或不規(guī)則地間隔開。尤其是，光束偏轉(zhuǎn)區(qū)域F2a、F2b可以被放置得使得 旋轉(zhuǎn)體200相對于第二轉(zhuǎn)軸AX2具有m 2-重旋轉(zhuǎn)對稱性。例如，當(dāng)印記與幅材WEBl (其隨后 將被切割為具有相同維度的多頁）同步制造時，這可能是有利的。數(shù)目m2可以例如在1到 100范圍內(nèi)。有利地，數(shù)目m 2在5到50范圍內(nèi)。
[0074] 當(dāng)體100、200對稱時，這可有助于最小化機械振動。該振動可減小裝置500的精 確度和/或工作壽命。
[0075] 術(shù)語"偏轉(zhuǎn)"可意味著反射、折射和/或衍射，使得（非零的）方向改變發(fā)生。衍 射可以是 _3、-2、_1、0、1、2或3量級上的反射型衍射或者-3、-2、_1、1、2或3量級上的透 射型衍射。量級〇上的透射型衍射不"偏轉(zhuǎn)"光。
[0076] 光束偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla、Fib、Flc、F2a、F2b、F2c例如可以是反射面（鏡子）、衍射面 (衍射光柵）或（棱鏡的）折射面。區(qū)域Fla、Fib、Flc、F2a、F2b、F2c也可被稱為"刻面 (facet)"。
[0077] 尤其是，體100可以是具有繞旋轉(zhuǎn)軸AXl的Hi1重旋轉(zhuǎn)對稱性的金屬的或金屬涂覆 的多面體，其中數(shù)目Hi 1可以例如在5到1000范圍內(nèi)。尤其是，體200可以是具有繞旋轉(zhuǎn)軸 AX2的m2重旋轉(zhuǎn)對稱性的金屬的或金屬涂覆的多面體，其中數(shù)目m2可以例如在5到50范 圍內(nèi)。體100、200的刻面可以被拋光和/或用反射涂層來涂覆。尤其是，體100、200可包 括用金或銠涂覆的鋁。
[0078] 使用反射區(qū)域可最大化與反射區(qū)域的角度取向的變化相對應(yīng)的偏轉(zhuǎn)光束的方向 的變化。
[0079] 區(qū)域Fla、Fib、F2a、F2b可以是反射性的。這可最大化與體100或200旋轉(zhuǎn)給定 角度區(qū)間相對應(yīng)的印記光束LB2的方向的變化。
[0080] 第一體100的每個區(qū)域Fla、Flb的法線可以基本垂直于旋轉(zhuǎn)軸AXl。第二體200 的每個區(qū)域F2a、F2b的法線可以基本垂直于旋轉(zhuǎn)軸AX2。這也可最大化與體100或200旋 轉(zhuǎn)給定角度區(qū)間相對應(yīng)的印記光束LB2的方向的變化。
[0081] 第一體100的區(qū)域Fla、Flb可被布置成通過以下方式提供第一偏轉(zhuǎn)光束LBl :將 入射光束LBO的光偏轉(zhuǎn)以使得第一偏轉(zhuǎn)光束LBl的方向根據(jù)第一體100繞第一旋轉(zhuǎn)軸AXl 旋轉(zhuǎn)時第一體100的角度取向α而變化。
[0082] 第二體200的區(qū)域F2a、F2b可被布置成通過以下方式提供第二偏轉(zhuǎn)光束LB2(即， 印記光束LB2):將第一偏轉(zhuǎn)光束LBl的光偏轉(zhuǎn)以使得第二偏轉(zhuǎn)光束LBl的方向根據(jù)第二體 200繞第二旋轉(zhuǎn)軸AX2旋轉(zhuǎn)時第二體200的角度取向β而變化。
[0083] 第一體100的旋轉(zhuǎn)可按如下方式改變體100的偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla、Flb的取向：點SP2 在橫向方向SY或ST上重復(fù)移動。
[0084] 第二體200的旋轉(zhuǎn)可按如下方式改變體200的偏轉(zhuǎn)區(qū)域F2a、F2b的取向：點SP2 在縱向方向SX上重復(fù)移動。
[0085] 在一實施例中，第一體100的旋轉(zhuǎn)可改變體100的偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla、Flb的取向，使得 點SP2在傾斜方向上重復(fù)移動。
[0086] 第一體100和第二體200的同時旋轉(zhuǎn)可使得點SP2沿若干傾斜且鄰近的軌跡 TRAC1、TRAC2(圖4a、6)移動。取決于裝置500的光學(xué)配置，軌跡TRACUTRAC2可以是直的 或曲的。軌跡的取向可由方向STl來定義，該方向STl可從方向SY偏離。方向SY和STl 之間的角度Yl可以例如在Γ到80°范圍內(nèi)。
[0087] 幅材WEBl可被布置成在用激光束LB2標記期間在縱向方向SX上移動。幅材WEBl 的平面可平行于方向SX和SY所定義的平面。裝置500的操作可在靜止坐標系（靜止幀） 中描述，該靜止坐標系可固定于例如軸AX1、AX2,并且可以通過使用可移動坐標系（移動 幀）來描述，該移動坐標系固定于移動幅材WEB1。SX、SY和SZ表示靜止幀的正交的方向。 在靜止幀中的位置可例如通過分別使用坐標X，y，Z來定義。su、SY和SZ表示移動幀的正 交的方向。在移動幀中的位置可例如通過分別使用坐標u，y，z來定義。方向SU平行于方 向SX。YREF表示基準線?；鶞示€YREF可平行于縱向方向SX。
[0088] 第一體100的第一刻面Fla的取向可以不同于第一體100的第二刻面Flb的取向。 第二體200的第一刻面F2a的取向可以不同于第二體200的第二刻面F2b的取向。第一體 100可以繞第一旋轉(zhuǎn)軸AXl旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)，使得體100的刻面Fla、Flb按基本恒定的角 速度O 1同時旋轉(zhuǎn)。第二體200可以繞第二旋轉(zhuǎn)軸AX2旋轉(zhuǎn)若干完整轉(zhuǎn)，使得體200的刻 面F2a、F2b按基本恒定的角速度ω 2同時旋轉(zhuǎn)。
[0089] 在使用基本恒定的角速度O1和/或(〇2時，第一體和/或第二體可具有相當(dāng)大的 慣性動量，這可幫助維持精確受控的旋轉(zhuǎn)速度和時序。當(dāng)在快速移動的幅材上制造印記時， 使各體的旋轉(zhuǎn)速度快速加速和減速不是必要的。
[0090] 參考圖2a，印記設(shè)備500可提供激光點SP2,激光點SP2的位置可由靜止坐標系中 的坐標x，y來定義。激光束LB2可用線逼近，該線在樞轉(zhuǎn)點PPl處樞轉(zhuǎn)?；鶞示€Nl可代表 激光束LB2的標稱（中央）取向?；鶞示€Nl可在點REFl處與幅材WEBl交叉。X表示激光 點SP2在方向SX上的坐標，而y表示激光點SP2在方向SY上的坐標。
[0091] 激光束LB2的方向可由圖2b和2c中示出的兩個角度Θ Θ 2來定義。Θ i可表示 方向SY和激光束LB2在方向SX和SZ定義的平面上的投影之間的夾角。Θ 2可表示方向SY 和激光束LB2在方向SY和SZ定義的平面上的投影之間的夾角。同樣在激光器所提供的激 光的功率為〇時，光束LB2也可被認為是具有由體100、200的角度取向所定義的方向。光 束LB2也可被稱為瞄準光束LB2。
[0092] 參考圖3a，該幅材可按速度V1移動。從而，在幅材WEBl上形成的點Dl可相對于 靜止基準REFl按速度V 1傳播。通過旋轉(zhuǎn)第一體100,可使激光點SP2在橫向方向SY上移 動。第一體100繞軸AXl的旋轉(zhuǎn)可導(dǎo)致方向SY上的橫向速度分量V y (參見例如圖6c)。通 過旋轉(zhuǎn)第二體200,可使激光點SP2在縱向方向SX上移動。第二體200繞軸AX2的旋轉(zhuǎn)可 導(dǎo)致縱向速度分量v x2。在一實施例中，同樣通過旋轉(zhuǎn)第一體100,可使激光點SP2在縱向方 向上移動。第一體100繞軸AXl的旋轉(zhuǎn)可導(dǎo)致縱向速度分量V xl (參見例如圖6c和6e)。點 SP2的總的縱向速度分量Vx可被形成為速度分量vxl，vx2的和。該點可按速度vT沿傾斜跡 線移動，該速度vT被形成為橫向速度分量V y和總的縱向速度分量Vx的矢量和。
[0093] 差V1-Vx2可被稱為相對速度VKa。當(dāng)在點SP2的單次縱向掃掠期間取平均時，相對 速度V 1^可表示點SP2相對于移動幅材WEBl的時間平均的縱向速度。點SP2的移動可針 對幅材WEBl的預(yù)定點表示，尤其是針對在幅材WEBl上形成的預(yù)定點Dl表示。
[0094] 激光點SP2的位置可由取決于時間的坐標x(t)來定義。點Dl的位置可由取決于 時間的坐標X mt⑴來定義。
[0095] 形成激光束LB2的光可被聚焦以便增大點SP2處的強度。例如，通過使用置于激光 器400附近的、在第二體200后的、或在一中間位置處的聚焦光學(xué)器件350,可以將光聚焦。 然而，在聚焦光學(xué)器件350被置于第二體200之后時，損傷光學(xué)表面的風(fēng)險可被最小化。聚 焦光學(xué)器件350可以例如是具有焦距f 2的透鏡。
[0096] 0C2表示第二體200所提供的經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束LB2的中心軸。OCl表示光束LBl的中 心軸，其中光束LBl可由已經(jīng)由第一體100偏轉(zhuǎn)的光構(gòu)成。
[0097] 參考圖3b，第一體100的角度取向α可以例如通過第一體100的光偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla 的角度取向來表達。第一區(qū)域Fla可相對于基準（例如，方向SZ)具有角度取向Ci1。第二 區(qū)域Flb可相對于基準（例如，方向SZ)具有角度取向α 2。
[0098] 例如當(dāng)體100的角度取向α在范圍α 1到α2內(nèi)時，激光LBO可撞擊區(qū)域Fla。區(qū) 域Fla的角度區(qū)間Λ α 12可以等于差a ^a2。角度區(qū)間Λ α 12可表示區(qū)域Fla相對于軸 AXl的角度寬度。區(qū)間Δ α 12還可表示第一體100的第一區(qū)域Fla的取向和第一體100的 第二區(qū)域Flb的取向之間的角度差。
[0099] 在叫重旋轉(zhuǎn)對稱的情況下，區(qū)間Λ α 12可等于360° Ai1。然而，在一實施例中，體 100的和/或體200的區(qū)域可被定位在不規(guī)則的角度區(qū)間處。在一實施例中，這些區(qū)域中的 一個或多個可被移除或者是不活動的（例如，黑色的）。
[0100] 在體100旋轉(zhuǎn)角度Λ α 12時，點SP2可做出單一完整橫向掃掠。當(dāng)偏轉(zhuǎn)區(qū)域Fla、 Flb的數(shù)量等于Hi1時，點SP2可在第一體100的單一完整旋轉(zhuǎn)期間穿越縱向基準線YREF Hi1 次。
[0101] 參考圖3c，第二體200的角度取向β可以例如通過第二體200的光偏轉(zhuǎn)區(qū)域F2a 的角度取向來表達。第一區(qū)域F2a可相對于基準（例如，方向SZ)具有角度取向P1。第二 區(qū)域F2b可相對于基準（例如，方向SZ)具有角度取向β 2。
[0102] 例如當(dāng)體200的角度取向β在范圍βι到內(nèi)時，激光LBl可撞擊區(qū)域F2a。區(qū) 域Fla的角度區(qū)間Λ β12可以等于差^1-P2。角度區(qū)間Λ β12可表示區(qū)域F2a相對于軸 AX2的角度寬度。區(qū)間Λ β 12還可表示第二體200的第一區(qū)域F2a的取向和第二體200的 第二區(qū)域F2b的取向之間的角度差。
[0103] 在HI2重旋轉(zhuǎn)對稱的情況下，區(qū)間Λ β12可等于360° /m2。然而，在一實施例中，體 200的各區(qū)域可被定位在不規(guī)則的角度區(qū)間處。在一實施例中，這些區(qū)域中的一個或多個可 被移除或者是不活動的（例如，黑色的）。
[0104] 在體100旋轉(zhuǎn)角度Λ β 12時，點SP2可做出單一縱向掃掠。
[0105] 圖4a示出掃描圖案SCANPAT1，該掃描圖案可通過使第一體100按角速度Co1旋轉(zhuǎn) 并且通過使第二體按角速度ω 2旋轉(zhuǎn)來形成。該圖案可包括多條鄰近線TRACUTRAC2。光 束LB2的方向可被改變，使得點SP2沿著線TRACl移動，并隨后跳至沿著鄰近線TRAC2移動。 圖4a示出靜止坐標系中的掃描圖案。YREF表示縱向基準線?？v向基準線YREF可與基準位 置REFl具有相同的橫向位置。
[0106] 第一線TRACl可表示在光束LBO撞擊體100的（單一）旋轉(zhuǎn)刻面Fla (參見圖1) 時所掃描的點。第二線TRAC2可表示在光束LBO撞擊體100的鄰近旋轉(zhuǎn)刻面Flb (或Flc) 時所掃描的點（光束LBO例如在圖Ia-Ic中示出）。
[0107] 小的空心圓圈表不激光器400被布置成遞送激光脈沖的點。
[0108] 圖4b表示圖4a的掃描圖案SCANPAT1在移動坐標系中將如何顯現(xiàn)。用激光器進 行印記表示從靜止坐標系到移動坐標系的映射操作。沿圖4a中示出的線TRACl掃掠可在 圖4b中示出的線TRAC1'處提供印記。沿圖4a中示出的線TRAC2掃掠可在圖4b中示出的 線TRAC2'上提供印記。沿著軌跡TRAC10、TRACll掃掠可在線TRAC10'、TRAC11'上提供印 記。
[0109] 第二旋轉(zhuǎn)體200所導(dǎo)致的點SP2的縱向速度分量vx2可以比速度V1低。如圖4b中 所示，與圖4a中示出的線TRACI, TRAC2的次序相比，線TRAC2'，TRACI'的次序可以反過來。
[0110] 縱向速度分量Vx2也可比速度力高。在此案例下，線TRAC1'，TRAC2'將與圖4a中 示出的線TRAC1，TRAC2具有相同的次序。圖1表示了其中縱向速度分量v x2高于幅材WEBl 的速度V1的示例。
[0111] 點SP2的縱向速度分量Vx2可以例如在速度V1的50%到150%范圍內(nèi)。點SP2的 縱向速度分量v x2可被稱為時間平均的縱向速度分量vx2，其是在單一寫入時段Ta期間取平 均的。
[0112] 在一實施例中，點SP2的縱向速度分量vx2可以例如在速度V1的50%到150%范 圍內(nèi)，但是與速度V 1不同，以便產(chǎn)生包括在二維陣列中布置的點Dl的印記MRK1。
[0113] 使用小于速度V1的縱向速度分量Vx2可以是有利的，因為它可以通過使用第二體 200的較低角速度ω 2來實現(xiàn)。
[0114] 在一實施例中，點SP2的縱向速度分量νχ2可以等于幅材WEBl的速度V 1。如果點 SP2的縱向速度分量νχ2等于幅材WEBl的速度V1，則這可允許在幅材WEBl上產(chǎn)生一維印記 MRKl。換言之，該印記的點Dl將被布置在單一線上。
[0115] 靜止基準點REFl可在移動坐標系中繪制直線ΝΡΑΤΗ。移動幀中的縱向位置可以參 考基準點Dl來由坐標u定義，該基準點Dl與幅材WEBl -起移動。當(dāng)νχ2尹V1時，激光點 SP2的縱向位置u(t)可在固定至幅材WEBl的移動坐標系中根據(jù)時間來改變。
[0116] 可形成若干印記MRKO、MRKI、MRK2，這些印記彼此分離。
[0117] 參考圖5a，激光束LB2的功率可被調(diào)制以形成包括若干點Dl的印記MRKl、MRK2。 圖5a示出（固定至幅材WEBl的）移動坐標系中的印記。
[0118] 單一點Dl可具有縱向維度DMl和橫向維度DM2。橫向維度DM2通常大于或等 于縱向維度DM1?？赏ㄟ^調(diào)整光束LB2的脈沖的持續(xù)時間來選擇橫向維度DM2的期望值。 短脈沖可提供短維度DM2。長脈沖可提供長維度DM2。增加單一線TRAC1'上的點Dl的 數(shù)量可需要增加激光器400的調(diào)制頻率f_。
[0119] Wa表示印記MRKl的最大橫向維度。We表示鄰近點之間的橫向距離。根據(jù)幅材WEBl 的速度V1，通過調(diào)整鄰近激光脈沖之間的時段和/或通過調(diào)整第一體100的角速度ω i和/ 或通過選擇第一體100的刻面的數(shù)量和/或通過調(diào)整第二體200的角速度ω2和/或通過 選擇第二體200的刻面的數(shù)量和/或通過選擇光學(xué)器件350的焦距f 2，可以設(shè)置期望的We 值。
[0120] La表示印記MRKl的各點之間的最大縱向距離。根據(jù)幅材WEBl的速度V1，通過調(diào) 整第二體200的角速度和/或通過選擇第二體200的刻面的數(shù)量和/或通過選擇光學(xué)器件 350的焦距f 2，可以選擇期望的La值。
[0121] U1可表示第一印記MRKl的前端的縱向坐標，U2可表示第一印記MRKl的尾端的縱 向坐標，而U 3可表示第一印記MRK2的前端的縱向坐標。
[0122] Lsync可表示印記MRKl的各前端之間的距離（S卩，Lsync = U3-U1)。根據(jù)幅材WEBl的 速度V1，通過調(diào)整第二體200的角速度ω 2和/或通過選擇第二體200的刻面的數(shù)量m2和 /或通過選擇光學(xué)器件350的焦距f 2，可以選擇期望的Lsyn。值。
[0123] 在一實施例中，設(shè)備500所印記的幅材WEBl可以在隨后被切割為單獨的頁。維 度L syn。可以與所述頁的縱向維度相匹配。具體而言，維度Lsyn?？梢耘c如由標準ISO 216 和八呢1/^51\^￥14.1中所確定的標準頁尺寸六5，六4，六3，六2，六1，六0，六呢1六，六呢18，六呢1 C, ANSI D和ANSI E之一相匹配。
[0124] 鄰近印記MRK1、MRK2可以由空白BLANK 12分開，其中使用單一印記光束LB2在該 空白上形成印記可能是不可能的?？瞻譈LANK12對應(yīng)于印記光束LB2可用于制造點Dl時 的時段。在所述（空白）時段期間，中間光束LBl可能只部分地撞擊體200的刻面。激光 束LBl的功率可在所述時段期間被關(guān)閉，例如以便避免損害光學(xué)組件和/或以便避免產(chǎn)生 劣等或重復(fù)的點D1。而且聚焦光學(xué)器件的屬性（接受角度）可對空白的長度Li有影響。
[0125] 參考圖5b，附加于更短的點D1，還可形成具有更大橫向維度的點D2、D3。點D1、 D2、D3可形成圖形符號，例如字母和/或數(shù)字。還可通過使用反色方案（即，點Dl、D2、D3 可覆蓋二維陣列的超過50%的部位）來形成符號。
[0126] 圖6a示出在二維陣列的部位上布置的點Dla、Dlb。點Dla、Dlb是在幅材WEBl上 形成的。這些點的橫向位置可由橫向坐標 yi，y2，…來定義。圖6a還示出了在靜止坐標系 中疊加在移動幅材WEBl的瞬時圖像上的激光點SP2的鄰近軌跡TRACI，TRAC2。該圖像表示 激光點SP2正在形成點Dlb的時刻（S卩，點SP2與點Dlb重合）。
[0127] 線TRAC1'上的點是在沿（前一）軌跡TRACl掃掠激光點SP2時形成的。線TRAC1' 上的點Dla是在掃掠的激光點SP2與軌跡TRACl上的點（x la，xla)重合時形成的。
[0128] 掃掠激光點SP2具有橫向速度分量Vy和縱向速度分量vx。在此示例中，縱向速度 分量v x小于幅材WEBl的速度V1。
[0129] 橫向位置處的第二點y2可以是比橫向位置處的第一Ay1稍微晚一點形成的。在 與使點SP2沿軌跡TRAC2從位置yl移動到位置y2相關(guān)聯(lián)的時段Λ t12期間，幅材WEBl可 被移位一個小距離Δ X12。移位Δ X12可以根據(jù)公式Δ x12 = Vke1j · Δ t12而與相對速度Vke1j成 比例。點SP2可被移動，使得第一體100的旋轉(zhuǎn)不導(dǎo)致點SP2的縱向速度分量。隨后，所形 成的點Dl可位于橫向線TRAC2'上，該橫向線不垂直于幅材WEBl的移動方向。所形成的點 Dl可位于橫向線TRAC2'上，該橫向線不平行于方向SY。
[0130] 跡線TRACI, TRAC2可具有相對于方向SY的角度Y 1。角度Y 1可以例如在Γ至Ij 80°范圍內(nèi)。橫向線TRAC1'，TRAC2'可具有相對于方向SY的角度γ2(圖5a)。所形成的 點可被布置在傾斜陣列的部位上。印記MRKl可包括布置在二維傾斜陣列中的例如十個或 更多個點D1，該陣列的傾斜角度Y2在10°到45°范圍內(nèi)。
[0131] REG5可表示跡線TRACl的可用部分，其中激光束LBO (僅）撞擊第一體100的一個 刻面，并且其中聚焦光學(xué)器件350 (如果使用）能夠?qū)⒐馐鳯B2遞送至幅材WEBl的表面。當(dāng) 激光點SP2處于跡線TRACl的可用部分REG5時，激光束的全部功率可被遞送至激光點SP2。
[0132] 跡線TRACl的區(qū)域REG4和REG6可表示其中初始激光束LBO同時撞擊體100的 兩個鄰近刻面Fla、Flb和/或鄰近刻面之間的區(qū)域的情形。從而，當(dāng)點SP2處于區(qū)域REG4 或REG6中時，不能將全部功率遞送至點SP2。在區(qū)域REG4或REG6中使用高激光功率可涉 及損傷光學(xué)組件的風(fēng)險。而且，當(dāng)點SP2處于區(qū)域REG4或REG6中時光束LBO的光可能被 分開并且定向到若干不同方向，使得可能在幅材WEBl的不利（即，錯誤）位置中形成影點 (ghost dot)〇
[0133] Wt表示掃描軌跡TRACl的全部橫向維度。印記MRKl的橫向維度可以等于Wa(圖 5a)?？捎貌糠諶EG5的最大橫向維度可以是W a。印記MRKl的橫向維度可以小于或等于最 大橫向維度wA。橫向掃掠可具有工作周期ny，其中ny = wA/wT。工作周期ny例如可以在 10%到90%范圍內(nèi)。
[0134] 圖6b示出在其中第二體不旋轉(zhuǎn)的假想情形下第一體100所導(dǎo)致的激光點SP2的 移動。當(dāng)?shù)谝惑w100在旋轉(zhuǎn)時，點SP2可按橫向速度V y沿跡線TRAC100從開始點POSl到終 止點P0S2重復(fù)移動。橫向掃掠循環(huán)可包括按橫向速度Vy將點SP2從開始點POSl移動至 終止點P0S2。當(dāng)點SP2已達到終止點P0S2時，點SP2可在短時段內(nèi)從點P0S2跳至點POSl 以開始下一橫向掃掠循環(huán)。在此案例中，跡線TRAC100垂直于縱向方向SX，且第一體100的 旋轉(zhuǎn)不導(dǎo)致點SP2的縱向移動。點SP2可從點P0S2跳至點POSl而沒有在縱向方向SX上 的移位。
[0135] 圖6c示出在其中第二體不旋轉(zhuǎn)的假想情形下第一體100所導(dǎo)致的激光點SP2的 移動。在此情況下，跡線TRAC100不垂直于縱向方向SX，而第一體100的旋轉(zhuǎn)除了導(dǎo)致橫向 速度分量V y以外，還可導(dǎo)致點SP2的縱向速度分量Vxl。兩個連續(xù)橫向掃掠循環(huán)之間的過渡 可以與點SP2從終止點P0S2跳至開始點POSl時的突然縱向移位相關(guān)聯(lián)。
[0136] 點SP2可在單一寫入循環(huán)期間重復(fù)返回至開始點POSl若干次。從而，點SP2的速 度分量V xl的時間平均值可以基本上等于〇。
[0137] 圖6b和圖6c還可被認為示出了激光點SP2在延后坐標系中的移動，該延后坐標 系按相對速度在方向SX上移動。
[0138] 圖6d示出了其中第二體200正在旋轉(zhuǎn)且其中第一體100的旋轉(zhuǎn)不導(dǎo)致點SP2的 縱向移動的情形的速度矢量圖。點SP2可在靜止坐標系中按傾斜速度ν τ沿跡線TRACl移 動。第一體100的旋轉(zhuǎn)可導(dǎo)致橫向速度分量Vy，而第二體200的旋轉(zhuǎn)可導(dǎo)致縱向速度分量 vx2。速度ντ可被形成為速度分量vxl, Vx2和Vy的矢量和。第一體100的旋轉(zhuǎn)所導(dǎo)致的縱向 速度分量Vxl可以為〇,而點SP2的縱向速度V x可以完全由第二體200的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致。
[0139] 圖6e示出了其中第二體200正在旋轉(zhuǎn)且其中第一體100的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致第一縱向速 度分量V xl的情形的速度矢量圖。第二體200的旋轉(zhuǎn)可導(dǎo)致第二縱向速度分量vx2。點SP2 的縱向速度V x可以被形成為分量vx2和Vxl的總和。速度ντ可被形成為速度分量V x和Vy的 矢量和。
[0140] 圖6f示出，在其中第一體100的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致第一縱向速度分量Vxl，而第二體200的 旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致第二縱向速度分量v x2的情形下，靜止坐標系中重疊在移動幅材WEBl的瞬時圖像 上的激光點SP2的鄰近跡線TRACI，TRAC2。印記MRKl可由二維陣列的部位上布置的多個點 形成。當(dāng)選擇總和v xl+vx2基本上等于幅材WEBl的速度V1時,所得到的點Dl的陣列可以是 基本上為矩形的。點Dl可以沿橫向線TRAC1'，TRAC2'布置。對于某些應(yīng)用，由布置在矩形 陣列的各部位中的點形成的印記可以比由布置在傾斜陣列的各部位中的點形成的印記在 視覺上更令人愉悅。
[0141] 第一體100的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致主光束LBO從第一刻面到第二刻面的轉(zhuǎn)移。光束LBO從第 一刻面Fla到第二刻面Flb的過渡可以與點SP2的突然縱向和橫向移位（"跳躍"）相關(guān) 聯(lián)。與跳躍相關(guān)聯(lián)的縱向移位可以等于鄰近線TRAC1'，TRAC2'之間的距離L e。
[0142] 參考圖6g，第一體100的旋轉(zhuǎn)軸AXl可以相對于縱向方向SX傾斜，使得第一體100 繞軸AXl的旋轉(zhuǎn)除了導(dǎo)致橫向速度分量Vy外，還導(dǎo)致點SP2的縱向速度分量Vxl。因此，點 SP2的跡線TRAC100可相對于方向SY傾斜，即便在第二體所導(dǎo)致的縱向速度分量vx2為0的 情形中。第一體100的各刻面可通過周期性地偏轉(zhuǎn)主光束LBO的光來提供中間光束LBl，而 第二體200的刻面F2a可通過偏轉(zhuǎn)中間光束LBl的光來提供印記光束LB2。方向SX和軸 AXl之間的傾斜角度例如可以是在2°到45°范圍內(nèi)。跡線TRAC100的傾斜角度φ?可以等 于軸AXl相對于縱向方向SX的傾斜角度。
[0143] 在一實施例中，第一體100的旋轉(zhuǎn)軸AXl和縱向方向SZ之間的傾斜角度例如可以 在2°到45°范圍內(nèi)，以便在第二體所導(dǎo)致的縱向速度分量ν χ2為0的情形下提供點SP2的 傾斜跡線TRAC100。
[0144] 方向SX和軸AXl之間的傾斜角度例如可以在2°到45°范圍內(nèi)，和/或軸AXl和 堅直方向SZ之間的傾斜角度例如可以在2°到45°范圍內(nèi)。當(dāng)傾斜跡線TRAC100是通過 將軸AXl設(shè)置為該傾斜角度位置（即，為該傾斜取向）來提供時，附加光學(xué)組件的使用可被 最小化或避免。
[0145] 參考圖6h，當(dāng)（靜止的）光束旋轉(zhuǎn)器160已被置于第一體100和第二體200之間 時，第一體100繞軸AXl的旋轉(zhuǎn)可導(dǎo)致縱向速度分量V xl。具體而言，即便在軸AXl平行于縱 向方向SX時，第一體100的旋轉(zhuǎn)也可提供縱向速度分量Vxl。光束旋轉(zhuǎn)器160例如可以是道 威（Dove)棱鏡或被布置成提供光束旋轉(zhuǎn)功能的反射型的光束旋轉(zhuǎn)設(shè)定。光束旋轉(zhuǎn)器的取 向可以是可調(diào)整的，但是在寫印記MRKl期間可將其保持靜止。第一體100可提供第一中間 光束LB1，該第一中間光束LBl可被布置成沿跡線TRAC101掃描（即，掃掠），跡線TRAC101 平行于方向SY。光束旋轉(zhuǎn)器160可以通過旋轉(zhuǎn)第一中間光束LBl的光來提供第二中間光 束LB1'，其中第二中間光束可沿跡線TRAC101'掃掠，跡線TRAC101'從方向SY偏離。跡線 TRAC101'和方向SY之間的角度φ?可通過設(shè)置光束旋轉(zhuǎn)器160的適當(dāng)取向（例如0. 5 · φ? )來選擇。第二中間光束LB1'的光隨后可由第二體200偏轉(zhuǎn)以提供印記光束LB2。
[0146] 參考圖6i，同樣通過使用第一體100的傾斜反射刻面，第一體100繞軸AXl的旋轉(zhuǎn) 可導(dǎo)致縱向速度分量V xl。第一體100的刻面可以傾斜，使得刻面Fla的法線不垂直于旋轉(zhuǎn) 軸AX1，其中主光束LBO可撞擊刻面Fla，使得主光束LBO的中心線不在包含軸AXl的平面 中。
[0147] 圖7示出包括印記設(shè)備500的裝置1000。裝置1000可以是web處理裝置。裝置 1000可以被布置成例如產(chǎn)生紙質(zhì)幅材WEBl或卡板幅材WEBl。裝置1000可以被布置成處 理紙質(zhì)幅材或卡板幅材。裝置1000可包括例如成形段、按壓段、干燥段、研光段、涂覆段和 /或涂覆段。裝置1000可包括一個或多個輥1010、1020以按速度V 1移動幅材WEBl。裝置 1000可包括用于處理幅材WEBl的處理單元1100。處理單元1100可以例如是加熱單元、涂 覆單元或切割機。當(dāng)由光束LB2印記時，WEBl可以是干的或濕的。
[0148] 參考圖8a，印記設(shè)備500可包括第一旋轉(zhuǎn)體100和第二旋轉(zhuǎn)體200。體100、200 可以用馬達120、220來旋轉(zhuǎn)。設(shè)備500可包括被布置成控制設(shè)備500的操作的控制單元 CNT1。設(shè)備500可包括存儲器MEM1，該存儲器可存儲用于形成期望印記的控制數(shù)據(jù)DATA1。 控制數(shù)據(jù)DATAl可例如根據(jù)體100、200的角度位置α，β來指定激光束LB2的功率。光束 LB2的功率例如可由從控制單元CNTl傳遞到激光器400的控制信號S4tltl調(diào)制。馬達120、 220可以被信號S 1QQ，S2tltl打開和關(guān)閉。任選地，體100、200的角速度是可調(diào)整的，其中角速 度可由信號S 1(I(I，S2(I(I來設(shè)置。馬達120和/或220例如可以是電動馬達。具體而言，馬達 120和/或220可以是無刷電動馬達，以便提供對旋轉(zhuǎn)速度的精確控制和長操作壽命。在一 實施例中，體100、200兩者均可由同一馬達（例如通過使用齒輪箱）來旋轉(zhuǎn)。然而，用單獨 的馬達旋轉(zhuǎn)各體可提供在工作情形中選擇印記的維度的附加自由度。
[0149] 印記設(shè)備500可任選地包括一個或多個傳感器來監(jiān)視第一體100的角度取向以及 監(jiān)視第二體200的角度取向。第一傳感器可提供第一角度取向信號S a，該角度取向信號可 指定第一體100的角度取向a。第二傳感器可提供第二角度取向信號Se，該角度取向信號 可指定第二體200的角度取向β。這些傳感器可以例如是旋轉(zhuǎn)編碼器或光電開關(guān)。取向信 號S a例如可以是例如由光電開關(guān)或由Hall開關(guān)提供的1位數(shù)字信號，其指定第一體100 何時處于預(yù)定角度位置（例如，在α = 〇1處）。角速度CO1可以例如通過測量與完整旋 轉(zhuǎn)相對應(yīng)的時段來確定。角度位置α可以基于角速度Co 1并且基于第一體處于預(yù)定角度 位置時的時間來外插。第二體200的角度位置β可以基于角速度ω2并且基于第二體處 于預(yù)定角度位置時的時間來確定。然而，反饋信號S a，Se的使用不是必須的。例如，馬達可 以是同步電動馬達，其按由電流的頻率確定的速度旋轉(zhuǎn)。體100、200的取向也可基于由設(shè) 備500形成的印記中的點的位置來確定。
[0150] 設(shè)備500可以任選地包括速度傳感器VSENSl來檢測幅材WEBl的速度。傳感器 VSENSl例如可以通過監(jiān)視裝置1000的輥1010的旋轉(zhuǎn)速度來確定速度V1 (圖7)。體100、 200的角速度可以根據(jù)所檢測到的速度V1來設(shè)定。例如當(dāng)幅材WEBl的速度V 1為常數(shù)和/ 或通過其他手段已知時，速度傳感器VSENSl可以被省略。例如，紙?zhí)幚頇C的控制系統(tǒng)可以 提供指定幅材WEBl的速度的信號。當(dāng)印記MRKl的縱向長度中的（隨機）變化和/或印記 MRKl的形狀的扭曲可容忍時，速度傳感器也可以被省略。
[0151] 參考圖8b，印記設(shè)備500可進一步包括用于在用激光束LB2印記之前和/或之后 監(jiān)視幅材WEBl的一個或多個相機單元CAMl、CAM2。相機單元CAMl、CAM2所捕捉的圖像可 被相應(yīng)的圖像分析單元IAU1、IAU2分析。圖像分析單元IAU1、IAU2可提供圖像分析數(shù)據(jù) SCAM1、SCAM2。在用激光束LB2印記之前由相機CAMl捕捉的圖像可以被分析，例如以確定初步 印記的位置。控制單元CNTl可被布置成控制新激光印記MRKl相對于前一印記的位置的位 置。通過確定前一印記沿幅材WEB移動的速度，由相機CAMl和/或由相機CAM2捕捉的兩 個或更多個圖像可被用于例如確定幅材WEBl的速度。從而，不需要使用單獨的速度傳感器 VSENS1。在用激光束LB2印記之后由相機CAM2捕捉的印記的圖像可以被分析，例如以提供 反饋信號SeAM2。例如，控制單元CNTl可被布置成基于通過分析印記MRKl的圖像確定的反 饋信號S que來調(diào)整角速度O1和/或ω2。例如，控制單元CNTl可被布置成基于反饋信號 Sque來調(diào)整激光功率。例如，控制單元CNTl可被布置成基于反饋信號Sque，調(diào)整激光脈沖 相對于體100、200的角度位置的同步。
[0152] 設(shè)備500可進一步包括用于存儲用于執(zhí)行本發(fā)明的方法的計算機程序代碼PROGl 的存儲器ΜΕΜ2。
[0153] 設(shè)備500可進一步包括例如用于從裝置1000 (例如，從裝置1000的一個或多個傳 感器和/或從裝置1000的控制單元）接收輸入信號Sm的接口 INTRFl。輸入信號Sm可例 如由過程自動化系統(tǒng)來提供。接口 INTRFl還可以能夠從用戶界面（直接或間接地）接收輸 入信號Sin2。輸入信號Sin2可包括例如指定由設(shè)備500在幅材WEBl上制造的印記MRKl的數(shù) 據(jù)DATAl。輸入信號S in2可包括用于指定印記MRKl、MRK2相對于彼此的位置的數(shù)據(jù)DATAl。 印記設(shè)備500的操作可基于輸入信號Sin2來開始和/或停止。接口 INTRFl可被布置成向系 統(tǒng)1000發(fā)送輸出數(shù)據(jù)Sotjt。輸出數(shù)據(jù)Sotjt可例如包括關(guān)于激光器400的操作溫度的信息、 關(guān)于激光器的（所監(jiān)視的）功率的信息和/或從相機單元CAMl和/或CAM2獲得的圖像分 析信息。如果印記設(shè)備500沒有在正常操作，則印記設(shè)備500的操作可被關(guān)閉。如果印記 設(shè)備500沒有在正常操作，則幅材處理裝置1000的操作可被停止。
[0154] 由第一體100的刻面偏轉(zhuǎn)的光束LBl的光可被直接耦合至第二體200的刻面（如 圖1中所示），或者通過使用任選的其他光學(xué)組件來耦合至第二體200的刻面。
[0155] 印記設(shè)備500可包括致動器140,該致動器被布置成調(diào)整第一旋轉(zhuǎn)體100所導(dǎo)致的 縱向速度分量。該致動器可調(diào)整例如軸AXl的取向或光束旋轉(zhuǎn)器160的取向（圖6h)。致 動器140可由信號S 14c!控制。
[0156] 圖9示出其中第一多面體反射器100的刻面Fla提供的光束LBl的方向被反射器 315改變，并經(jīng)由中繼光學(xué)器件320耦合到第二多面體反射器200的刻面F2a的設(shè)定。主激 光束LBO可例如在方向SY上傳播，使得它撞擊第一多面體反射器100的刻面Fla。中繼光 學(xué)器件320可提供中繼光束LB1，該中繼光束撞擊第二多面體反射器200的刻面F2a。
[0157] 中繼光學(xué)器件320可包括例如兩個或更多個透鏡321、322。透鏡321、322之間的 距離可以基本上等于透鏡321、322的焦距的總和。第一透鏡321可通過將中間光束LBl的 光聚焦來提供經(jīng)聚焦光束，而第二透鏡322可提供使所述經(jīng)聚焦的光準直來提供中繼光束 LB1，。
[0158] 使用中繼光學(xué)器件320例如可以幫助增大維度Wa與維度Wt的比（圖6a)，換言之， 中繼光學(xué)器件320可增大橫向掃掠的工作周期n y。光束LBl的方向的改變可產(chǎn)生經(jīng)中繼 的光束LB1'的方向的改變。所述改變的比可被稱為中繼光學(xué)器件320的角度轉(zhuǎn)換比。該 角度轉(zhuǎn)換比可以基本上等于透鏡321、322的焦距的比。該角度轉(zhuǎn)換比可等于1或可以不同 于1。例如，通過選擇中繼光學(xué)器件320的角度轉(zhuǎn)換比，可以調(diào)整橫向?qū)挾萟和/或^。例 如，通過選擇第一體100的光反射區(qū)域Fla、Flb的數(shù)量、通過選擇聚焦光學(xué)器件350的焦距 f2和/或通過選擇中繼光學(xué)器件320的角度轉(zhuǎn)換比，可以調(diào)整橫向?qū)挾萕a和/或Wt。在一 實施例中，中繼光學(xué)器件可通過使用反射型光學(xué)器件，特別是通過使用拋物面反射表面來 實現(xiàn)。
[0159] 圖10以三維視圖示出激光印記設(shè)備500的光學(xué)設(shè)定。圖10表示幅材WEB"之下" 的視圖，即，設(shè)備500位于幅材WEBl的第一側(cè)（例如，上側(cè)），而觀看者位于幅材WEBl的第 二側(cè)（例如，下側(cè)）。在圖10中，"可見"光束可被"穿過"幅材看到（在現(xiàn)實中，光束可以 例如是人眼不可見的紅外光，而幅材在對人眼可見的波長下可能是不透明的）。
[0160] 反射器310可將激光器400提供的主光束LBO定向至第一旋轉(zhuǎn)多面體反射器100 的刻面Fla?？堂鍲la可提供第一經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束LBl，該第一經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束可經(jīng)由中繼透鏡321、 322和反射器340耦合至第二旋轉(zhuǎn)多面體反射器200的刻面F2a。印記激光束LB2可通過 由刻面F2a使光束LBl的光偏轉(zhuǎn)、以及通過由透鏡350聚焦光來提供。多面體反射器100、 200可用馬達120、220來旋轉(zhuǎn)。
[0161] 第一多面體100的旋轉(zhuǎn)改變刻面Fla的取向，這導(dǎo)致光束LB2的橫向掃掠（在方 向SY上）。第二多面體200的旋轉(zhuǎn)改變刻面F2a的取向，這導(dǎo)致光束LB2的縱向掃掠（在 方向SX上）。
[0162] 參考圖11，縱向掃掠的可用區(qū)域REG2可比由旋轉(zhuǎn)體200提供的完整掃掠長度Lfi^ 短。末端區(qū)域REG1、REG3可提供以下情形：其中中間光束LBl同時撞擊體200的兩個鄰近 刻面和/或兩個鄰近刻面之間的區(qū)域。產(chǎn)生高質(zhì)量點Dl在點SP2在末端區(qū)域REGl或REG3 中時可能是困難或不可能的。維度L KEe2還可例如受光學(xué)器件350的接受角度和/或偏差的 限制。例如，維度LKEe2可能比光學(xué)器件350的焦距f 2短。尤其是，維度Lkk2可例如短于或 等于焦距&的50%?？v向掃掠可具有縱向工作周期Ii x?？v向工作周期Iix等于LKEe2/LFi。 縱向工作周期η χ可以例如在10%到90%范圍內(nèi)。
[0163] 圖12a示出三個連續(xù)印記循環(huán)CO、Cl、C2期間激光點SP2的縱向位置u。位置u 在幅材WEBl的移動坐標系中示出。
[0164] 第一印記MRKl的寫入可在時間tul開始，而寫入可在時間tu2停止。第二印記MRK2 的寫入可在時間U開始。第一印記MRKl的縱向維度可以等于L A。1^。表示印記MRK1，MRK2 的前端之間的縱向距離。表示印記MRK1，MRK2之間的空白（S卩，中空空間）的縱向長度。
[0165] 第一印記MRKl可在時間tul和U之間的時段Ta期間被寫入。在時間t u2和tu3之 間的（空白）時段T%期間，激光點SP2可跳至第二印記MRK2的開始位置。
[0166] 第二旋轉(zhuǎn)體200可被解釋成執(zhí)行時間扭曲操作，其中可用于寫入印記MRKl的時段 Ta的持續(xù)時間可以通過縮短無用時段的持續(xù)時間來增力卩。Tt表示時段Ta和的總和。
[0167] 圖12b示出操作的比較示例，其中用固定的鏡子來取代旋轉(zhuǎn)的第二體200。在此比 較示例中，印記必須在寫入循環(huán)E0、E1、E2期間被寫入。寫入循環(huán)El開始于時間t ul并且終 止于時間t2,E1。具有長度La的印記現(xiàn)在應(yīng)當(dāng)在時段T A,E1期間被寫入到位置U1和U2之間， 時段顯著短于圖12a中示出的持續(xù)時間T A。Tbuei表示寫入兩個連續(xù)印記之間的時段。形成 單一印記MRKl的點Dl可能需要在時段1\期間被制造。如果在保持點的數(shù)量恒定的同時縮 短該時段，則激光束LB2的調(diào)制頻率需要被增大。從而，與圖12a的情形相比，在圖12b的 比較示例中可能需要更高的調(diào)制頻率。撞擊根據(jù)圖12a寫入的印記MRKl的區(qū)域的激光束 LB2的強度可顯著低于圖12b中的比較示例。這可允許通過使用更小的和/或更便宜的激 光器400來操作。
[0168] 再參考圖12a，比LA/LSYN?？扇Q于激光點SP2的平均縱向速度分量v x2并取決于 幅材WEBl的速度V1。
[0169] 激光點SP2的平均縱向速度分量vx2可以例如在幅材WEBl的速度V1的50%到 150%范圍內(nèi)。
[0170] 可得出以下公式來描述印記MRKl的縱向維度La如何取決于這些速度。

【權(quán)利要求】
1. 一種用于在移動幅材（WEB1)上制造印記（MRK1)的方法，所述方法包括： -在縱向方向（SX)上移動所述幅材（WEB1)， -通過使用第一光束轉(zhuǎn)向體（100)和第二光束轉(zhuǎn)向體（200)將激光（LB2)遞送至移動 瞄準點（SP2)，以使得所述瞄準點的位置（(x(t)，y(t))取決于所述第一體（100)的角度取 向（α)并取決于所述第二體（200)的角度取向（β)， -使所述第二體（200)從第一角度取向（?^)旋轉(zhuǎn)到第二角度取向（β2)，從所述第 一角度取向（?^)到所述第二角度取向（β2)的旋轉(zhuǎn)定義寫入時段（ΤΑ)，其中所述第二體 (200)的旋轉(zhuǎn)移動所述瞄準點（SP2)，使得所述寫入時段（Τ Α)期間所述瞄準點（SP2)的平 均縱向速度分量（νχ2)在所述幅材（WEB1)的速度（ Vl)的50%到150%范圍內(nèi)， -使所述第一體（100)旋轉(zhuǎn)，以使得所述瞄準點（SP2)在所述寫入時段（TA)期間跨越 基準線（YREF)數(shù)次，以及 -基于所述第一體（100)的角度取向（α)并且根據(jù)所述第二體（200)的取向（β)控 制所述激光（LB2)的強度。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二角度取向（β2)和所述第一角度取 向（￠0之間的角度差（Λβ 12)小于或等于72°。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一體（100)的旋轉(zhuǎn)除了所述第二 體（100)的旋轉(zhuǎn)所導(dǎo)致的所述平均縱向速度分量（νχ2)之外，還導(dǎo)致所述瞄準點（SP2)的瞬 時縱向速度分量（ν χ1)。
4. 如權(quán)利要求1到3中任一項所述的方法，其特征在于，所述第一體100繞軸（ΑΧ1)旋 轉(zhuǎn)，所述軸相對于所述縱向方向（SX)傾斜。
5. 如權(quán)利要求1到4中任一項所述的方法，其特征在于，包括通過由所述第一體（100) 偏轉(zhuǎn)激光（LB0)形成第一經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束（LB1)，通過由所述第二體（200)偏轉(zhuǎn)所述第一經(jīng)偏轉(zhuǎn) 光束（LB1)的光形成第二經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束（LB2)，并且將所述第二經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束（LB2)的光聚焦到 所述瞄準點（SP2)。
6. 如權(quán)利要求1到5中任一項所述的方法，其特征在于，所述第一體（100)包括被布置 成偏轉(zhuǎn)激光的兩個或更多個光偏轉(zhuǎn)區(qū)域（Fla、Fib)，以使得所述瞄準點（SP2)在所述第一 體（100)的完整轉(zhuǎn)（360° )期間跨越所述縱向基準線（YREF)五次或更多次。
7. 如權(quán)利要求1到6中任一項所述的方法，其特征在于，包括通過遞送至所述瞄準點 (SP2)的激光（LB2)局部改變所述幅材（WEB1)的結(jié)構(gòu)和/或化學(xué)成分。
8. 如權(quán)利要求1到7中任一項所述的方法，其特征在于，包括形成穿過所述幅材 (WEB1)延伸的孔。
9. 如權(quán)利要求1到8中任一項所述的方法，其特征在于，所述幅材（WEB1)包括紙和/ 或卡板。
10. 如權(quán)利要求1到9中任一項所述的方法，其特征在于，所述幅材（WEB1)的速度（Vl) 在5到50m/s的范圍內(nèi)，有利地在10到30m/s的范圍內(nèi)。
11. 如權(quán)利要求1到10中任一項所述的方法，其特征在于，包括在所述幅材（WEB1)的 結(jié)構(gòu)和/或化學(xué)成分已被所述激光（LB2)改變之后處理所述幅材（WEB1)。
12. 如權(quán)利要求1到11中任一項所述的方法，其特征在于，包括將所述幅材（WEB1)切 割為頁，其中所述頁的縱向尺寸與由所述激光（LB2)在所述幅材（WEB1)上形成的兩個印記 (MRK1、MRK2)的端點定義的縱向維度（LSYNC)基本匹配。
13. -種用于在移動幅材（WEB1)上制造印記（MRK1)的裝置（500、1000)，所述裝置 (500)包括： -第一光束轉(zhuǎn)向體（100)和第二光束轉(zhuǎn)向體（200)，所述第一光束轉(zhuǎn)向體（100)和第二 光束轉(zhuǎn)向體（200)被布置成將激光（LB2)遞送至移動瞄準點（SP2)，以使得所述瞄準點的位 置（(x(t)，y(t))取決于所述第一體（100)的角度取向（α)并取決于所述第二體（200)的 角度取向（β)， -被布置成旋轉(zhuǎn)所述第一體（100)以便改變所述瞄準點（SP2)的橫向位置（y(t))的馬 達（120)，其中所述瞄準點（SP2)被布置成在所述第一體（100)的完整轉(zhuǎn)（360° )期間跨 越基準線（YREF)數(shù)次， -被布置成旋轉(zhuǎn)所述第二體（200)以便改變所述瞄準點（SP2)的縱向位置（x(t))的馬 達（220)，以及 -被布置成根據(jù)所述第一體（1〇〇)的取向（α )并且根據(jù)所述第二體（100)的取向（β ) 來控制所述激光（LB2)的強度的控制單元（CNT1)。
14. 如權(quán)利要求13所述的裝置（500)，其特征在于，所述控制單元（CNT1)被布置成根 據(jù)速度值（Vl)設(shè)置所述第二體（200)的角速度（ω2)，以使得寫入時段（ΤΑ)期間所述瞄準 點（SP2)的平均縱向速度分量（ν χ2)在所述幅材（WEB1)的速度（Vl)的50%到150%的范 圍內(nèi)。
15. 如權(quán)利要求13或14所述的裝置（500)，其特征在于，所述控制單元（CNT1)被布置 成設(shè)置所述第一體（1〇〇)的角速度（ω^，以使得所述瞄準點（SP2)在所述寫入時段（TA)期 間跨越所述縱向基準線（T A)多次。
16. 如權(quán)利要求13到15中任一項所述的裝置（500)，其特征在于，包括用于檢測所述 幅材（WEB1)的速度（Vl)的速度傳感器（VSENS1)。
17. 如權(quán)利要求13到16中任一項所述的裝置（500)，其特征在于，包括用于接收指定 所述幅材（WEB1)的速度值（Vl)的接口（INTRF1)。
18. 如權(quán)利要求13到17中的任一項所述的裝置（500)，其特征在于，所述瞄準點（SP2) 被布置成在所述第一體（100)的完整轉(zhuǎn)（360° )期間跨越所述縱向基準線（YREF)五次或 更多次。
19. 如權(quán)利要求13到18中任一項所述的裝置（500)，其特征在于，所述第一體（100) 包括第一光偏轉(zhuǎn)區(qū)域（Fla)和第二光偏轉(zhuǎn)區(qū)域（Fib)，所述第一光偏轉(zhuǎn)區(qū)域（Fla)和第二光 偏轉(zhuǎn)區(qū)域（Fib) -起被布置成繞所述第一體（100)的旋轉(zhuǎn)軸（AX1)旋轉(zhuǎn)，所述第二光偏轉(zhuǎn) 區(qū)域（Fib)的取向不同于所述第一光偏轉(zhuǎn)區(qū)域（Fla)的取向。
20. 如權(quán)利要求13到19中任一項所述的裝置（500)，其特征在于，所述第一體（100) 被布置成通過偏轉(zhuǎn)激光（LB2)形成第一經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束（LB1)，以及所述第二體（200)被布置成 通過偏轉(zhuǎn)所述第一經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束（LB1)的光提供第二經(jīng)偏轉(zhuǎn)光束（LB2)。
21. 如權(quán)利要求13到20中任一項所述的裝置（500)，其特征在于，所述瞄準點（SP2)被 布置成當(dāng)旋轉(zhuǎn)的所述第一體（100)的第一區(qū)域（Fla)已被旋轉(zhuǎn)以偏轉(zhuǎn)所述激光（LB0)時跨 越所述縱向基準線（YREF)，以及所述瞄準點（SP2)被布置成當(dāng)旋轉(zhuǎn)的所述第一體（100)的 第二區(qū)域（Fib)已被旋轉(zhuǎn)以偏轉(zhuǎn)所述激光（LB0)時再次跨越所述所述縱向基準線（YREF)。
22. 如權(quán)利要求13到21中任一項所述的裝置（1000)，其特征在于，包括用于在所述縱 向方向（SX)上移動所述幅材（WEB1)的一個或多個輥（1010)和/或帶。
23. 如權(quán)利要求13到22中任一項所述的裝置（1000)，其特征在于，包括在所述幅材 (WEB1)已被使用所述激光（LB2)標記之后處理所述幅材（WEB1)的一個或多個處理單元 (1100)。
24. 如權(quán)利要求13到23中任一項所述的裝置（1000)，其特征在于，包括用于提供所述 激光（LB0、LB2)的激光器（400)。
25. -種計算機程序（PROG1)，所述計算機程序在被處理器執(zhí)行時用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利 要求1到12中的任一項所述的方法。
26. -種存儲計算機程序代碼（PROG1)的計算機程序產(chǎn)品（MEM2)，所述計算機程序代 碼在被處理器執(zhí)行時用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1到12中的任一項所述的方法。
27. -種包括印記（MRK1)的紙產(chǎn)品（WEB1)，所述印記（MRK1)包括由激光束（LB2)形 成并且布置成二維傾斜陣列的十個或更多個點（D1)，所述陣列的傾斜角度（γ 2)在10°到 45°范圍內(nèi)。
28. 如權(quán)利要求27所述的紙產(chǎn)品，其特征在于，所述點（D1)是穿過紙頁延伸的孔。
29. 如權(quán)利要求27或28所述的紙產(chǎn)品，其特征在于，所述紙產(chǎn)品的尺寸是從由標準尺 寸 A5、A4、A3、A2、A1、A0、ANSIA、ANSIB、ANSIC、ANSID和ANSIE構(gòu)成的組中選擇的，所 述標準尺寸是在標準ISO 216和ANSI/ASME Y14. 1中確定的。
【文檔編號】B23K26/36GK104245332SQ201280072518
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2012年4月20日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月20日
【發(fā)明者】L·庫爾基, P·拉克索, T·萊佩寧, J·騰胡寧, P·維爾塔寧 申請人:芬歐匯川集團