專利名稱：膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
示例性實(shí)施方案涉及一種膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置(film roll suction device)，并且更具體地，例如，涉及這樣一種膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其當(dāng)膜卷—— 例如偏光膜卷——被切割時(shí)固定膜卷。
背景技術(shù)：
通常，液晶顯示屏包括作為必要部件的液晶面板，并且所述液晶面板由一對(duì)透明的絕緣基板構(gòu)成，每個(gè)透明的絕緣基板具有液晶層以及被安排(dispose)在液晶層之間的面向彼此的電場(chǎng)生成電極。通過(guò)改變電場(chǎng)生成電極之間的電場(chǎng)來(lái)人為地調(diào)整液晶分子的取向。在這一過(guò)程中，可以使用變化的光透射(light transmission)來(lái)顯示各種圖像。允許液晶顯示屏的液晶取向改變可見(jiàn)的偏光膜(polarized films)被分別安排在液晶面板的上表面和下表面。液晶顯示屏根據(jù)安排在液晶面板的上表面和下表面的偏光膜的透射軸的排列，以及根據(jù)液晶的排列特性，來(lái)確定光透射的程度。用本領(lǐng)域中公知的方法生產(chǎn)的卷式偏光膜(下文稱為“偏光膜卷”)應(yīng)當(dāng)由機(jī)械切割機(jī)(例如沖切機(jī)(cutting press)或超音波切割機(jī)(super cutter))根據(jù)對(duì)應(yīng)的液晶顯示屏的尺寸來(lái)切割。然而，在使用機(jī)械切割機(jī)(例如沖切機(jī)或超音波切割機(jī))來(lái)切割偏光膜卷的情況下，切割表面應(yīng)當(dāng)被斜切(chamfer)，生成了大量的粉屑，這引起了附加工藝以及環(huán)境成本。 這造成了生產(chǎn)成本的增加以及生產(chǎn)率的降低。為了解決這一問(wèn)題，最近已經(jīng)開發(fā)出一種使用激光束來(lái)切割偏光膜卷的裝置。當(dāng)使用激光處理機(jī)切割偏光膜卷時(shí)，被移送(carry)并固定在吸著盤上的偏光膜卷被真空泵生成的真空壓力吸引(absorb)，從而該膜卷被固定。然而，用于吸引和固定偏光膜卷的一般吸著裝置在吸著盤的整個(gè)長(zhǎng)度上賦予真空壓力，而不管所移送的偏光膜卷的寬度。因此，在偏光膜卷具有小的寬度的情況下，雜質(zhì)通過(guò)吸著盤的沒(méi)有放置偏光膜卷從而暴露在大氣中的吸著孔被吸入。所吸入的雜質(zhì)可以堵塞吸著盤的管道或吸著構(gòu)件，或者污染吸著盤。

發(fā)明內(nèi)容
示例性實(shí)施方案旨在解決現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，因此這些示例性實(shí)施方案旨在提供一種膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其不向所述膜卷切割系統(tǒng)的沒(méi)有放置膜卷的吸著構(gòu)件區(qū)域施加真空。這是為了防止真空管路被不必要的真空堵塞，并防止所述吸著構(gòu)件被污染，并減少了能量浪費(fèi)。
在一方面，示例性實(shí)施方案提供了一種膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其在寬度方向上切割移動(dòng)的膜卷，所述膜卷吸著裝置包括吸著構(gòu)件(suction member)，其具有用于通過(guò)真空固定所述膜卷的多個(gè)吸著孔；多個(gè)真空管路(vacuum lines)，其將所述吸著孔連接到真空泵；以及真空分離構(gòu)件(vacuum separating member)，其被配置為將真空施加到放置著所述膜卷的吸著孔，并且不將真空施加到?jīng)]有放置所述膜卷的吸著孔。優(yōu)選地，所述吸著孔包括公共吸著孔(common suction holes)，其形成在與待被切割的膜卷的最小寬度對(duì)應(yīng)的區(qū)域；以及一個(gè)或多個(gè)擴(kuò)充吸著孔(extension suction holes)，其與所述公共吸著孔相鄰，所述真空管路包括公共真空管路，其與所述公共吸著孔連通；以及擴(kuò)充真空管路，其與所述擴(kuò)充吸著孔連通，并且所述真空分離構(gòu)件包括公共閥，其能夠?qū)⑺龉舱婵展苈芬黄鸫蜷_/關(guān)閉；以及一個(gè)或多個(gè)擴(kuò)充閥，其能夠個(gè)別地打開/關(guān)閉所述擴(kuò)充真空管路。優(yōu)選地，所述公共吸著孔被布置在所述吸著構(gòu)件在長(zhǎng)度方向上的中心，并且所述擴(kuò)充吸著孔被布置為從所述公共吸著孔朝所述吸著構(gòu)件的兩端相繼地(subsequently)彼此相鄰。優(yōu)選地，所述公共吸著孔被布置為包括所述吸著構(gòu)件的任一端，并且所述擴(kuò)充吸著孔被布置為從所述公共吸著孔朝所述吸著構(gòu)件的另一端相繼地彼此相鄰。優(yōu)選地，每個(gè)所述真空管路還包括分支管路(diverging line)，所述分支管路分支以暴露到大氣中，并能夠通過(guò)分支閥打開或關(guān)閉。優(yōu)選地，所述膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置還包括激光頭，該激光頭被安排為在所述膜卷的寬度方向上移動(dòng)，以發(fā)出激光束。優(yōu)選地，所述吸著構(gòu)件包括一對(duì)吸著盤(suction plates)，該對(duì)吸著盤被布置為彼此分開以形成間隙供從所述激光頭發(fā)出的激光束穿過(guò)，并且每個(gè)所述吸著盤的吸著孔成預(yù)定圖案。優(yōu)選地，每個(gè)所述吸著盤包括一個(gè)吸著板(suction pad)，該吸著板具有相對(duì)于所述膜卷的行進(jìn)方向傾斜的多個(gè)細(xì)長(zhǎng)孔(elongated holes)。優(yōu)選地，每個(gè)所述吸著盤包括一個(gè)吸著板，該吸著板具有在長(zhǎng)度方向上的中心區(qū)域形成的為“王”形的多個(gè)吸著孔；以及從所述中心區(qū)域到兩端布置的多個(gè)細(xì)長(zhǎng)吸著孔。優(yōu)選地，每個(gè)所述吸著盤包括對(duì)稱地分割的兩個(gè)部分，以使得所述兩個(gè)部分在所述中心區(qū)域彼此接觸。優(yōu)選地，所述膜卷是偏光膜卷(polarized film roll)，或者是用于三維圖像顯示裝置的圖案化相位差膜卷(patterned retarder film roll)。根據(jù)示例性實(shí)施方案的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置可以被用于膜卷切割系統(tǒng)， 該膜卷切割系統(tǒng)可以被應(yīng)用到具有各種寬度和尺寸的膜卷。此處，所述膜卷吸著裝置不對(duì)沒(méi)有放置膜卷的吸著構(gòu)件區(qū)域施加真空，不論該膜卷具有大寬度還是小寬度，所以能防止
真空管路被堵塞。


從以下參照附圖對(duì)實(shí)施方案的描述中將明了本發(fā)明的其他目的和方面。附圖示出了根據(jù)示例性實(shí)施方案的用于移除膜卷切割系統(tǒng)的副產(chǎn)品的設(shè)備。然而，應(yīng)理解，本發(fā)明不限于附圖中描繪的部件或手段。在附圖中圖1是示出了根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷切割系統(tǒng)的示意圖；圖2是示出了圖1的膜卷切割系統(tǒng)中采用的激光切割機(jī)的局部立體圖；圖3是圖2的前視圖；圖4是示出了根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置的真空分離構(gòu)件的示意圖；圖5是示出了根據(jù)另一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置的真空分離構(gòu)件的示意圖；圖6是示意性示出了根據(jù)另一個(gè)示例性實(shí)施方案的吸著構(gòu)件的變型的立體圖；圖7是示出了圖6的吸著構(gòu)件的平面圖；圖8是示出了圖6的吸著構(gòu)件的前部的局部剖視圖；圖9是沿著圖7的線IX-IX'取得的剖視圖；圖10示出了一個(gè)真空分離構(gòu)件被安排到圖6至圖9中示出的吸著構(gòu)件。
具體實(shí)施例方式下文詳細(xì)描述中使用的術(shù)語(yǔ)是為了方便，而非為了限制本發(fā)明。術(shù)語(yǔ)例如 “右”“左”“頂表面”和“底表面”表示其涉及的圖中的相應(yīng)方向。術(shù)語(yǔ)例如“向內(nèi)(inward)，， 和“向外(outward) ”分別表示朝向或者遠(yuǎn)離相應(yīng)指定裝置、系統(tǒng)或構(gòu)件的幾何中心的方向。 術(shù)語(yǔ)例如“前” “后” “上” “下”及有關(guān)詞語(yǔ)或短語(yǔ)表示其涉及的圖中的位置和取向，并且不旨在限制本發(fā)明。這些術(shù)語(yǔ)包括上面列舉的詞語(yǔ)、它們的衍生詞以及它們的同義詞。將參考附圖描述實(shí)施例性實(shí)施方案。圖1是示出了根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷切割系統(tǒng)的示意圖。參考圖1，膜卷切割系統(tǒng)1包括退繞裝置(unwinding device) 10，其用于可旋轉(zhuǎn)地支撐和供應(yīng)纏繞成卷狀態(tài)的膜卷；浮輥裝置20 (dancer device)，其用于將從退繞裝置10供應(yīng)的膜卷F展平，并且將膜卷F停止或移動(dòng)時(shí)的張力控制在預(yù)定水平；進(jìn)給裝置 (infeed device) 30，其用于以給定速度持續(xù)移送由浮輥裝置20展開的膜卷，并確定該膜卷在行進(jìn)方向上的精確尺寸；標(biāo)記檢查裝置(marking inspecting deivce)40，其用于標(biāo)記和檢查由進(jìn)給裝置30移送的膜卷上的切割部(cut portion)(例如寬度方向上的切割線或標(biāo)記線)；激光切割機(jī)50，其用于通過(guò)激光束沿著標(biāo)記檢查裝置40標(biāo)記的標(biāo)記線切割膜卷F ； 排出裝置60，其用于排出通過(guò)激光切割機(jī)50切割膜卷F獲得的膜；以及包裝裝置70，其用于在膜已經(jīng)被移送并被放在包裝容器中之后，包裝從排出裝置60排出的膜。根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置與激光切割機(jī)50—起運(yùn)行。因此，退繞裝置10、浮輥裝置20、進(jìn)給裝置30、標(biāo)記檢查裝置40、排出裝置60和包裝裝置70可以采用膜卷切割系統(tǒng)的一般配置，并且在本文中不再詳細(xì)描述。該實(shí)施方案中描述的膜卷F是用于顯示裝置的偏光膜卷，或用于三維圖像顯示裝置的圖案化相位差膜卷。然而，膜卷F可以包括包裝、工業(yè)材料、乙烯樹脂(vinyl)和其他片狀(sheet-shaped)膜，如本領(lǐng)域技術(shù)人員明了的。圖2是示出了圖1示出的膜卷切割系統(tǒng)中采用的激光切割機(jī)的局部立體圖，圖3 是圖2的前視圖。在圖2和圖3中，沒(méi)有示出根據(jù)該示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置的例如真空泵、真空管路和閥等部件，這些部件將在下文描述。參考圖2和3，激光切割機(jī)50包括激光源122，其安裝至框架110 ；光學(xué)反射組件124，其安裝至框架110，以改變從激光源122發(fā)出的激光束的方向；以及激光頭125，其安裝至移動(dòng)塊——所述移動(dòng)模塊被安裝以能夠通過(guò)安裝至框架110的線性馬達(dá)(linear motor) 111在膜卷的寬度方向上往復(fù)(reciprocate)，以朝膜卷F和激光接收單元發(fā)出激光束，所述激光接收單元可以從光學(xué)反射組件124的端部接收激光束。激光源122使用(X)2激光器，該激光器適用于膜卷F的厚度范圍，以使得不會(huì)出現(xiàn)切口或不完好的標(biāo)記。然而，應(yīng)充分理解，本領(lǐng)域中已知的或?qū)㈤_發(fā)出的任何類型的激光束生成裝置都可以用作激光源122。光學(xué)反射組件124由多個(gè)反射器組成，并包括第一光學(xué)反射單元126，其安裝在激光源122的一端，以改變從激光源122發(fā)出的激光束的方向；第二光學(xué)反射單元128，其被安排為與第一光學(xué)反射單元126正交；以及第三光學(xué)反射單元121，其被安裝為與激光頭 125的激光接收單元相應(yīng)。因此，激光頭125的激光接收單元與第三光學(xué)反射單元121位于同一條線上。因此，即使激光頭125沿著線性馬達(dá)111在膜卷F的寬度方向上移動(dòng)，經(jīng)第三光學(xué)反射單元121輸出的激光束也可以穩(wěn)定地傳輸?shù)郊す忸^125的激光接收單元。激光頭125被安排為與聯(lián)接到線性馬達(dá)111的移動(dòng)塊(moving block)垂直，以使得端部的激光噴嘴朝向膜卷F。激光頭125可以被配置為不僅在膜卷F的寬度方向上移動(dòng)而且在膜卷F的長(zhǎng)度方向上移動(dòng)，如果必要，如本領(lǐng)域技術(shù)人員明了的。框架110包括基礎(chǔ)框架(base frame) 112、聯(lián)接到基礎(chǔ)框架112的多個(gè)支撐框架 (support frame) 114，以及安裝至支撐框架114的主框架(main frame) 116。用于移送從膜卷F中分離的偏光膜的傳送機(jī)(未示出)被設(shè)置在主框架116的內(nèi)部空間中。另外，前述激光切割機(jī)的主要部件被安裝在主框架116的上表面。根據(jù)該示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置300用于在膜卷F被激光頭在寬度方向上切割之前通過(guò)真空固定該膜卷，如上文所述。此處，膜卷吸著裝置300包括吸著構(gòu)件130，其可以吸引和固定所供應(yīng)的膜卷F，并具有間隙C(見(jiàn)圖4和圖幻，從激光頭125發(fā)出的激光束可以穿過(guò)間隙C。吸著構(gòu)件130還具有多個(gè)吸著孔132。吸著構(gòu)件130在膜卷F的寬度方向上伸長(zhǎng)，以面向激光切割機(jī)50的激光頭125。 吸著構(gòu)件130具有布置成預(yù)定圖案的多個(gè)真空吸著孔132，并包括一對(duì)吸著盤，該對(duì)吸著盤被安排為彼此分開預(yù)定距離(例如4mm到8mm)以形成間隙C。吸著構(gòu)件130包括一對(duì)吸著框架139，其被安裝為越過(guò)框架110，并被安排為彼此分開；吸著支架(suction bracket)，其被安裝至每個(gè)吸著框架139 ；以及吸著板133和 135，其分別被安裝至吸著支架，以接觸膜卷F的下表面，并具有形成為預(yù)定圖案的多個(gè)真空吸著孔132。在每個(gè)吸著板133和135中形成的真空吸著孔132具有相對(duì)于膜卷F的前進(jìn)方向以預(yù)定角度傾斜的細(xì)長(zhǎng)形狀。另外，真空吸著孔132與真空泵310連通(見(jiàn)圖4)。根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷切割系統(tǒng)1的激光切割機(jī)50包括吸入構(gòu)件 (inhaling member) 140，其被安裝為選擇性地朝向或離開吸著構(gòu)件130的間隙C而移動(dòng)，從而吸入副產(chǎn)品；往復(fù)構(gòu)件(reciprocating member) 150，其被安裝至框架110，以使得吸入構(gòu)件140往復(fù)。吸入構(gòu)件140包括吸入單元142，其可以與吸著構(gòu)件130的間隙C相鄰(見(jiàn)圖4)；吸入體(inhaling body) 144，其與吸入單元142連通；以及排出單元146，其與吸入體144 連通，以排出由吸入單元142吸入的副產(chǎn)品。吸入單元142包括具有薄且長(zhǎng)的截面的扁平噴嘴——例如漏斗口(funnel mouth)，其待被插入吸著構(gòu)件130的間隙C ；以及漏斗部(funnel portion)，其連接吸入體 144。優(yōu)選的是，該扁平噴嘴具有足夠的高度從而不干擾吸入構(gòu)件140。該漏斗部被吸入體 144密封。吸入體144具有在膜卷F的寬度方向上伸長(zhǎng)的大體矩形形狀。排出單元146具有在吸入體144的側(cè)面設(shè)置的四個(gè)排出管。排出單元146的每個(gè)排出管可以連接到粉屑收集單元(未示出)。與吸入單元142連通的吸入體144被固定至該吸入支架，并且該吸入支架被固定至往復(fù)構(gòu)件150的操作桿152 (在下文解釋)。往復(fù)構(gòu)件150包括致動(dòng)器154，其具有連接到吸著構(gòu)件130的操作桿152 ；以及引導(dǎo)桿156，其可以引導(dǎo)吸著構(gòu)件130的往復(fù)。致動(dòng)器IM優(yōu)選地使用氣動(dòng)缸或液壓缸。另外，致動(dòng)器巧4可以被替換成馬達(dá)，如本領(lǐng)域技術(shù)人員明了的。致動(dòng)器1 和引導(dǎo)桿156在每一側(cè)成對(duì)設(shè)置，以基于吸著構(gòu)件130對(duì)稱。另外，如圖3示出的，引導(dǎo)桿156額外被設(shè)置在與安裝有排出管的表面對(duì)立的表面。因此，如果致動(dòng)器巧4被操作，則該吸入支架被引導(dǎo)桿156引導(dǎo)著上下移動(dòng)，以使得吸入構(gòu)件140可以往復(fù)。隨著吸著構(gòu)件130吸引或釋放膜卷F，往復(fù)構(gòu)件150使得吸入構(gòu)件140上下移動(dòng)， 從而吸入構(gòu)件140的吸入單元142的上端水平和膜卷F的底部水平之間的間隙選擇性地改變。換言之，在激光頭125在膜卷F被吸引至吸著構(gòu)件130的狀態(tài)下在寬度方向上切割膜卷F之后，往復(fù)構(gòu)件150使得吸入構(gòu)件140向下移動(dòng)預(yù)定距離，從而當(dāng)膜卷F再次由吸入構(gòu)件140的吸入單元142的較低負(fù)壓供應(yīng)時(shí)，膜卷F的切割表面不會(huì)被吸著構(gòu)件130的吸著板135抓住。圖4是示出了根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置的真空分離構(gòu)件的示意圖。參考圖4，根據(jù)該示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置300包括多個(gè)真空管路342，其將吸著孔132連接到真空泵310 ；以及真空分離構(gòu)件320，其可以將真空施加到放置著膜卷 F的吸著孔132，并且可以不將真空施加到?jīng)]有放置膜卷F的吸著孔132。真空泵310待將真空施加到吸著構(gòu)件130的一對(duì)吸著板133和135的吸著孔132， 并具有公共泵結(jié)構(gòu)。吸著構(gòu)件的吸著孔132被分類為公共吸著孔332和擴(kuò)充吸著孔334。公共吸著孔 332被布置在吸著構(gòu)件130的吸著板133和135的長(zhǎng)度方向上的中心，并且擴(kuò)充吸著孔334 被布置為從公共吸著孔332朝吸著構(gòu)件130的吸著板133和135的兩端相繼地彼此相鄰。 公共吸著孔332被形成為相當(dāng)于吸著板133和135的與待被切割的膜卷F的最小寬度Ws 和Ls對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)度，并且擴(kuò)充吸著孔334被形成為逐漸擴(kuò)充到相當(dāng)于可以用于切割系統(tǒng)1的膜卷F的增大寬度。真空管路340包括公共真空管路342，其與公共吸著孔332連通；以及多個(gè)擴(kuò)充真空管路344，其與擴(kuò)充吸著孔334連通。另外，每個(gè)真空管路340具有暴露在大氣中的擴(kuò)充分支管路344，并且每個(gè)分支管路346可以通過(guò)分支閥A1、A2、A3、A4和A5打開或關(guān)閉。真空分離構(gòu)件320包括公共閥VI，其能夠?qū)⒐舱婵展苈?42 —起打開/關(guān)閉； 多個(gè)擴(kuò)充閥V2、V3、V4和V5，其能夠個(gè)別地打開/關(guān)閉擴(kuò)充真空管路344 ；以及分支閥Al、A2、A3、A4和A5，其能夠個(gè)別地打開/關(guān)閉分支管路346。公共閥VI、擴(kuò)充閥V2、V3、V4和V5以及分支閥A1、A2、A3、A4和A5被控制單元(未示出)控制。每個(gè)分支閥A1、A2、A3、A4和A5可以被復(fù)數(shù)地(in plural)安裝在與公共閥 Vl以及擴(kuò)充閥V2、V3、V4和V5對(duì)應(yīng)的位置。另外，公共閥Vl以及擴(kuò)充閥V2、V3、V4和V5 可以被復(fù)數(shù)地安裝在與吸著孔132對(duì)應(yīng)的位置。在該實(shí)施方案中，描繪和描述的是，在一對(duì)吸著板133和135中形成的面向彼此的吸著孔132配置為單個(gè)單元，并且該單個(gè)單元被連接到一個(gè)真空管路340。然而，也可能的是，一個(gè)真空管路340被連接到在每個(gè)吸著板133和135中形成的每個(gè)吸著孔132，并且彼此相鄰的多個(gè)吸著孔132是成組的，以使得單個(gè)組被連接到一個(gè)真空管路340，如本領(lǐng)域技術(shù)人員明了的。下文中，將描述使用膜卷吸著裝置300的真空泵310對(duì)吸著盤的吸著孔132施加或釋放真空的操作。首先，在膜卷F移動(dòng)到吸著構(gòu)件130的吸著板133和135之后，操作真空泵310。 隨后，為了將真空施加到吸著板133和135的吸著孔132，分支閥A1、A2、A3、A4和A5被關(guān)閉，并且真空閥V1、V2、V3、V4和V5被打開以產(chǎn)生真空。如果在分支閥A1、A2、A3、A4和A5 關(guān)閉的狀態(tài)下真空閥VI、V2、V3、V4和V5被關(guān)閉，則連接到吸著孔132的真空管路340被保持在真空，以使得放置在吸著板133和135的表面的膜卷F附著至吸著板133和135的表面。此處，真空閥￥1、￥2、￥3、￥4和￥5被控制為關(guān)閉大約1秒鐘。在此狀態(tài)下，如果激光頭125在在膜卷F的寬度方向上移動(dòng)的同時(shí)在寬度方向上切割膜卷F，則為了移動(dòng)所切割的膜卷F，吸著板133和135的吸著孔132的真空應(yīng)該被釋放。為此，首先打開分支閥Al、A2、A3、A4和A5，并且打開真空閥VI、V2、V3、V4和V5以釋放真空。最后，如果在真空閥V1、V2、V3、V4和V5關(guān)閉的狀態(tài)下分支閥A1、A2、A3、A4和A5 被關(guān)閉，則分離的膜或待被切割的膜卷F可以被移送。下文中，將描述膜卷吸著裝置300的真空分離構(gòu)件320的操作。如上所述，在膜卷F的寬度小于吸著構(gòu)件130的吸著板133和135的長(zhǎng)度的情況中，真空分離構(gòu)件320僅將真空施加到放置著膜卷F的吸著孔132，并且不將真空施加到?jīng)]有放置膜卷F的吸著孔 132。例如，在如圖4示出的具有最小寬度Ws的膜卷被切割的情況中，安裝至擴(kuò)充真空管路344的擴(kuò)充閥V2、V3、V4和V5以及安裝在對(duì)應(yīng)分支管路346的分支閥A2、A3、A4和A5 被關(guān)閉，并且安裝至公共真空管路342的公共閥Vl以及安裝至對(duì)應(yīng)分支管路346的分支閥 Al被打開和關(guān)閉，以使得膜卷F被吸引和固定至吸著板133和135。在這之后，激光頭125 發(fā)出激光束以切割膜卷F。同時(shí)，在具有大于最小寬度的寬度W的膜卷F被切割的情況中，安裝至公共真空管路342的公共閥Vl和安裝至對(duì)應(yīng)分支管路346的分支閥Al被打開和關(guān)閉，并且適于膜卷 F寬度的合適數(shù)量的擴(kuò)充閥V2、V3、V4和V5以及對(duì)應(yīng)分支閥A2、A3、A4和A5被打開和關(guān)閉，以使得膜卷F被吸引和固定至吸著盤110。在這之后，激光頭125發(fā)出激光束以切割膜卷F。此時(shí)，如果膜卷F被移送并正好位于吸著板133和135上，則分支閥A1、A2、A3、A4和 A5被關(guān)閉，并且真空閥VI、V2、V3、V4和V5被關(guān)閉，然后真空泵310被操作，以開始給予真空。然后，如果真空壓力增加以給予用于吸引膜卷F的吸引力，則真空閥VI、V2、V3、V4和V5被關(guān)閉以維持該吸引力，并且激光頭125被用于切割該偏光膜卷。在這之后，分支閥Al、 A2、A3、A4和A5被打開以釋放真空，并且所切割的膜被移送以排出。另外，分支閥Al、A2、 A3、A4和A5被關(guān)閉以保持其初始狀態(tài)，并且膜卷F被移送以用于下一切割過(guò)程。圖5是示出了根據(jù)另一個(gè)示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置的真空分離構(gòu)件的示意圖。與圖4中用相同參考數(shù)字指示的部件表示具有相同功能的相同部件。參考圖5，吸著孔132包括公共吸著孔332，其被均勻布置在吸著盤的右端，并形成為相當(dāng)于待被切割的具有最小寬度Ws的膜卷F的長(zhǎng)度Ls ；以及擴(kuò)充吸著孔334，其被布置為從最左邊的公共吸著孔332朝吸著構(gòu)件130的最左端相繼地彼此相鄰。圖6是示意性示出了根據(jù)另一個(gè)示例性實(shí)施方案的吸著構(gòu)件的變型的立體圖， 圖7是示出了圖6的吸著構(gòu)件的平面圖，圖8是示出了圖6的吸著構(gòu)件的前部的局部剖視圖，圖9是沿著圖7的線IX-IX'取得的剖視圖。參考圖6至圖9，根據(jù)該示例性實(shí)施方案的該變型的吸著構(gòu)件430包括一對(duì)吸著板 432和434，其被布置為彼此分開預(yù)定間隙C。每個(gè)吸著板432和434具有細(xì)長(zhǎng)孔431，其用于附接至對(duì)應(yīng)的吸著支架；多個(gè)公共吸著孔436，其形成在長(zhǎng)度方向上的中心區(qū)域，并且具有“王”形；以及擴(kuò)充吸著孔438，其由從所述中心區(qū)域到兩端布置的多個(gè)細(xì)長(zhǎng)孔組成。公共吸著孔436允許膜卷F在較大面積上被吸引，并且擴(kuò)充吸著孔438被布置成與膜卷F的縱向側(cè)平行，以擴(kuò)大該膜卷的尺寸。如圖7中示出的，每個(gè)吸著板432和434包括對(duì)稱地分割的兩個(gè)部分435和437， 以使得所述兩個(gè)部分在吸著盤的中心區(qū)域彼此接觸。圖10示出了真空分離構(gòu)件被安排到圖6至圖9中示出的吸著構(gòu)件。與圖4至圖 6用相同參考數(shù)字指示的部件表示具有相同功能的相同部件，并且不再詳細(xì)描述。將描述根據(jù)如上配置的示例性實(shí)施方案的膜卷切割系統(tǒng)的切割操作。首先，如圖3中示出的，當(dāng)通過(guò)移送工具(傳送機(jī))(未示出)將膜卷F在吸著構(gòu)件130的吸著盤上移送到主框架116中時(shí)，由于往復(fù)構(gòu)件150的致動(dòng)器154，吸入構(gòu)件140 的吸入單元142在吸著構(gòu)件130的間隙C中處于下降狀態(tài)(descended state)。在該情況下，在膜卷F被插入或者所切割的膜卷F前進(jìn)至前方(圖3中的右邊)的情況中，能防止膜卷F的端部在右側(cè)被吸著盤(或吸著板13 抓住。因此，膜卷F的端部可以平滑地前進(jìn)， 而不被吸著盤抓住。隨后，如果膜卷F完全被移送到預(yù)定位置(切割位置)，則通過(guò)傳感器(未示出) 的感應(yīng)和控制器的控制來(lái)停止移送工具(或傳送機(jī))的操作。然后，往復(fù)構(gòu)件150的致動(dòng)器154向上移動(dòng)吸入構(gòu)件140，以使得吸入單元142緊密接近膜卷F的下表面。另外，控制器操作吸著構(gòu)件130，以借由吸著孔132固定膜卷F。同時(shí)，控制器操作吸入構(gòu)件140，以使得吸入單元142準(zhǔn)備好吸入由激光頭125產(chǎn)生的副產(chǎn)品。在這之后，激光頭125在在膜卷F的寬度方向上移動(dòng)的同時(shí)在寬度方向上切割膜卷F。在該過(guò)程中，所產(chǎn)生的副產(chǎn)品通過(guò)吸入構(gòu)件140的吸入單元142(位于吸著構(gòu)件130 的吸著盤之間)被吸入，并通過(guò)吸入體144和排出單元146被排出。已經(jīng)基于使用激光束的切割系統(tǒng)描述了根據(jù)該示例性實(shí)施方案的膜卷吸著裝置， 但是該膜卷吸著裝置還可以被應(yīng)用到使用機(jī)械切割機(jī)的切割系統(tǒng)，如本領(lǐng)域技術(shù)人員明了的。上述描述和附圖示出了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，但是應(yīng)理解，在不背離隨附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可以做出各種添加、變型、組合和/或替代。尤其，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)理解，在本發(fā)明的范圍內(nèi)，可以通過(guò)使用其他元件、材料和部件， 以不同的具體形狀、結(jié)構(gòu)、布置或比例來(lái)實(shí)施本發(fā)明。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員還應(yīng)理解，在本發(fā)明的原理內(nèi)，可以以特別適于特定環(huán)境或操作條件的結(jié)構(gòu)、布置、比例、材料和部件的許多變型使用本發(fā)明。而且，本說(shuō)明書中描述的特征可以單獨(dú)使用或者與其他特征結(jié)合使用。 例如，關(guān)于一個(gè)實(shí)施方案描述的任何特征可以與另一實(shí)施方案中描述的其他特征一起使用和/或作為另一實(shí)施方案中描述的其他特征的替代。因此，所公開的實(shí)施方案不應(yīng)被解釋為限制本發(fā)明，而是應(yīng)被解釋為在所有方面例示本發(fā)明，并且本發(fā)明的范圍在隨附的權(quán)利要求中限定，而不被詳細(xì)說(shuō)明所限制。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)理解，在本發(fā)明的范圍內(nèi)，可以對(duì)本發(fā)明做出各種改變和變型。這些改變和變型中的一些上文已經(jīng)討論了，并且其他改變對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)是明了的。參考數(shù)字1 膜卷切割系統(tǒng)10 退繞裝置20 浮輥裝置30 進(jìn)給裝置40 標(biāo)記檢查裝置50 激光切割機(jī)60 排出裝置70:包裝裝置100 副產(chǎn)品移除設(shè)備110:框架111 線性馬達(dá)112:基礎(chǔ)框架114:支撐框架116:主框架122 激光源124 光學(xué)反射組件125 激光頭130、430:吸著構(gòu)件132 吸著孔133、135、230 吸著板139 吸著框架140 吸入構(gòu)件142 吸入單元144 吸入體
146排出單元
150往復(fù)構(gòu)件
152操作桿
154致動(dòng)器
156引導(dǎo)桿
310真空泵
320真空分離構(gòu)件
432>434 吸著板
436公共吸著孔
438擴(kuò)充吸著孔。
權(quán)利要求
1.一種膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其在寬度方向上切割移動(dòng)的膜卷，所述膜卷吸著裝置包括吸著構(gòu)件，其具有用于通過(guò)真空固定所述膜卷的多個(gè)吸著孔；多個(gè)真空管路，其將所述吸著孔連接到真空泵；以及真空分離構(gòu)件，其被配置為將真空施加到放置著所述膜卷的吸著孔，并且不將真空施加到?jīng)]有放置所述膜卷的吸著孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中所述吸著孔包括公共吸著孔，其形成在與待被切割的膜卷的最小寬度對(duì)應(yīng)的區(qū)域；以及一個(gè)或多個(gè)擴(kuò)充吸著孔，其與所述公共吸著孔相鄰，其中所述真空管路包括公共真空管路，其與所述公共吸著孔連通；以及擴(kuò)充真空管路，其與所述擴(kuò)充吸著孔連通，并且其中所述真空分離構(gòu)件包括公共閥，其能夠?qū)⑺龉舱婵展苈芬黄鸫蜷_/關(guān)閉；以及一個(gè)或多個(gè)擴(kuò)充閥，其能夠個(gè)別地打開/關(guān)閉所述擴(kuò)充真空管路。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中所述公共吸著孔被布置在所述吸著構(gòu)件在長(zhǎng)度方向上的中心，并且其中所述擴(kuò)充吸著孔被布置為從所述公共吸著孔朝所述吸著構(gòu)件的兩端相繼地彼此相鄰。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中所述公共吸著孔被布置為包括所述吸著構(gòu)件的任一端，并且其中所述擴(kuò)充吸著孔被布置為從所述公共吸著孔朝所述吸著構(gòu)件的另一端相繼地彼此相鄰。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中每個(gè)所述真空管路還包括分支管路，所述分支管路分支以暴露到大氣中，并能夠通過(guò)分支閥打開或關(guān)閉。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，還包括激光頭，該激光頭被安排為在所述膜卷的寬度方向上移動(dòng)，以發(fā)出激光束。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中所述吸著構(gòu)件包括一對(duì)吸著盤，該對(duì)吸著盤被布置為彼此分開以形成間隙供從所述激光頭發(fā)出的激光束穿過(guò)，并且每個(gè)所述吸著盤的吸著孔成預(yù)定圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中每個(gè)所述吸著盤包括一個(gè)吸著板，該吸著板具有相對(duì)于所述膜卷的行進(jìn)方向傾斜的多個(gè)細(xì)長(zhǎng)孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中每個(gè)所述吸著盤包括一個(gè)吸著板，該吸著板具有在長(zhǎng)度方向上的中心區(qū)域形成的為“王”形的多個(gè)吸著孔；以及從所述中心區(qū)域到兩端布置的多個(gè)細(xì)長(zhǎng)吸著孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中每個(gè)所述吸著盤包括對(duì)稱地分割的兩個(gè)部分，以使得所述兩個(gè)部分在所述中心區(qū)域彼此接觸。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中所述膜卷是偏光膜卷。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其中所述膜卷是用于三維圖像顯示裝置的圖案化相位差膜卷。
全文摘要
一種膜卷切割系統(tǒng)的膜卷吸著裝置，其在寬度方向上切割移動(dòng)的膜卷。所述膜卷吸著裝置包括吸著構(gòu)件，其具有用于通過(guò)真空固定所述膜卷的多個(gè)吸著孔；多個(gè)真空管路，其將所述吸著孔連接到真空泵；以及真空分離構(gòu)件，其被配置為將真空施加到放置著所述膜卷的吸著孔，并且不將真空施加到?jīng)]有放置所述膜卷的吸著孔。
文檔編號(hào)B23K26/42GK102363248SQ201110166039
公開日2012年2月29日 申請(qǐng)日期2011年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月15日
發(fā)明者張應(yīng)鎮(zhèn), 李世镕, 李裕潣, 金熙均, 黃晉燮 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Lg化學(xué), 株式會(huì)社Ns