專(zhuān)利名稱：光圈及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光圈及其制作方法。
背景技術(shù)：
請(qǐng)參閱圖l， 一光學(xué)鏡頭模組10包括一個(gè)第一透鏡k、 一個(gè)第二透鏡L2及一個(gè)光圈 (Aperture-Stop) St 。該光圈St處于該第一透鏡l^與該第二透鏡L2之間，且該光圈St、該第 一透鏡k及該第二透鏡L2的光學(xué)中心處于同一直線上。在該光學(xué)鏡頭模組10總厚度不變的條 件下，該光圈St的厚度影響該第一透鏡^與該第二透鏡L2的生產(chǎn)成本。如該光圈St的厚度很 厚，則該第一透鏡k與該第二透鏡L2的厚度就必須變小，這樣，該第一透鏡^與該第二透鏡 L2在生產(chǎn)上會(huì)比較難以成型。另外，在光學(xué)鏡頭模組10趨于小型化的要求之下，該光圈St、 該第一透鏡k及該第二透鏡L2的厚度迫切期望能進(jìn)一步的變薄。
目前，市面上的光圈St的厚度一般在0.029毫米(mm)左右。該光圈St的厚度不能進(jìn)一步 縮小的主要原因是，該光圈St—般采用玻璃材料或塑膠材料制成，如果該光圈St很薄的話， 在加工過(guò)程中(重壓的時(shí)候)很容易裂開(kāi)或變形，其產(chǎn)品不能應(yīng)用在該光學(xué)鏡頭模組10中。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種薄型化且不易變形的光圈及其制作方法。
一種光圈，其包括一個(gè)本體及一個(gè)黑色膜層。該本體采用不銹鋼材料制成，該黑色膜層
至少設(shè)置在該本體兩端的表面上。
一種光圈的制作方法，其包括以下步驟提供一個(gè)基體，該基體采用不銹鋼材料制成；
將該基體的表面進(jìn)行鍍膜形成一層黑色膜層；及將該鍍膜后的基體采用刀膜沖壓形成具有單
個(gè)本體的光圈。
一種光圈的制作方法，其包括以下步驟提供一個(gè)基體，該基體采用不銹鋼材料制成； 將該基體采用刀膜沖壓形成單個(gè)本體；及將至少該本體兩端的表面進(jìn)行鍍膜形成一層黑色膜 層，以形成光圈。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，所述光圈及其制作方法，利用不銹鋼材料制成的本體在加工過(guò)程中不 受厚度限制的特性，制造出薄型化且不易變形的光圈，符合小型化的要求，且該黑色膜層可 削弱該本體兩端的表面的反光現(xiàn)象。


圖l為現(xiàn)有技術(shù)之光學(xué)鏡頭模組的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明實(shí)施方式提供的光圈的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的光圈制作方法的流程示意圖。
圖4為本發(fā)明第二實(shí)施方式提供的光圈制作方法的流程示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。
請(qǐng)參閱圖2，為本發(fā)明實(shí)施方式提供的光圈100。該光圈100包括一個(gè)本體20及一個(gè)黑色 膜層30。該本體20包括兩個(gè)端21、 22。該黑色膜層30至少設(shè)置在該本體20的兩端21、 22的表面上。
該本體20采用不銹鋼材料制成，不銹鋼材料剛性很強(qiáng)，沖壓后不易變形，因此該本體 20的厚度可以達(dá)到0.01士0.005mm之間。不銹鋼材料制成的本體20的表面會(huì)反光，成為光學(xué) 鏡頭模組(圖未示)中的雜散光，嚴(yán)重影響成像品質(zhì)。因此，在該不銹鋼材料制成的本體20的 兩端21、 22的表面進(jìn)行鍍膜形成該黑色膜層30，就可以削弱雜散光，從而應(yīng)用于光學(xué)鏡頭模 組中。該黑色膜層30由全黑材質(zhì)制成，如黑鉻鍍層、黑鋁鍍層、鋅一鎳合金鍍層等。在本實(shí) 施方式中，該黑色膜層30的厚度約為0.001mm，該光圈IOO的厚度約為O. 011 ±0. 005mm?？梢?理解，該本體20的兩端21、 22的表面必須設(shè)置該黑色膜層30，除該兩端21、 22的表面之外的 表面可以設(shè)置也可以不設(shè)置該黑色膜層30 。
本發(fā)明實(shí)施方式提供的光圈IOO，利用不銹鋼材料制成的本體20在加工過(guò)程中不受厚度 限制的特性，制造出比現(xiàn)有光圈薄50%以上的光圈，符合小型化的要求，且該黑色膜層30可 削弱該本體20的兩端21 、 22的表面的反光現(xiàn)象。
請(qǐng)參閱圖3，為本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的上述光圈100的制作方法，其包括以下步驟
(1) 提供一個(gè)基體40，該基體40采用不銹鋼材料制成，該基體40的厚度可以達(dá)到0.01士 0. 005mm之間；
(2) 將該基體40的表面進(jìn)行鍍膜形成一層上述黑色膜層30;及
(3) 將該鍍膜后的基體40采用刀膜沖壓形成具有上述單個(gè)本體20的光圈100。 在步驟(3)中，所謂刀膜沖壓是指采用一對(duì)公模50與母模60的配合進(jìn)行生產(chǎn)制造。該公
模50具有一個(gè)內(nèi)圓環(huán)刀片51與一個(gè)外圓環(huán)刀片52，該內(nèi)圓環(huán)刀片51的內(nèi)直徑r為光圈100的內(nèi) 直徑，該外圓環(huán)刀片52的外直徑R為光圈100的外直徑。該內(nèi)圓環(huán)刀片51與該外圓環(huán)刀片52之 間為空體。該母模60具有兩個(gè)圓柱形收容槽61，該圓柱形收容槽61用于收容該內(nèi)圓環(huán)刀片 51與該外圓環(huán)刀片52。當(dāng)該公模50與該母模60配合在一起就會(huì)打出該光圈100?？梢岳斫?，該黑色膜層30僅鍍?cè)谠摴馊?00的本體20的兩端21、 22的表面上(請(qǐng)參閱圖2)。
請(qǐng)參閱圖4，為本發(fā)明第二實(shí)施方式提供的上述光圈100的制作方法，其包括以下步驟
(1) 提供一個(gè)基體40a，該基體40a采用不銹鋼材料制成，該基體40a的厚度可以達(dá)到 0. Ol士O. 005mm之間；
(2) 將該基體40a采用刀膜沖壓形成單個(gè)上述本體20，該本體20包括上述兩端21、 22;
及
(3) 將至少該本體20的兩端21、 22的表面進(jìn)行鍍膜形成一層上述黑色膜層30，以形成該 光圈IOO。
可以理解，該黑色膜層30不僅可以鍍?cè)谠摴馊?00的本體20的兩端21、 22的表面上，同 時(shí)也可以鍍?cè)诔搩啥?1、 22的表面之外的表面上。
綜上所述的光圈100及光圈100的兩種制作方法，利用不銹鋼材料制成的本體20在加工過(guò) 程中不受厚度限制的特性，制造出比現(xiàn)有光圈薄50%以上的光圈，符合小型化的要求，且該 黑色膜層30可削弱該本體20的兩端21、 22的表面的反光現(xiàn)象。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施方式披露如上，但是，其并非用以限定本發(fā)明，另外，本領(lǐng)域 技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化等。當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都 應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光圈，其特征在于，該光圈包括一個(gè)本體及一個(gè)黑色膜層，該本體采用不銹鋼材料制成，該黑色膜層至少設(shè)置在該本體兩端的表面上。
2 如權(quán)利要求l所述的光圈，其特征在于，該黑色膜層由全黑材質(zhì)制成。
3 如權(quán)利要求l所述的光圈，其特征在于，該本體的厚度處于0.01 ±0. 005毫米之間，該黑色膜層的厚度約為O. OOl毫米。
4 一種光圈的制作方法，其包括以下步驟提供一個(gè)基體，該基體采用不銹鋼材料制成； 將該基體的表面進(jìn)行鍍膜形成一層黑色膜層；及將該鍍膜后的基體采用刀膜沖壓形成具有單個(gè)本體的光圈。
5 如權(quán)利要求4所述的光圈的制作方法，其特征在于，該基體的厚 度處于O. 01 ±0. 005毫米之間，該黑色膜層的厚度約為O. OOl毫米。
6 如權(quán)利要求4所述的光圈的制作方法，其特征在于，該黑色膜層 由全黑材質(zhì)制成。
7 一種光圈的制作方法，其包括以下步驟 提供一個(gè)基體，該基體采用不銹鋼材料制成； 將該基體采用刀膜沖壓形成單個(gè)本體；及將至少該本體兩端的表面進(jìn)行鍍膜形成一層黑色膜層，以形成光圈。
8 如權(quán)利要求7所述的光圈的制作方法，其特征在于，該基體的厚度處于O. 01 ±0. 005毫米之間，該黑色膜層的厚度約為O. OOl毫米。
9 如權(quán)利要求7所述的光圈的制作方法，其特征在于，該黑色膜層由全黑材質(zhì)制成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光圈，其包括一個(gè)本體及一個(gè)黑色膜層。該本體采用不銹鋼材料制成，該黑色膜層至少設(shè)置在該本體兩端的表面上。所述光圈，利用不銹鋼材料制成的本體在加工過(guò)程中不受厚度限制的特性，制造出薄型化且不易變形的光圈，符合小型化的要求，且該黑色膜層可削弱該本體兩端的表面的反光現(xiàn)象。本發(fā)明還涉及一種光圈的制作方法。
文檔編號(hào)B23P15/00GK101604036SQ20081030208
公開(kāi)日2009年12月16日 申請(qǐng)日期2008年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月10日
發(fā)明者張嘉淳 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司