結(jié)合由互連件支撐的升高光圈層的顯示設(shè)備的制造方法
【專利說明】
[0001 ]相夫申請
[0002] 本專利申請要求于2013年3月15提交的題為"結(jié)合由互連件支撐的升高光圈層 白勺顯示設(shè)備（DisplayApparatusIncorporatin邑anInterconnect-Supportin邑Elevated ApertureLayer)"的美國專利申請第13/843, 135號的優(yōu)先權(quán)，其轉(zhuǎn)讓給本申請的受讓人并 且通過引用明確合并到本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本發(fā)明設(shè)及機(jī)電系統(tǒng)（EM巧領(lǐng)域，并且特別設(shè)及用于顯示設(shè)備中的集成的升高光 圈層。
【背景技術(shù)】
[0004] 一些顯示器通過將具有光圈層的蓋板附接至支撐多個(gè)顯示元件的襯底來構(gòu)成。光 圈層包含對應(yīng)于相應(yīng)顯示元件的光圈。在此些顯示器中，光圈與顯示元件的對齊影響圖像 質(zhì)量。因此，當(dāng)將蓋板附接至襯底時(shí)，需額外謹(jǐn)慎W確保光圈與相應(yīng)的顯示元件緊密地對 齊。運(yùn)增加了組裝此些顯示器的成本。此外，此些顯示器還包含用于保持蓋板與由襯底支 撐的附近顯示元件之間的適度安全距離的間隔件，W降低由外力（例如，人按壓在顯示器 上）導(dǎo)致?lián)p壞的風(fēng)險(xiǎn)。運(yùn)些間隔件也制造昂貴，從而增加了制造成本。另外，蓋板與顯示元 件之間的大的距離不利地影響圖像質(zhì)量。特別是，它降低了顯示器的對比度。為了減小距 離，蓋板和襯底可W禪合在一起而在兩者之間只有微小的間隙，然而，運(yùn)可能增大顯示元件 與蓋板彼此接觸時(shí)的損壞的風(fēng)險(xiǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的系統(tǒng)、方法和裝置各具有若干創(chuàng)新方面，任何一個(gè)單獨(dú)的方面都不能得 到本文所公開的令人滿意的特性。
[0006] 在本發(fā)明中描述的主題的一個(gè)創(chuàng)新方面可W實(shí)施為一種設(shè)備，所述設(shè)備包含透明 襯底、光阻擋升高光圈層（EAL)、用于在襯底上方支撐EAL的多個(gè)錯(cuò)固件、W及多個(gè)顯示元 件。EAL限定穿過其中形成的多個(gè)光圈。多個(gè)顯示元件設(shè)置在襯底與EAL之間。每個(gè)顯示 元件對應(yīng)于由EAL限定的多個(gè)光圈中的至少一個(gè)相應(yīng)光圈，并且每個(gè)顯示元件包含可移動(dòng) 部，所述可移動(dòng)部通過在襯底上方支撐EAL的相應(yīng)錯(cuò)固件被支撐在襯底上方。在一些實(shí)施 方案中，顯示元件包含基于微機(jī)電系統(tǒng)（MEM巧快口的顯示元件。
[0007] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含設(shè)置與襯底相對的EAL的一側(cè)上的第二襯底。 在一些此類實(shí)施方案中，EAL可W附著至第二襯底的表面上。在一些其它此類實(shí)施方案中， 所述設(shè)備包含一層反射材料，其沉積在EAL與第二襯底最近的一個(gè)表面上，并且第二襯底 面向EAL。
[0008] 在一些實(shí)施方案中，EAL包含多個(gè)肋中的至少一個(gè)肋和朝向襯底延伸的多個(gè)抗靜 摩擦突起。在一些其它實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含設(shè)置在經(jīng)過由EAL限定的光圈的光學(xué)路 徑中的光分散元件。在一些此類實(shí)施方案中，光分散元件包含透鏡和散射元件中的至少一 個(gè)。在一些其它此類實(shí)施方案中，光分散元件包含圖案化的電介質(zhì)。
[0009] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含對應(yīng)于相應(yīng)的顯示元件的多個(gè)電性隔離的導(dǎo)電 區(qū)域。在一些此類實(shí)施方案中，電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域被電性禪合到相應(yīng)顯示元件的部分。
[0010] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含顯示器、處理器和存儲(chǔ)器裝置。處理器可W經(jīng) 配置W與顯示器通信并且處理圖像數(shù)據(jù)。存儲(chǔ)器裝置可W被經(jīng)配置W與處理器通信。在一 些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含經(jīng)配置W將至少一個(gè)信號發(fā)送至顯示器的驅(qū)動(dòng)電路。在一 些此類實(shí)施方案中，處理器還經(jīng)配置W將圖像數(shù)據(jù)的至少一部分發(fā)送至驅(qū)動(dòng)電路。在一些 其它實(shí)施方案中，所述設(shè)備還可W包含經(jīng)配置W將圖像數(shù)據(jù)發(fā)送至處理器的圖像源模塊。 圖像源模塊可W包含接收器、收發(fā)器和發(fā)射器中的至少一個(gè)。在一些其它實(shí)施方案中，所述 設(shè)備包含經(jīng)配置W接收輸入數(shù)據(jù)并且將輸入數(shù)據(jù)傳送至處理器的輸入裝置。
[0011] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種用于形成顯示設(shè)備的方 法。所述方法包含在形成于襯底上的顯示元件模具上制造多個(gè)顯示元件。顯示元件包含用 于在襯底上方支撐相應(yīng)的顯示元件的部分的對應(yīng)的錯(cuò)固件。所述方法還包含將第一層犧牲 材料沉積于所制造的顯示元件的上方，并對第一層犧牲材料進(jìn)行圖案化，W暴露顯示元件 錯(cuò)固件。所述方法還包含將一層結(jié)構(gòu)材料沉積于第一層犧牲材料上方，使得所沉積的結(jié)構(gòu) 材料部分地沉積于所暴露的顯示器錯(cuò)固件上，并對運(yùn)層結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行圖案化，W限定對應(yīng) 于相應(yīng)的顯示元件的穿過運(yùn)層結(jié)構(gòu)材料的多個(gè)光圈，從而形成升高光圈層（EAL)。此外，所 述方法包含去除顯示元件模具和第一層犧牲材料。
[0012] 在一些實(shí)施方案中，所述方法還包含將第二層犧牲材料沉積于第一層犧牲材料上 方，并對第二層犧牲材料進(jìn)行圖案化，W形成用于多個(gè)EAL加強(qiáng)肋或多個(gè)抗靜摩擦突起的 模具，其中，所述多個(gè)EAL加強(qiáng)肋或所述多個(gè)抗靜摩擦突起從EAL朝向相應(yīng)的顯示元件的懸 置部分延伸。在一些其它實(shí)施方案中，所述方法包含使EAL的區(qū)域與第二襯底的表面相接 觸，從而使得EAL的區(qū)域附著至第二襯底的表面。在一些其它實(shí)施方案中，所述方法包含將 一層電介質(zhì)沉積于所述一層結(jié)構(gòu)材料上方，并對所述一層電介質(zhì)進(jìn)行圖案化，W在穿過所 述一層結(jié)構(gòu)材料而限定的光圈的上方限定光分散元件。
[0013] 在一些實(shí)施方案中，所述一層結(jié)構(gòu)材料包含導(dǎo)電材料。在一些此類實(shí)施方案中，對 所述一層結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行圖案化使得EAL的相鄰區(qū)域電性隔離。EAL的每個(gè)電性隔離區(qū)域可 W電性禪合到相應(yīng)的顯示元件的懸置部分。
[0014] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種設(shè)備，所述設(shè)備包含襯底 W及EAL所述EAL限定從其中穿過而形成的多個(gè)光圈。EAL還包含由結(jié)構(gòu)材料封裝的聚合 物材料。所述設(shè)備還包含位于襯底與EAL之間的多個(gè)顯示元件。每個(gè)顯示元件對應(yīng)于多個(gè) 光圈中的相應(yīng)的光圈。
[0015] 在一些其它的實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含沉積于EAL的表面上的光吸收層。在一 些其它的實(shí)施方案中，襯底包含一層光阻擋材料。在一些此類實(shí)施方案中，所述一層光阻擋 材料限定與EAL的相應(yīng)光圈相對應(yīng)的多個(gè)襯底光圈。
[0016] 在一些實(shí)施方案中，所述結(jié)構(gòu)材料包含金屬、半導(dǎo)體和一堆疊材料中的至少一種。 在一些其它的實(shí)施方案中，EAL包含第一結(jié)構(gòu)層、第一聚合物層和第二結(jié)構(gòu)層，使得第一結(jié) 構(gòu)層和第二結(jié)構(gòu)層對第一聚合物層進(jìn)行封裝。
[0017] 在一些實(shí)施方案中，EAL包含對應(yīng)于相應(yīng)的顯示元件的多個(gè)電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域。 在一些此類實(shí)施方案中，電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域電性禪合到相應(yīng)的顯示元件的一部分。在一 些其它此類實(shí)施方案中，電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域經(jīng)由錯(cuò)固件電性禪合到相應(yīng)的顯示元件的部 分，而運(yùn)些錯(cuò)固件將相應(yīng)的顯示元件支撐于襯底上方。在一些此類實(shí)施方案中，在襯底上方 支撐相應(yīng)的顯示元件的部分的錯(cuò)固件也在顯示元件上方支撐EAL。
[0018] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種形成顯示設(shè)備的方法。所 述方法包含在形成于襯底上的顯示元件模具上形成多個(gè)顯示元件、將第一層犧牲材料沉積 于顯示元件上方、對第一層犧牲材料進(jìn)行圖案化W暴露多個(gè)錯(cuò)固件、在第一層犧牲材料上 方形成升高光圈層（EAL)W及去除顯示元件模具和第一層犧牲材料。
[0019] 形成EAL可W包含在第一層犧牲材料上沉積第一層結(jié)構(gòu)材料，使得所沉積的結(jié)構(gòu) 材料被部分地沉積在暴露的錯(cuò)固件上，使第一層結(jié)構(gòu)材料圖案化W限定與相應(yīng)顯示元件相 對應(yīng)的多個(gè)較低的EAL光圈，在第一層結(jié)構(gòu)材料上沉積一層聚合物材料，對所述一層聚合 物材料圖案化W限定與對應(yīng)的較低的EAL光圈實(shí)質(zhì)上對齊的多個(gè)中間EAL光圈，在所述一 層聚合物材料上方沉積第二層結(jié)構(gòu)材料W封裝在第一層結(jié)構(gòu)材料和第二層結(jié)構(gòu)材料之間 的所述一層聚合物材料，W及對第二層結(jié)構(gòu)材料圖案化W限定與對應(yīng)的中間EAL光圈和較 低的EAL光圈實(shí)質(zhì)上對齊的多個(gè)上部EAL光圈。
[0020] 在一些實(shí)施方案中，所暴露的錯(cuò)固件在襯底上方支撐對應(yīng)的顯示元件的部分。在 一些其它實(shí)施方案中，所暴露的錯(cuò)固件與在襯底上方支撐顯示元件的部分的一組錯(cuò)固件不 同。
[0021] 在一些實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包含：在第二層結(jié)構(gòu)材料上方沉積光吸收層 或光反射層中至少之一。
[0022] 在本發(fā)明中描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可W實(shí)施為設(shè)備，所述設(shè)備包含透明襯 底、在所述襯底上形成的顯示元件、由在所述襯底上形成的錯(cuò)固件在所述襯底上方支撐的 光阻擋EAL^及在所述EAL上沉積的電性互連件W用于將電信號載送到顯示元件。EAL具 有穿過所述EAL形成的光圈，所述光圈與顯示元件相對應(yīng)。在一些實(shí)施方案中，EMS顯示元 件包含基于微機(jī)電系統(tǒng)（MEM巧快口的顯示元件。
[0023] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備進(jìn)一步包含禪合到電性互連件的至少一個(gè)電性部 件。在一些運(yùn)種實(shí)施方案中，電性互連件禪合到與顯示元件相對應(yīng)的至少一個(gè)電性部件的 第一電性部件，并且禪合到與在襯底上形成的第二顯示元件相對應(yīng)的至少一個(gè)電性部件的 第二電性部件。在一些運(yùn)種實(shí)施方案中，電性部件包含禪合到電性互連件的電容器和晶體 管中的至少之一。在一些運(yùn)種實(shí)施方案中，晶體管包含氧化銅嫁鋒（IGZO)溝道。
[0024] 在一些實(shí)施方案中，電性互連件電性禪合到錯(cuò)固件，使得所述錯(cuò)固件將電信號傳 輸?shù)斤@示元件。在一些其它實(shí)施方案中，電性互連件包含數(shù)據(jù)電壓互連件、掃描線互連件或 全局互連件之一。在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含電介質(zhì)層，其使電性互連件與EAL分 開。在一些其它的實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含在襯底上沉積的電性禪合到多個(gè)顯示元件的 第二電性互連件。
[0025] 在一些實(shí)施方案中，EAL包含與顯示元件相對應(yīng)的電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域。在一些運(yùn) 種實(shí)施方案中，電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域電性禪合到顯示元件的一部分。在一些實(shí)施方案中，電 性隔離的導(dǎo)電區(qū)域經(jīng)由在襯底上方支撐顯示元件的第二錯(cuò)固件電性禪合到顯示元件的部 分。在一些其它實(shí)施方案中，在襯底上方支撐EAL的錯(cuò)固件也在所述襯底上方支撐顯示元 件的一部分，并且電性隔離的導(dǎo)電區(qū)域經(jīng)由所述錯(cuò)固件電性禪合到顯示元件的懸置部分。 [00%] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含顯示器、處理器W及存儲(chǔ)器裝置。處理器可 W被經(jīng)配置W與顯示器通信并且處理圖像數(shù)據(jù)。存儲(chǔ)器裝置可W被經(jīng)配置W與處理器通 信。在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含：驅(qū)動(dòng)電路，其被經(jīng)配置W向顯示器發(fā)送至少一個(gè) 信號。在一些其它實(shí)施方案中，處理器還被經(jīng)配置W向驅(qū)動(dòng)電路發(fā)送圖像數(shù)據(jù)的至少一部 分。在一些其它實(shí)施方案中，所述設(shè)備還可W包含：圖像源模塊，其被經(jīng)配置W向處理器發(fā) 送圖像數(shù)據(jù)。圖像源模塊可W包含接收器、收發(fā)器W及發(fā)射器中至少之一。在一些其它實(shí) 施方案中，所述設(shè)備包含：輸入設(shè)備，其被經(jīng)配置W接收輸入數(shù)據(jù)W及將輸入數(shù)據(jù)傳送給處 理器。
[0027] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種制造顯示設(shè)備的方法。所 述方法包含提供透明襯底并在襯底上形成顯示元件。在襯底上方形成光阻擋層，其由形成 于襯底上的錯(cuò)固件進(jìn)行支撐。所述方法還包含穿過光阻擋層形成光圈，W形成EAL其中所 述光圈對應(yīng)于顯示元件。在EAL的頂部上形成電性互連件W將電信號載送至顯示元件。
[0028] 在一些實(shí)施方案中，所述方法包含在形成電性互連件之前，將一層電絕緣材料沉 積于EAL上方。在一些此類實(shí)施方案中，EAL包含導(dǎo)電材料，并且所述方法還包含在形成電 性互連件之前，對所述一層電絕緣材料進(jìn)行圖案化，W暴露EAL的部分。形成電性互連件可 包含將一層導(dǎo)電材料沉積于所述一層電絕緣材料上方，并對所述一層導(dǎo)電材料進(jìn)行圖案化 W形成電性互連件，從而使得電性互連件的一部分與EAL的暴露部分相接觸。
[0029] 在一些其它的實(shí)施方案中，所述方法還包含將一層半導(dǎo)體材料沉積于所形成的電 性互連件上方，并對所述一層半導(dǎo)體材料進(jìn)行圖案化W形成晶體管的一部分。在一些實(shí)施 方案中，所述一層半導(dǎo)體材料包含金屬氧化物。在一些其它的實(shí)施方案中，所述方法包含在 形成顯示元件之前，在襯底上形成電性互連件。
[0030] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種設(shè)備，所述設(shè)備包含禪合 到襯底的顯示元件陣列W及懸置于所述顯示元件陣列上方并且禪合到襯底的EAL。對于每 個(gè)顯示元件，EAL包含穿過EAL限定的至少一個(gè)光圈，W允許光通過所述至少一個(gè)光圈；一 層光阻擋材料，其包含用于阻擋未穿過所述至少一個(gè)光圈的光的光阻擋區(qū)域；W及蝕刻孔， 其形成于光阻擋區(qū)域之外，并且經(jīng)配置W允許流體通過EAL。在一些實(shí)施方案中，顯示元件 包含基于微機(jī)電系統(tǒng)（MEM巧快口的顯示元件。
[0031] 在一些實(shí)施方案中，蝕刻孔位于相鄰顯示元件的相鄰光阻擋區(qū)域之間的大約相交 處。在一些實(shí)施方案中，蝕刻孔可延伸相鄰顯示元件的相鄰光阻擋區(qū)域之間的距離的大約 一半。
[0032] 在一些其它實(shí)施方案中，所述設(shè)備包含其上形成顯示元件陣列和EAL的犧牲模 具。犧牲模具可包含在小于約50(TC的溫度下升華的材料。在一些此類實(shí)施方案中，所述模 具包含降冰片締或其衍生物。
[0033] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含顯示器、處理器和存儲(chǔ)器裝置。處理器可W經(jīng) 配置W與顯示器進(jìn)行通信并且處理圖像數(shù)據(jù)。存儲(chǔ)器裝置可W經(jīng)配置W與處理器進(jìn)行通 信。在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含驅(qū)動(dòng)器電路，其經(jīng)配置W發(fā)送至少一個(gè)信號至顯示 器。在一些此類實(shí)施方案中，處理器還經(jīng)配置W發(fā)送圖像數(shù)據(jù)的至少一部分到驅(qū)動(dòng)器電路。 在一些其它的實(shí)施方案中，所述設(shè)備還可W包含圖像源模塊，其經(jīng)配置W發(fā)送圖像數(shù)據(jù)到 處理器。圖像源模塊可W包含接收器、收發(fā)器和發(fā)射器中的至少一個(gè)。在一些其它的實(shí)施 方案中，所述設(shè)備包含輸入裝置，其經(jīng)配置W接收輸入數(shù)據(jù)并將輸入數(shù)據(jù)傳送到處理器。
[0034] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種設(shè)備，所述設(shè)備包含禪合 到襯底的顯示元件陣列W及懸置于所述顯示元件陣列上方的EAL。EAL禪合到襯底，并且對 于每個(gè)顯示元件，EAL包含至少一個(gè)光圈，用于允許光從其中通過。所述設(shè)備還包含在襯底 上方支撐EAL的多個(gè)錯(cuò)固件W及至少部分地圍繞多個(gè)錯(cuò)固件的一部分的聚合物材料。
[0035] 在一些實(shí)施方案中，聚合物材料延伸遠(yuǎn)離位于穿過包含在EAL中的光圈的一組光 學(xué)路徑之外的錯(cuò)固件。在一些其它的實(shí)施方案中，聚合物材料延伸遠(yuǎn)離位于顯示元件的機(jī) 械部件的行進(jìn)路徑之外的錯(cuò)固件。
[0036] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種設(shè)備，所述設(shè)備包含襯 底、限定用于顯示元件的錯(cuò)固件、致動(dòng)器和光調(diào)制器的模具的第一組犧牲材料層W及布置 于第一組犧牲材料層上方W限定用于EAL的模具的第二組犧牲材料層。第一組犧牲材料 層和第二組犧牲材料層的至少一個(gè)中的犧牲材料層包含在低于約50(TC的溫度下升華的材 料。在一些實(shí)施方案中，第一組犧牲材料層和第二組犧牲材料層的至少一個(gè)中的犧牲材料 層包含降冰片締或其衍生物。
[0037] 在一些實(shí)施方案中，所述設(shè)備還包含布置于第一組犧牲材料層與第二組犧牲材料 層之間的一層結(jié)構(gòu)材料。
[0038] 在一些實(shí)施方案中，第二組犧牲材料層包含下層和上層。在一些此類實(shí)施方案中， 上層包含多個(gè)凹部，其限定用于自EAL朝向襯底延伸的肋的模具；多個(gè)臺(tái)面，其限定用于自 EAL遠(yuǎn)離襯底延伸的肋的模具；或者多個(gè)凹部，其限定用于自EAL朝向襯底延伸的抗靜摩擦 突起的模具。
[0039] 本發(fā)明中所描述的主題的另一個(gè)創(chuàng)新方面可實(shí)施為一種制造方法。所述方法包含 在形成于襯底上的第一模具上形成機(jī)電系統(tǒng)（EM巧顯示元件。所述EMS顯示元件包含懸置 于襯底上方的一部分。所述方法還包含在形成于EMS顯示元件上方的第二模具上形成EAL 通過施加濕法蝕刻而部分地去除第一模具和第二模具的至少一個(gè)的至少第一部分、W及通 過施加干法等離子體蝕刻而部分地去除第一模具和第二模具的至少一個(gè)的至少第二部分。
[0040] 在一些實(shí)施方案中，一同施加濕法蝕刻和干法等離子體蝕刻實(shí)質(zhì)上將第一模具和 第二模具全部去除。在一些其它的實(shí)施方案中，施加濕法蝕刻和干法等離子體蝕刻使得第 一模具和第二模具的至少一個(gè)的第=部分保持完整。在一些此類實(shí)施方案中，第=部分至 少部分地圍繞在襯底上方支撐EAL的錯(cuò)固件。
[0041] 在一些實(shí)施方案中，所述方法還包含形成穿過EAL的蝕刻孔。穿過運(yùn)些蝕刻孔將 濕法蝕刻和干法蝕刻施加于第一模具和第二模具的至少一個(gè)。
[0042] W下附圖和描述闡述了本說明書中所述的主題的一或多個(gè)實(shí)施方案的細(xì)節(jié)。盡管

【發(fā)明內(nèi)容】
中所提供的實(shí)例主要是就基于MEMS的顯示器而言，但是本文所提供的概念可應(yīng) 用于其它類型的顯示器（例如液晶顯示器化CD)、有機(jī)發(fā)光二極管（OLED)顯示器、電泳顯示 器和場發(fā)射顯示器）W及其它非顯示器的MEMS裝置（例如，MEMS麥克風(fēng)、傳感器和光學(xué)開 關(guān)）。通過說明書、附圖及權(quán)利要求書，其它特征、方面及優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見。應(yīng)指出的 是，下面附圖的相對尺寸可W不按比例繪制。
【附圖說明】
[0043] 圖IA示出示例性的直視式基于MEMS的顯示設(shè)備的示意圖。 W44] 圖IB示出示例性主機(jī)裝置的方框圖。
[0045] 圖2示出示例性的基于快口的光調(diào)制器的透視圖。
[0046] 圖3A和圖3B示出兩個(gè)示例性控制矩陣的部分。
[0047] 圖4示出結(jié)合柔性導(dǎo)電間隔件的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 W48] 圖5A示出結(jié)合集成的升高光圈層（EAL)的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 W例圖5B示出圖5A中示出的EAL的示例性部分的俯視圖。
[0050] 圖6A示出結(jié)合集成的EAL的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 陽化U圖她示出6A中示出的EAL的示例性部分的俯視圖。 陽化引 圖6C至6E示出其它示例性EAL的部分的俯視圖。
[0053] 圖7示出結(jié)合EAL的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 陽054] 圖8示出示例性的MEMS向下顯示設(shè)備的部分的剖視圖。 陽化5] 圖9示出用于制造顯示設(shè)備的示例性過程的流程圖。
[0056] 圖IOA至101示出根據(jù)圖9中所示的制造過程，構(gòu)造示例性顯示設(shè)備的各階段的 剖視圖。
[0057] 圖IlA示出結(jié)合封裝EAL的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。
[0058] 圖IlB至IlD示出圖IlA中所示的示例性顯示設(shè)備的構(gòu)造的各階段的剖視圖。
[0059] 圖12A示出結(jié)合帶有肋的EAL的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 W60] 圖12B至1沈示出圖12A中所示的示例性顯示設(shè)備的構(gòu)造的各階段的剖視圖。 [0061] 圖12F示出示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 陽06引圖12G至12J示出適用于圖12A和1沈的帶有肋的EAL中的示例性肋圖案的平面 圖。
[0063] 圖13示出結(jié)合具有光分散結(jié)構(gòu)的示例性EAL的顯示設(shè)備的一部分。 W64] 圖14A至14H示出結(jié)合光分散結(jié)構(gòu)的EAL的示例性部分的俯視圖。 W65] 圖15示出結(jié)合包含透鏡結(jié)構(gòu)的EAL的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 陽066] 圖16示出具有EAL的示例性顯示設(shè)備的剖視圖。
[0067] 圖17示出示例性顯示設(shè)備的一部分的透視圖。 W側(cè) 圖18A示出示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 W例圖18B和18C示出其它示例性顯示設(shè)備的剖視圖。
[0070] 圖19示出示例性顯示設(shè)備的剖視圖。 陽071] 圖20A和20B示出系統(tǒng)方框圖，其圖示包含多個(gè)顯示元件的示例性顯示裝置。 陽072] 在各附圖中，相同的附圖標(biāo)記和命名表示相同的元件。
【具體實(shí)施方式】
[0073] W下描述針對用于描述本發(fā)明的創(chuàng)新方面的一些實(shí)施方案。然而，本領(lǐng)域普通技 術(shù)人員將容易地認(rèn)識到，可W通過多種不同的方式應(yīng)用本文的教導(dǎo)。所描述的實(shí)施方案可W在能夠經(jīng)配置W顯示圖像（無論是動(dòng)態(tài)（如視頻）還是靜態(tài)（如靜止圖像），且無論是 文字、圖形還是圖片）的任何裝置、設(shè)備或系統(tǒng)中實(shí)施。更具體地說，可W設(shè)想的是，所描 述的實(shí)施方案可W包含在各種電子裝置中或者與其相關(guān)聯(lián)，運(yùn)些電子裝置例如但不限于， 移動(dòng)電話、具有多媒體互連件網(wǎng)功能的蜂窩式電話、移動(dòng)電視接收機(jī)、無線裝置、智能手機(jī)、 Biuclooih某裝置、個(gè)人數(shù)據(jù)助理（PDA)、無線電子郵件接收器、手提式或便攜式計(jì)算機(jī)、上 網(wǎng)本、筆記本、智能書、平板電腦、打印機(jī)、復(fù)印機(jī)、掃描儀、傳真器、全球定位系統(tǒng)師巧接 收器/導(dǎo)航器、攝像機(jī)、數(shù)字媒體播放器（例如MP3播放器）、攝錄機(jī)、游戲機(jī)、腕表、鐘、計(jì) 算器、電視顯示器、平板顯示器、電子閱讀裝置（例如電子閱讀器）、計(jì)算機(jī)顯示器、汽車顯 示器（包含里程表和車速表顯示器等）、駕駛室控制和/或顯示器、攝像機(jī)視圖顯示器（例 如車輛中后視攝像頭的顯示器）、電子照片、電子布告板或招牌、投影儀、建筑結(jié)構(gòu)、微波爐、 冰箱、立體聲系統(tǒng)、盒式磁帶錄音機(jī)或播放器、DVD播放器、CD播放器、VCR、收音機(jī)、便攜式 存儲(chǔ)忍片、洗衣機(jī)、干衣機(jī)、洗衣機(jī)/干衣機(jī)、停車計(jì)時(shí)器、封裝（例如在包含微型機(jī)電系統(tǒng) (MEM巧應(yīng)用的機(jī)電系統(tǒng)（EM巧應(yīng)用中，W及在非EMS應(yīng)用中）、美觀性結(jié)構(gòu)（例如一件珠 寶或衣服上的圖像的顯示）W及各種EMS裝置。本文的教導(dǎo)也可W用于非顯示器應(yīng)用中， 例如但不限于，電子切換裝置、射頻濾波器、傳感器、加速度計(jì)、巧螺儀、運(yùn)動(dòng)傳感裝置、磁強(qiáng) 計(jì)、用于消費(fèi)型電子產(chǎn)品的慣性部件、消費(fèi)型電子產(chǎn)品的部件、變?nèi)荻O管、液晶裝置、電泳 裝置、驅(qū)動(dòng)方案、制造過程W及電子測試裝備。因此，本教導(dǎo)并不旨在被限制于僅在附圖中 所示出的