專利名稱：一種多電極束流聚焦調節(jié)裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及ー種多電極束流聚焦調節(jié)裝置，尤其的涉及離子注入機，屬于半導體器件制造設備領域。
背景技術：
在半導體制造エ藝設備離子注入機中，離子束從離子源引出后，由于離子間相互電荷カ的作用機離子初始運動方向的不同，導致離子束在傳輸過程中會發(fā)生發(fā)散，為了使最終打在靶上的離子束流滿足生產的要求，需要對離子束進行聚焦。本專利所涉及的寬帶束離子束流寬度超過了 300_，為了滿足這么大寬度的束流中離子運動方向的一致性及束流大小的均勻性，本專利設計了ー種多電極束流聚焦調節(jié)裝置，能夠對寬帶離子束流經過的空間電場強度分布進行調節(jié)，改變離子運動的方向，調整寬帶離子束流分布的均勻性。

發(fā)明內容
本發(fā)明即是針對上述要求而提出的ー種結構簡單、可靠性高的多電極束流聚焦調節(jié)裝置。本發(fā)明的技術方案是通過改變離子束傳輸路徑空間的電場分布，對寬帶離子束在空間不同位置的離子產生不同大小和方向的電場力，從而改變離子束中不同位置的離子運動的偏轉方向，達到調節(jié)離子束束流徑向分布均勻性的目的。本發(fā)明中上電極組⑵、下電極組(3)中的每個電極和左電極⑷及右電極(5)分別連接程控數(shù)字電源(6)的ー個電壓輸出端相連接?？刂瞥炭財?shù)字電源(6)每個電壓輸出端的電壓大小，即可改變絕緣腔體(I)各個位置的電場場強大小及方向。本發(fā)明具有如下顯著優(yōu)點:1.通過改變離子束傳輸路徑空間的電場場強大小及方向來調節(jié)束流均勻性，使得整個裝置結構簡單，調節(jié)方便。2.上電極組(2)、下電極組(3)中的每個電極和左電極⑷及右電極(5)分別連接程控數(shù)字電源出)的ー個電壓輸出端子相連接，各個電極的電壓可以單獨調節(jié)，使得空間各個局部區(qū)域的電場改變靈活，能滿足不同束流分布的調節(jié)。


圖1為多電極束流聚焦調節(jié)裝置的示意具體實施例方式下面結合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進ー步的介紹，但不作為對本發(fā)明的限定。如圖1所示的一種ー種多電極束流聚焦調節(jié)裝置，包括:絕緣腔體(I)、上電極組(2)、下電極組(3)、左電極(4)、右電極(5)、程控數(shù)字電源(6)。其特征在于上電極組(2)和下電極組(3)兩排電極一一相對，均勻安裝在絕緣腔體(I)上，上電極組(2)、下電極組
(3)中的每個電極和左電極(4)及右電極(5)分別通過導線和程控數(shù)字電源(6)的ー個電壓輸出端子連接。調節(jié)程控數(shù)字電源出)各個電壓輸出端子的電壓即改變每個電極上的電壓大小，導致絕緣腔體(I)內空間中電場的分布發(fā)生變化，從而改變經過絕緣腔體(I)的寬帶離子束各個位置的離子運動的偏轉方向，達到調節(jié)離子束束流徑向分布均勻性的目的。以上所述已對本發(fā)明的內容做了詳盡說明。對本領域一般技術人員而言，在不背離本發(fā)明精神的前提下對它所做的任何顯而易見的改動，都構成對本發(fā)明專利的侵犯，將承擔相應的法律責任。
權利要求
1.本發(fā)明提供ー種多電極束流聚焦調節(jié)裝置，包括:絕緣腔體(I)、上電極組(2)、下電極組(3)、左電極(4)、右電極(5)、程控數(shù)字電源(6)。
2.權利I中所述的上電極組(2)、下電極組(3)、左電極(4)、右電極(5)安裝固定在絕緣腔體⑴上。
3.權利2中所述的上電極組(2)和下電極組(3)兩排電極一一相對，均勻排列安裝在絕緣腔體⑴上。
4.權利I中所述的上電極組(2)、下電極組(3)、左電極(4)、右電極(5)中的每個電極分別和程控數(shù)字電源出)的各個電壓輸出端子相連接。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種多電極束流聚焦調節(jié)裝置，包括絕緣腔體(1)、上電極組(2)、下電極組(3)、左電極(4)、右電極(5)、程控數(shù)字電源(6)。其特征在于上電極組(2)和下電極組(3)兩排電極一一相對，均勻安裝在絕緣腔體(1)上，上電極組(2)、下電極組(3)中的每個電極和左電極(4)及右電極(5)分別通過導線和程控數(shù)字電源(6)的一個電壓輸出端子連接，通過調節(jié)各個電機的電壓極性及大小來改變空間點位分布，從而達到調節(jié)束流的目的。
文檔編號H01J37/21GK103137407SQ20111039038
公開日2013年6月5日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權日2011年11月25日
發(fā)明者張繼恒 申請人:北京中科信電子裝備有限公司