專利名稱:等離子體顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及等離子體顯示面板裝置,更具體地,涉及具有改進(jìn)的排氣效率(exhaust efficiency)的等離子體顯示面板。
背景技術(shù):
通常,等離子體顯示面板(下文稱為PDP)是一種顯示裝置,其中從通過(guò)氣體放電產(chǎn)生的等離子體發(fā)射的紫外線激勵(lì)熒光體從而發(fā)射可見(jiàn)光,從而實(shí)現(xiàn)預(yù)定圖像。
利用三電極表面放電型結(jié)構(gòu)的PDP裝置已經(jīng)廣為人知。此類型的PDP裝置包括第一基板、形成在第一基板一面上的顯示電極、與第一基板間隔開(kāi)的第二基板、以及形成在第二基板一面上且在與顯示電極基本垂直的方向上的地址電極(address electrode)。顯示電極包括掃描電極(scan electrode)和維持電極(sustain electrode)。放電氣體被密封在兩基板之間的空間內(nèi)。
通過(guò)施加適當(dāng)?shù)碾妷涸诘刂冯姌O和掃描電極之間而引起放電。通過(guò)施加維持電壓在一對(duì)維持和掃描電極之間而使放電持續(xù),從而產(chǎn)生發(fā)光。
顯示電極形成在第一基板上,第一基板形成PDP裝置的前面板。顯示電極通常在一個(gè)方向上伸長(zhǎng)。另外,顯示電極通常被覆蓋以電介質(zhì)層且保護(hù)層形成在其上。
另一方面,地址電極形成在第二基板上,第二基板形成PDP裝置的后面板。地址電極通常被覆蓋以電介質(zhì)層。多個(gè)隔肋(barrier rib)將第一和第二基板之間的空間分隔為獨(dú)立的放電空間,稱為放電室(discharge cell)。
為了形成這些隔肋,可采用噴砂(sand blasting)方法。根據(jù)此方法,通過(guò)混合填料、玻璃粉末、粘結(jié)劑和溶劑且將混合物施加到電介質(zhì)層上來(lái)準(zhǔn)備隔肋膏(paste)。然后膏在約120℃的溫度干燥,這樣溶劑揮發(fā)從而形成隔肋材料層。
接著,放電室的圖案利用光致抗蝕劑被傳遞到隔肋層。干膜抗蝕劑附于隔肋層,且干膜抗蝕劑利用掩模被曝光和顯影,從而傳遞圖案。另外,利用圖案化的干膜抗蝕劑實(shí)施噴砂工藝,于是部分隔肋層被選擇性去除,留下隔肋結(jié)構(gòu)。
然后,留下的隔肋結(jié)構(gòu)上的干膜抗蝕劑被去除,隔肋結(jié)構(gòu)在約500℃的溫度烘焙,從而形成隔肋。粘結(jié)劑被蒸發(fā)且玻璃粉末熔化并凝固,玻璃粉末與填料反應(yīng)從而形成隔肋。
如上所述,以此方法形成的隔肋將第一和第二基板之間的空間分隔為各個(gè)獨(dú)立放電空間,其提高了放電效率。具體地,這些隔肋分隔的獨(dú)立放電空間增加了施加熒光體的區(qū)域的尺寸。
然而,如下面論述的,放電空間(室)的該獨(dú)立(封閉)結(jié)構(gòu)具有低的排氣效率。在PDP裝置的制造中,后基板和前基板結(jié)合到一起從而形成密封空間之后,留在密封空間中的雜質(zhì)需要被排出,且每個(gè)放電室被充以放電氣體。然而,當(dāng)放電室具有封閉結(jié)構(gòu)時(shí),排出雜質(zhì)會(huì)是困難的,因?yàn)槊總€(gè)放電室占據(jù)其自身的獨(dú)立空間。
為了解決上述問(wèn)題,已經(jīng)提出了一種在隔肋中形成排氣槽從而在各個(gè)放電室之間提供通道的技術(shù)。然而,該技術(shù)是不便的,因?yàn)橹圃旃に囎兊脧?fù)雜以產(chǎn)生排氣槽。前述論述不構(gòu)成對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的承認(rèn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一方面提供一種等離子體顯示裝置。該裝置包括第一基板,其具有基本平坦的表面;第二基板,其對(duì)著所述第一基板;以及多個(gè)隔肋,其位于所述第一基板與所述第二基板之間從而隔開(kāi)多個(gè)放電室,其中所述多個(gè)隔肋包括第一隔肋和第二隔肋。在該裝置中,所述第一隔肋為所述放電室的第一個(gè)提供第一側(cè)壁,所述第二隔肋為所述第一放電室提供第二側(cè)壁。所述第一隔肋大致在基本平行于所述基本平坦的表面的第一方向上延伸且具有第一高度,所述第一高度是所述第一隔肋在垂直于所述基本平坦的表面的第三方向上的長(zhǎng)度。所述第二隔肋大致在基本平行于所述基本平坦的表面的第二方向上延伸且具有第二高度,所述第二高度是所述第二隔肋在所述第三方向上的長(zhǎng)度。所述第一高度大于所述第二高度。
在上述裝置中,所述第一隔肋具有第一厚度,所述第一厚度是所述第一隔肋在與所述基本平坦的表面平行的平面上在垂直于所述第一方向的方向上的長(zhǎng)度。所述第二隔肋具有第二厚度,所述第二厚度是所述第二隔肋在所述平面上在垂直于所述第二方向的方向上的長(zhǎng)度。所述第二厚度可大于所述第一厚度。所述第二厚度可比所述第一厚度大至少約15μm。所述第一和第二側(cè)壁是所述第一放電室的相鄰側(cè)壁且其間形成一角度,且其中所述角度可為從約60°至小于約150°。所述角度可從約110°至約130°。所述角度可為約80°至約100°。
仍在上述裝置中,所述第一放電室具有基本面對(duì)所述第二基板的頂壁和基本面對(duì)所述頂壁的底壁,其中所述第一隔肋在所述第三方向上具有兩端且在所述兩端或附近接觸所述頂和底壁。所述第二隔肋在所述第三方向上具有兩端且接觸所述頂和底壁之一,且其中間隙可形成在所述第二隔肋與所述頂和底壁之一之間。一個(gè)或更多額外的隔肋為所述第一放電室提供一個(gè)或更多額外的側(cè)壁,其中每個(gè)額外隔肋具有一高度,所述高度是所述額外隔肋在所述第三方向上的長(zhǎng)度,且其中每個(gè)額外隔肋的所述高度可大于所述第二高度。每個(gè)額外側(cè)壁在所述第三方向上具有兩端且在所述兩端或附近接觸所述頂和底壁。所述第二隔肋在所述第三方向上具有頂端和底端,其中所述第二隔肋在其所述底端或附近接觸所述底壁,且其中間隙形成在所述第二隔肋的所述頂端與所述頂壁之間。所述第一隔肋在所述第一方向上的長(zhǎng)度對(duì)所述第二隔肋在所述第二方向上的長(zhǎng)度的比值為從約0.5至約2。
本發(fā)明的另一方面提供一種等離子體顯示裝置。該裝置包括第一基板,其具有基本平坦的表面;第二基板,其對(duì)著所述第一基板;多個(gè)放電室,其布置在所述第一和第二基板之間;以及多個(gè)隔肋,其在所述第一基板與所述第二基板之間。每個(gè)放電室由多個(gè)側(cè)壁、基本面對(duì)所述第二基板的頂壁和基本對(duì)著所述頂壁的底壁定義,其中所述多個(gè)隔肋提供多個(gè)側(cè)壁。每個(gè)放電室具有在至少兩個(gè)側(cè)壁中的至少兩個(gè)開(kāi)口,每個(gè)開(kāi)口包括形成在所述頂壁與所述側(cè)壁之一之間的間隙,且每個(gè)開(kāi)口連接到相鄰放電室從而允許相鄰放電室的流體流通。
在前述裝置中,可以布置每個(gè)放電室的所述至少兩個(gè)開(kāi)口使得形成基本直線的流體流動(dòng)通道。可以布置每個(gè)放電室的所述至少兩個(gè)開(kāi)口使得形成兩個(gè)基本直線的流體流動(dòng)通道。所述至少兩個(gè)開(kāi)口的兩個(gè)可形成在兩個(gè)側(cè)壁中,其每個(gè)基本對(duì)著另一個(gè)。所述第一放電室包括由具有第一高度的第一隔肋提供的第一側(cè)壁,所述第一高度是所述第一隔肋在與所述基本平坦的表面垂直的方向上的長(zhǎng)度,其中所述第一放電室包括由具有第二高度的第二隔肋提供的第二側(cè)壁,所述第二高度是所述第二隔肋在所述方向上的長(zhǎng)度,且其中所述第一高度可大于所述第二高度。所述第一隔肋具有第一厚度,其是所述第一隔肋在平行于所述基本平坦的表面的平面上的長(zhǎng)度,其中所述第二隔肋具有第二厚度,其是所述第二隔肋在所述平面上的長(zhǎng)度,且其中所述第二厚度可大于所述第一厚度。所述第二厚度可比所述第二厚度大至少約15μm。每個(gè)放電室的兩個(gè)相鄰側(cè)壁之間形成一角度,且其中所述角度可為從約60°至小于約150°。
本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是其提供利用隔肋的封閉結(jié)構(gòu)而具有改進(jìn)的排氣效率的等離子體顯示面板。根據(jù)本發(fā)明一方面,等離子體顯示面板包括彼此面對(duì)的第一和第二基板;位于所述第一基板與所述第二基板之間的空間中用于在密封空間中劃分多個(gè)放電室的隔肋;沿著所述放電室設(shè)置的顯示電極;以及形成在與所述顯示電極交叉的方向上的地址電極。所述隔肋包括每個(gè)具有大厚度的第一隔肋和每個(gè)具有與第一隔肋相比相對(duì)小的厚度的第二隔肋。
在一實(shí)施例中,所述第一隔肋和所述第二隔肋規(guī)則布置在固定方向上。此時(shí),所述第一隔肋可形成在所述地址電極延伸的方向上,及在與所述地址電極延伸的方向交叉的方向上,及可形成在對(duì)角方向上。在另一實(shí)施例中,所述第一和第二隔肋之間的厚度差別等于或大于至少15μm。在一實(shí)施例中,隔肋劃分所述放電室使得構(gòu)成一個(gè)象素的子象素被設(shè)置從而形成三角形狀。
根據(jù)本發(fā)明另一方面,等離子體顯示面板包括彼此面對(duì)的第一和第二基板;位于所述第一基板與所述第二基板之間的空間中用于在密封空間中劃分多個(gè)放電室的隔肋;沿著所述放電室設(shè)置的顯示電極;以及形成在與所述顯示電極交叉的方向上的地址電極。所述隔肋包括每個(gè)具有大厚度的第一隔肋和每個(gè)具有與第一隔肋相比相對(duì)小的厚度的第二隔肋。所述第一隔肋的長(zhǎng)度(L2)對(duì)所述第二隔肋的長(zhǎng)度(L1)的比值(L2/L1)在從0.5至2.0的范圍內(nèi)。在一實(shí)施例中,所述第二隔肋連接到所述第一隔肋。
通過(guò)下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述,本發(fā)明的這些和/或其它方面和優(yōu)點(diǎn)將變得明顯且易于理解。
圖1是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的等離子體顯示面板的局部分解透視圖;圖2是沿圖1的II-II線截取的等離子體顯示面板的局部橫截面圖;
圖3是透視圖,示出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的隔肋的布置;圖4A示出烘焙之前的隔肋;圖4B示出烘焙之后的圖4A的隔肋;圖5A示出烘焙之前的另一隔肋;圖5B示出烘焙之后的圖5A的隔肋;圖6A至6F示出六邊形放電室構(gòu)造的各種實(shí)施例,其中提供各種形式的通道;圖7示出六邊形放電室中隔肋的高度和長(zhǎng)度。
具體實(shí)施例方式
圖1是局部分解透視圖,示出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的等離子體顯示面板,圖2是沿圖1的II-II線截取的局部橫截面圖。
參照?qǐng)D1和2,后基板10和前基板20布置為彼此面對(duì),其間有預(yù)定間隙。在基板10和20之間的空間內(nèi),通過(guò)隔肋16的構(gòu)造形成多個(gè)放電室18R、18G和18B。
在每個(gè)放電室18中,熒光體層19形成在隔肋的壁表面161上和底表面141上。每個(gè)放電室18被充以放電氣體(例如含Xe和Ne),通過(guò)在該室內(nèi)施加特定電壓而所述放電氣體產(chǎn)生等離子體狀態(tài)和紫外光,紫外光激發(fā)熒光體。激發(fā)之后當(dāng)返回其正常態(tài)時(shí),熒光體分子發(fā)射可見(jiàn)光。
在所示實(shí)施例中,前基板20由透明材料例如玻璃形成,可見(jiàn)光能通過(guò)其透射從而顯示圖像。顯示電極25在一個(gè)方向(圖中X軸方向)上形成在放電室18之上前基板20的底表面201上。顯示電極25包括掃描電極21和維持電極23。掃描電極21與地址電極12一起起作用從而選擇將被開(kāi)啟的放電室。維持電極23與掃描電極21一起起作用從而容許在選定的放電室中產(chǎn)生維持放電。
顯示電極25被覆蓋以由諸如PbO、B2O3和SiO2的電介質(zhì)形成的電介質(zhì)層28。電介質(zhì)層28防止由于放電時(shí)帶電顆粒直接與顯示電極25的碰撞而引起的顯示電極25的損壞。
此外,如所示實(shí)施例,電介質(zhì)層28的底表面281可被覆蓋以由MgO等形成的保護(hù)膜29。保護(hù)膜29防止電介質(zhì)層28的損壞,如果沒(méi)有保護(hù)膜29,該損壞將由帶電顆粒對(duì)電介質(zhì)層28的碰撞導(dǎo)致。此外,當(dāng)帶電顆粒與保護(hù)膜29碰撞時(shí),保護(hù)膜29可發(fā)射二次電子(secondary electron),因此用來(lái)提高放電效率。在所示實(shí)施例中,保護(hù)膜提供放電室18R的天花板(ceiling)或頂表面。
另外,在后基板10的面對(duì)前基板20的頂表面101上,地址電極12在與顯示電極25交叉的方向(圖中Y軸方向)上延伸。地址電極12和顯示電極25以這樣的方式間隔開(kāi),即放電室位于這些電極12和25之間。這些地址電極12被覆蓋以電介質(zhì)層14,隔肋16以預(yù)定圖案形成在電介質(zhì)層14上。
隔肋16分隔用作進(jìn)行放電的放電空間的放電室18。隔肋16還防止相鄰放電室18之間發(fā)生串?dāng)_。如圖所示,隔肋16包括基本在Y方向上延伸的隔肋16a以及基本在X方向上延伸的隔肋16b。隔肋16a沿X方向彼此間隔開(kāi),隔肋16b沿Y方向也彼此間隔開(kāi)。隔肋16a和16b一起定義彼此基本隔離(封閉結(jié)構(gòu))的放電室18。在本發(fā)明實(shí)施例中,定義放電室的隔肋16a和16b中的至少一個(gè)具有與其它不同的高度。在所示的實(shí)施例中,隔肋16a的高度比隔肋16b的高度大。
隔肋之間高度差用來(lái)形成相鄰放電室之間的通道從而提高排氣效率。換言之,因?yàn)樵赯方向(圖1)上放電室的一個(gè)或更多隔肋矮于其它隔肋,所以相鄰的放電室形成通道,其允許放電室之間通過(guò)該通道的流體流通。在某些實(shí)施例中,隔肋的高度差約為15μm或更大。
下面將詳細(xì)描述隔肋。此處描述的隔肋的結(jié)構(gòu)僅是用于舉例說(shuō)明隔肋的封閉結(jié)構(gòu)的例子。圖3是透視圖,示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的隔肋。在圖3所示的實(shí)施例中,每個(gè)放電室具有隔肋隔開(kāi)的六邊形形狀。在此實(shí)施例中,以三角形形狀設(shè)置的一組三個(gè)相鄰的放電室18R、18G和18B構(gòu)成一象素。隔肋16包括在一方向上延伸的第一隔肋161a(下文稱為直線隔肋(linearbarrier))以及第二和第三隔肋161b,第二和第三隔肋一起被稱為“彎曲隔肋(bent barrier rib)”。
直線隔肋161a基本在地址電極延伸的方向上延伸。彎曲隔肋161b在與直線隔肋161a交叉的方向上連接到一對(duì)相鄰的直線隔肋161a且定義放電室18為具有多邊形形狀,包括圖3所示的六邊形形狀。
在實(shí)施例中,定義放電室的隔肋可具有不同的高度。圖3示出一實(shí)施例,其中直線隔肋161a的高度比彎曲隔肋161b的高度大。隔肋的高度差形成相鄰放電室之間的通道,其提高了排氣效率,這將在下面詳細(xì)描述。
再參照?qǐng)D1,熒光體層19形成在每個(gè)放電室18中。如圖1所示,熒光體層19形成在電介質(zhì)層14的底表面141上以及隔肋16的側(cè)壁表面161上。為了發(fā)射有色的可見(jiàn)光,熒光體層19的每個(gè)利用紅熒光體、綠熒光體和藍(lán)熒光體中的一種形成。如上所述,含有Ne和Xe的放電氣體充在熒光體層19設(shè)置在其中的放電室18內(nèi)。
下面,將參照?qǐng)D4至7詳細(xì)描述根據(jù)各種實(shí)施例的隔肋的一些額外的配置。在圖4A、4B、5A和5B中,隔肋16從膏狀態(tài)被凝固。因?yàn)楦衾?6的材料在凝固工藝中收縮,所以利用收縮屬性形成隔肋使得它們具有不同的高度。
用于隔肋的材料的收縮屬性根據(jù)其厚度而變化。圖4A和4B是示出隔肋在制造工藝中被烘焙時(shí)的收縮的圖示。圖5A和5B是其具有比圖4A和4B所示的厚度小的厚度的另一隔肋的收縮。另外,圖4A和5A示出隔肋收縮之前的狀態(tài),圖4B和5B示出隔肋收縮之后的狀態(tài)。在圖4B和5B中,單點(diǎn)畫(huà)線的形狀表示烘焙之前隔肋的形狀。
如上所述,隔肋膏由填料、玻璃粉末、粘結(jié)劑和溶劑制成。這些材料中,在將膏施加到基板上且然后干燥它的工藝期間溶劑被蒸發(fā)。在烘焙膏的工藝期間粘結(jié)劑被蒸發(fā),形成隔肋的最終材料由填料和玻璃制成。烘焙工藝期間,玻璃粉末被熔化,使得填料被結(jié)合到一起,從而形成固體隔肋。
如上所述,隔肋(其材料)在制造工藝中改變其狀態(tài)。此外,因?yàn)槿軇┖驼辰Y(jié)劑在工藝中被除去,所以隔肋總體上收縮。收縮程度可根據(jù)成分和包括烘焙溫度的其它條件而變化。理論上,收縮比率在所有方向上應(yīng)相等。然而,因?yàn)楦嘟佑|后基板,所以隔肋各向異性地收縮。
如圖所示,在圖4A、4B、5A和5B中,隔肋底表面161接觸基板10。因?yàn)榇嗽颍衾叩氖湛s或變形被基板10所限制。沿著基板10的表面的收縮量比它沒(méi)有接觸基板10時(shí)小。然而,在其它方向上其它部分的形變不受限制,使得其它部分比底表面161具有更大的收縮。從而,在烘焙之前的膏(圖4A中)中,被基板10限制的形變影響高度。因?yàn)槭湛s沿著基板10的表面被限制,所以遠(yuǎn)離基板10的部分經(jīng)受顯著得多的收縮。另外,與基板10的接觸在橫向方向上比在垂直方向上更限制收縮。因此,高度的減小會(huì)大于理想收縮。
然而,形變的程度可根據(jù)隔肋的厚度而變化。例如,當(dāng)厚度d2較小時(shí),在與底表面161平行的方向上施加的形變力F1比在與底表面161垂直的方向上施加的形變力F2強(qiáng),使得隔肋的高度在烘焙之后可增加。
另一方面,當(dāng)隔肋的厚度d1較大(圖4A和4B)時(shí),隔肋通過(guò)形變力F2而不是取決于隔肋的厚度d2的形變力F1更大地收縮,使得在垂直方向上收縮增大。結(jié)果,烘焙之后隔肋的高度減小得甚于圖5B。
在實(shí)施例中,隔肋161a和161b具有不同厚度。從而,由于隔肋161a和161b從具有相同高度的其膏的模烘焙,所以可在隔肋中產(chǎn)生高度差。隔肋的高度差在具有較矮高度的隔肋的頂部與放電室的天花板之間產(chǎn)生間隙。這些間隙用作放電室之間的通道從而允許PDP裝置的制造期間引入在放電室中的雜質(zhì)的順利排出。
實(shí)施例的隔肋可利用如上所述的噴砂方法形成。圖6A、6B、6C、6D、6E和6F示出在六邊形放電室中形成通道的隔肋的圖案。圖中,厚線表示較厚的隔肋。另外,在圖6A、6B、6C、6D、6E和6F中,箭頭表示通道形成方向。
圖6A示出隔肋圖案,其中彎曲隔肋161b具有比直線隔肋161a大的厚度。根據(jù)此圖案,當(dāng)隔肋膏被烘焙時(shí),具有較大厚度的彎曲隔肋161b將變得比具有較小厚度的直線隔肋161a更矮。從而,間隙形成在彎曲隔肋161b與放電室的天花板之間。采用這些間隙,雜質(zhì)或任何氣體的流動(dòng)通道可沿著圖6A的箭頭的方向或其相反方向建立。
圖6B示出一實(shí)施例,其中直線隔肋161a較厚而彎曲隔肋161b較薄。對(duì)于直線隔肋161a和彎曲隔肋161b,烘焙之前的隔肋膏具有相同的高度。在此實(shí)施例中,當(dāng)隔肋膏被烘焙時(shí),直線隔肋161a變得比彎曲隔肋161b矮。采用這些間隙,雜質(zhì)和氣體的流動(dòng)通道可沿著圖6B中箭頭的方向或其相反方向建立。從而,間隙形成在放電室的天花板和直線隔肋之間。
圖6C和6D是具有較厚隔肋的其它布置的實(shí)施例。特別地,單個(gè)放電室僅一個(gè)隔肋為選擇性地較厚。圖6E和6F是另外的實(shí)施例,其中單個(gè)放電室僅一個(gè)隔肋比其它隔肋更薄。
在圖6A、6B、6C、6D、6E和6F中,具有大厚度的每個(gè)隔肋被規(guī)則布置。如圖所示,布置具有較大厚度的隔肋使得厚隔肋基本在圖6A中的水平(左右)方向上延伸。布置具有較大厚度的隔肋使得較厚隔肋基本在圖6B中的垂直(上下)方向上延伸。在圖6C、6D、6E和6F中,設(shè)置具有較大厚度的隔肋使得較厚的隔肋基本在對(duì)角(傾斜)方向上延伸。因?yàn)榫哂蓄A(yù)定圖案的此布置可在具有多個(gè)放電室的PDP中在一個(gè)方向上形成通道,所以可以提高排氣效率。
除了其中由于厚度差而產(chǎn)生隔肋的高度差的實(shí)施例之外,隔肋的高度差還可以由隔肋的長(zhǎng)度的不同產(chǎn)生。方程式1表示隔肋的厚度與長(zhǎng)度之間的關(guān)系。
L2L1=0.5-2.0]]>此處,“L1”指具有較小厚度的隔肋的長(zhǎng)度,“L2”指具有較大厚度的隔肋的長(zhǎng)度。方程式1表示當(dāng)具有較小厚度的隔肋和具有較大厚度的隔肋彼此連接時(shí)它們之間的關(guān)系。例如,如圖7所示,具有較小厚度的隔肋A形成在六邊形放電室中,具有較大厚度的隔肋B連接到隔肋A。在一實(shí)施例中,隔肋A的長(zhǎng)度(“L1”)和隔肋B的長(zhǎng)度(“L2”)具有一關(guān)系,即長(zhǎng)度的比值“L2”/“L1”在從0.5至2.0的范圍內(nèi)。該關(guān)系提供這些隔肋的高度的特定變化從而在放電室中產(chǎn)生通道。
另外,在制造隔肋的工藝中構(gòu)圖用作掩模的干膜抗蝕劑(dry film resist)情況下,因?yàn)闀?huì)發(fā)生下列問(wèn)題,所以優(yōu)選地厚度確定為滿足上述條件。當(dāng)構(gòu)圖干膜時(shí),通過(guò)曝光干膜來(lái)確定隔肋的厚度。在此情況下,當(dāng)隔肋的長(zhǎng)度較短以得到小的厚度時(shí),存在問(wèn)題,因?yàn)樵趯?duì)形成在具有小厚度的隔肋之后的具有大厚度的隔肋的圖案進(jìn)行曝光的工藝中,具有小厚度的圖案被更多地曝光,其厚度變得比期望厚度大。
根據(jù)本發(fā)明,因?yàn)橥ǖ劳ㄟ^(guò)具有隔肋的封閉結(jié)構(gòu)PDP中的排氣槽形成從而解決上述問(wèn)題,所以具有可以容易地實(shí)現(xiàn)排氣的優(yōu)點(diǎn)。另外,因?yàn)榕艢獠蹆H相關(guān)于相同顏色的放電室被提供從而不產(chǎn)生串?dāng)_,所以可進(jìn)行穩(wěn)定的放電同時(shí)維持具有獨(dú)立空間的放電室。
盡管結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本發(fā)明的示例性實(shí)施例,但是應(yīng)明白,本發(fā)明不限于所公開(kāi)的示例性實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識(shí)到,在不偏離所附權(quán)利要求和本發(fā)明的思想和范圍的情況下,在本發(fā)明中可進(jìn)行各種修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種等離子體顯示裝置,包括第一基板,其具有基本平坦的表面;第二基板,其對(duì)著所述第一基板;多個(gè)隔肋,其位于所述第一基板與所述第二基板之間從而隔開(kāi)多個(gè)放電室,所述多個(gè)隔肋包括第一隔肋和第二隔肋;其中所述第一隔肋為所述放電室的第一個(gè)提供第一側(cè)壁,所述第二隔肋為所述第一放電室提供第二側(cè)壁;其中所述第一隔肋大致在基本平行于所述基本平坦的表面的第一方向上延伸且具有第一高度,所述第一高度是所述第一隔肋在垂直于所述基本平坦的表面的第三方向上的長(zhǎng)度;其中所述第二隔肋大致在基本平行于所述基本平坦的表面的第二方向上延伸且具有第二高度,所述第二高度是所述第二隔肋在所述第三方向上的長(zhǎng)度;以及其中所述第一高度大于所述第二高度。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述第一隔肋具有第一厚度,所述第一厚度是所述第一隔肋在與所述基本平坦的表面平行的平面上在垂直于所述第一方向的方向上的長(zhǎng)度,其中所述第二隔肋具有第二厚度,所述第二厚度是所述第二隔肋在所述平面上在垂直于所述第二方向的方向上的長(zhǎng)度,且其中所述第二厚度大于所述第一厚度。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置,其中所述第二厚度比所述第一厚度大至少約15μm。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述第一和第二側(cè)壁是所述第一放電室的相鄰側(cè)壁且其間形成一角度,且其中所述角度從約60°至小于約150°。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置,其中所述角度為從約110°至約130°。
6.如權(quán)利要求4所述的裝置,其中所述相鄰側(cè)壁其間形成一角度,且其中所述角度為約80°至約100°。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述第一放電室具有基本面對(duì)所述第二基板的頂壁和基本面對(duì)所述頂壁的底壁,其中所述第一隔肋在所述第三方向上具有兩端且在所述兩端或附近接觸所述頂和底壁。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置,其中所述第二隔肋在所述第三方向上具有兩端且接觸所述頂和底壁之一,且其中間隙形成在所述第二隔肋與所述頂和底壁之一之間。
9.如權(quán)利要求7所述的裝置,其中一個(gè)或更多額外的隔肋為所述第一放電室提供一個(gè)或更多額外的側(cè)壁,其中每個(gè)額外隔肋具有一高度,所述高度是所述額外隔肋在所述第三方向上的長(zhǎng)度,且其中每個(gè)額外隔肋的所述高度大于所述第二高度。
10.如權(quán)利要求9所述的裝置,其中每個(gè)額外側(cè)壁在所述第三方向上具有兩端且在所述兩端或附近接觸所述頂和底壁。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置,其中所述第二隔肋在所述第三方向上具有頂端和底端,其中所述第二隔肋在其所述底端或附近接觸所述底壁,且其中間隙形成在所述第二隔肋的所述頂端與所述頂壁之間。
12.如權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述第一隔肋在所述第一方向上的長(zhǎng)度對(duì)所述第二隔肋在所述第二方向上的長(zhǎng)度的比值為從約0.5至約2。
13.一種等離子體顯示裝置,包括第一基板,其具有基本平坦的表面;第二基板,其對(duì)著所述第一基板;多個(gè)放電室,其布置在所述第一和第二基板之間;多個(gè)隔肋,其位于所述第一基板與所述第二基板之間;其中每個(gè)放電室由多個(gè)側(cè)壁、基本面對(duì)所述第二基板的頂壁和基本對(duì)著所述頂壁的底壁定義,其中所述多個(gè)隔肋提供多個(gè)側(cè)壁;其中每個(gè)放電室具有在至少兩個(gè)側(cè)壁中的至少兩個(gè)開(kāi)口,每個(gè)開(kāi)口包括形成在所述頂壁與所述側(cè)壁之一之間的間隙,且每個(gè)開(kāi)口連接到相鄰放電室從而允許與相鄰放電室的流體流通,其中第一放電室包括由第一隔肋提供的第一側(cè)壁以及由第二隔肋提供的第二側(cè)壁,以及其中所述第一隔肋具有第一厚度,所述第一厚度是第一隔肋在與所述基本平坦的表面平行的平面上的長(zhǎng)度,所述第二隔肋具有第二厚度,所述第二厚度是所述第二隔肋在所述平面上的長(zhǎng)度,且其中所述第二厚度大于所述第一厚度。
14.如權(quán)利要求13所述的裝置,其中布置每個(gè)放電室的所述至少兩個(gè)開(kāi)口從而形成基本直線的流體流動(dòng)通道。
15.如權(quán)利要求13所述的裝置,其中布置每個(gè)放電室的所述至少兩個(gè)開(kāi)口從而形成兩個(gè)基本直線的流體流動(dòng)通道。
16.如權(quán)利要求13所述的裝置,其中所述至少兩個(gè)開(kāi)口的兩個(gè)形成在兩個(gè)側(cè)壁中,其每個(gè)基本對(duì)著另一個(gè)。
17.如權(quán)利要求13所述的裝置,其中所述第一隔肋具有第一高度,所述第一高度是所述第一隔肋在與所述基本平坦的表面垂直的方向上的長(zhǎng)度,且所述第二隔肋具有第二高度,所述第二高度是所述第二隔肋在與所述方向上的長(zhǎng)度,且其中所述第一高度大于所述第二高度。
18.如權(quán)利要求13所述的裝置,其中所述第二厚度大于所述第一厚度至少約15μm。
19.如權(quán)利要求13所述的裝置,其中每個(gè)放電室的兩個(gè)相鄰側(cè)壁之間形成一角度,且其中所述角度為從約60°至小于約150°。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種具有改進(jìn)的排氣效率的等離子體顯示面板。根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的等離子體顯示面板包括彼此相對(duì)的第一和第二基板;位于所述第一基板與所述第二基板之間的空間中用于劃分密封空間中的多個(gè)放電室的隔肋沿著所述放電室定位的顯示電極;以及形成在與所述顯示電極交叉的方向上的地址電極。所述隔肋包括具有第一高度的第一隔肋和具有第二高度的第二隔肋,從而提供兩種肋之間的高度差。
文檔編號(hào)H01J11/40GK1811878SQ200610005030
公開(kāi)日2006年8月2日 申請(qǐng)日期2006年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月25日
發(fā)明者黃義晶, 柳玟先, 李泰昊, 樸煉俱 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社