專利名稱：等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)及使用該結(jié)構(gòu)的底板結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及等離子體顯示板。更具體地講，本發(fā)明涉及為防止熒光屏的各種顏色相互混合而構(gòu)造出的一種等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，以及使用這種阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的顯示屏的底板結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
常規(guī)的放電顯示屏就是等離子體顯示板。等離子體顯示板是一種平板顯示器，其中掃描和尋址電極以矩陣的形式形成于頂板和底板之間以便驅(qū)動像素，并且圖像是通過使用在電極之間產(chǎn)生放電的同時(shí)所產(chǎn)生的紫外線來產(chǎn)生的。
圖1示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的表面放電型等離子體顯示板的結(jié)構(gòu)。參照圖1，頂板包括一對在前玻璃板21的側(cè)面形成的、具有一定寬度和高度的總線電極22和23；用于保護(hù)總線電極22和23并在放電期間使電荷保持受激勵(lì)的狀態(tài)以便在維持期間使用低電壓使總線電極22和23放電的電介質(zhì)層24；以及在電介質(zhì)層24之上的保護(hù)層25，用于防止總線電極22和23因強(qiáng)放電而損壞，還用于發(fā)射二次電子。
此外，等離子體顯示板的底板包括形成在后玻璃板26的一個(gè)側(cè)面上以便選擇性地選擇各單元區(qū)域(unit cell)并引發(fā)首次放電的尋址電極27。用于使尋址電極27絕緣的電介質(zhì)層33形成于尋址電極27之上。放電空間形成于電介質(zhì)層33之上，并且用于分離單元區(qū)域和防止在鄰近單元之間發(fā)生串?dāng)_現(xiàn)象的阻擋凸紋28形成于放電空間中。在阻擋凸紋28的側(cè)表面和電介質(zhì)層33的上表面上涂有由紅(R)、綠(G)和藍(lán)(B)螢光材料制成的熒光屏30、31和32，用通過放電而產(chǎn)生的紫外線來激發(fā)這些螢光材料從而發(fā)出可見光。阻擋凸紋28可以是像圖2a所示的那樣是條形的，也可以是像圖2b所示的那樣是閉合形的。
因此，放電空間29形成于底板和頂板之間。用于放電的氖氣、氙氣、氦氣等被注入到放電空間29中。頂板的下表面與顯示屏的底板的上表面緊密接觸，并且可以相應(yīng)地構(gòu)成等離子體顯示板的單元區(qū)域。
在如此配置的常規(guī)的等離子體顯示板中，按下述那樣發(fā)生表面放電以在顯示屏上顯示出圖像。如果初始放電電壓被加在總線電極22和23以及尋址電極27上使得可以在這些電極之間產(chǎn)生電勢差，則在放電空間29中會產(chǎn)生首次放電，并且然后會在總線電極22和23之間產(chǎn)生表面放電的同時(shí)產(chǎn)生出紫外線。此時(shí)，由紫外線來激發(fā)周圍熒光屏30、31和32的螢光材料并同時(shí)顯示各種顏色。
即，用所加的電壓來使存在于放電空間29中的電子加速，然后這些電子與之前注入到放電空間29中的、氣壓約為400到600托的混合型惰性氣體碰撞產(chǎn)生出紫外線，這些紫外線轉(zhuǎn)而與熒光屏30、31和32碰撞產(chǎn)生可見光。因此，通過將發(fā)生放電現(xiàn)象的單元放電空間29與沒有發(fā)生放電現(xiàn)象的單元放電空間29結(jié)合起來，便有可能顯示出想要的圖像。
不過，前述的常規(guī)等離子體顯示板具有如下的諸多問題。
為了在常規(guī)的等離子體顯示板上顯示圖像，各自具有紅、綠、藍(lán)不同顏色的熒光屏31、31和32都被注入到相鄰的阻擋凸紋28之間的空間中?？墒褂矛F(xiàn)有技術(shù)的絲網(wǎng)印刷工藝、噴墨工藝或配置工藝(dispensing process)，以便將熒光屏30、31和32注入到相鄰的阻擋凸紋之間。
在配置工藝中，熒光屏的配置材料通過形成于管口上的放電孔被放入各阻擋凸紋之間的空間中。此時(shí)，所形成的放電孔應(yīng)該使其直徑小于相鄰的阻擋凸紋28之間的空隙。不過，常規(guī)的配置工藝會遇到多種顏色混合的問題，因?yàn)闊晒馄敛牧蠒谙噜彽淖钃跬辜y28之間發(fā)生滲透。即，常規(guī)的用于構(gòu)成熒光屏30、31和32的配置工藝具有如下問題。
在以圖2a所示的條形構(gòu)成阻擋凸紋28的情況下，因熒光屏材料的放電壓強(qiáng)的控制是不穩(wěn)定的，所以在熒光屏材料開始涂覆的那部分上會局部產(chǎn)生熒光屏材料的過度放電。此外，熒光屏材料的過度放電使得熒光屏材料可通過毛細(xì)現(xiàn)象滲透過相鄰的阻擋凸紋，因?yàn)樵诠芸诘姆烹娍着c阻擋凸紋28之間的空間非常小。這產(chǎn)生另一個(gè)問題，其中在相鄰的放電空間29之間的熒光屏30、31和32的各種顏色是混合的。這個(gè)問題也存在于熒光屏30、31和32的放電部分以及熒光屏開始放電的部分。
此外，在以圖2b所示的閉合形方式構(gòu)成阻擋凸紋28a和28b的情況下，當(dāng)執(zhí)行連續(xù)的圖形涂覆時(shí)，甚至在橫向的阻擋凸紋28b上也可以涂覆熒光屏30、31和32。因此，存在另一個(gè)問題，涂在橫向阻擋凸紋28b上的熒光屏沿著阻擋凸紋28b流入相鄰的放電空間29，由此引發(fā)了多種熒光屏顏色的混合。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，其中阻擋凸紋的形狀有所改進(jìn)以防止熒光屏的多種顏色混合。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)，其中阻擋凸紋的形狀有所改進(jìn)以防止熒光屏的多種顏色混合。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種等離子體顯示板及其阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，它們克服了與現(xiàn)有技術(shù)相關(guān)聯(lián)的局限和不利。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括基板；形成于該基板上的阻擋凸紋；以及形成于阻擋凸紋的起始部分以便將阻擋凸紋周圍相鄰的放電空間彼此隔開的阻擋壁，涂覆熒光屏的工藝便是從該起始部分開始的。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括基板；形成于該基板上的阻擋凸紋；以及形成于相鄰的阻擋凸紋之間并基本上垂直于用于涂覆放電空間的涂覆溶液的涂覆方向而延伸的槽，該放電空間是由阻擋凸紋界定的，由此防止涂覆溶液進(jìn)入到相鄰的放電空間中。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種具有閉合型阻擋凸紋的等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括形成于閉合型阻擋凸紋的上表面之間并基本上垂直于涂覆溶液的涂覆方向而延伸的的槽，該涂覆溶液則顯示屏涂覆在閉合型阻擋凸紋圍成的放電空間。
應(yīng)該理解，關(guān)于本發(fā)明，前面的一般性描述和后面的詳細(xì)描述都是示例性的并旨在為權(quán)利要求書所界定的本發(fā)明提供進(jìn)一步的理解。


結(jié)合附圖，從下文對較佳實(shí)施例的描述中將會清楚地看到本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，其中圖1是根據(jù)相關(guān)技術(shù)的等離子體顯示板的結(jié)構(gòu)圖；圖2a是常規(guī)的條形阻擋凸紋的一個(gè)示例的結(jié)構(gòu)圖；圖2b是常規(guī)的閉合型阻擋凸紋的另一個(gè)示例的結(jié)構(gòu)圖；圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)的部分透視圖；圖4是示出了用于制造圖3所示的阻擋凸紋和阻擋壁的掩模結(jié)構(gòu)的平面圖；圖5a到5f是按順序地示出了制造圖3所示的實(shí)施例的諸多步驟的工藝流程圖；圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)的另一個(gè)示例的部分透視圖；圖7是示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)的另一個(gè)示例的部分透視圖；圖8是示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)的另一個(gè)示例的透視圖；圖9是示出了用于制造圖8所示的阻擋凸紋和阻擋壁的掩模的結(jié)構(gòu)的平面圖；圖10a到10f是按順序地示出了制造圖8所示的實(shí)施例的諸多步驟的工藝流程圖；以及圖11是應(yīng)用了本發(fā)明的結(jié)構(gòu)的等離子體顯示板的結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將參照附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)以及使用該阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的底板結(jié)構(gòu)的較佳實(shí)施例。
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)透視圖，圖4示出了用于構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的一種掩模的結(jié)構(gòu)平面圖，以及圖5是按順序地示出了構(gòu)成圖3所示的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的諸多步驟的工藝流程圖。
參照圖3-5，在構(gòu)成等離子體顯示板的底板100的基板102上，以條紋的形狀來形成阻擋凸紋104。更具體地講，以規(guī)則的間隔并排構(gòu)成多個(gè)具有預(yù)定的寬度和高度的阻擋凸紋104。全部以直線延伸的多個(gè)阻擋凸紋104是并排構(gòu)成的。
阻擋壁106形成于每個(gè)阻擋凸紋104的一側(cè)的末端部分上。更具體地講，阻擋壁106形成于開始涂覆熒光屏的那部分阻擋凸紋上。當(dāng)通過配置工藝涂覆熒光屏?xí)r，用于涂覆熒光屏的涂覆溶液開始流入阻擋凸紋104的起始部分，然后因涂覆溶液的流出壓力的設(shè)置并不精確便流入了部分過量的涂覆溶液。安裝阻擋壁106以防止該過量的涂覆溶液進(jìn)入到相鄰的阻擋凸紋之間界定的空間(即，放電空間)中。換句話說，阻擋壁106用于防止熒光屏的多種顏色在阻擋凸紋104的起始部分處混合。
在圖3所示的實(shí)施例中，阻擋壁106形成于阻擋凸紋的部分之上，使得放置它們時(shí)不超越阻擋凸紋104的末端部分并且不高于阻擋凸紋104。在本實(shí)施例中，阻擋凸紋104與阻擋壁106彼此交叉以便構(gòu)成矩形分割空間。使最外圍的阻擋壁106接觸阻擋凸紋104的末端。較佳地，至少形成兩個(gè)阻擋壁106以明確地防止涂覆溶液進(jìn)入到放電空間。即，阻擋壁106包括第一阻擋壁，它基本上垂直于阻擋凸紋而延伸并鄰近等離子體顯示板的一側(cè)處的阻擋凸紋的末端表面；以及一個(gè)或多個(gè)第二阻擋壁，它基本上垂直于阻擋凸紋而延伸并包括放置在等離子體顯示板的一側(cè)處的相鄰的阻擋凸紋之間的多個(gè)壁構(gòu)件，就像圖3所示的那樣。
同時(shí)，圖4示出了掩模105的平面圖，在掩模105上形成圖形105’和105”以便構(gòu)建出阻擋凸紋104和阻擋壁106。即，選擇性地除去在β態(tài)中的掩模105，以形成圖4所示的那種掩模。掩模105是由比如像干式薄膜這樣的感光樹脂構(gòu)成的，厚度為20微米。阻擋壁的圖形105”具有0.3mm的寬度。
接下來，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，參照圖5對具有圖3所示的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的底板的制造工藝進(jìn)行解釋。圖5示出了通過像化學(xué)刻蝕工藝這樣的刻蝕工藝來形成阻擋凸紋的過程。
玻璃通常被用作基板100(圖5(a))?；?00可切割成想要的大小，然后清洗切割好的基板以便將外部的物質(zhì)從該基板上去除。阻擋凸紋材料103被涂覆在基板100的上表面上以在其上形成阻擋凸紋(圖5(b))。
當(dāng)阻擋凸紋材料103被涂覆在基板102的一個(gè)表面上之后，便通過加熱涂覆在基板上的阻擋凸紋材料來執(zhí)行使阻擋凸紋材料硬化的燒制過程。通過燒制過程，阻擋凸紋材料103便固化在基板100上了。在圖5c中，固化的阻擋凸紋材料103是用斜線標(biāo)記的。
然后，將β態(tài)中的掩模105放置在硬化的阻擋凸紋材料103上(圖5(c))。此外，選擇性地去除掩模105使得只留下阻擋凸紋圖形105’和阻擋壁圖形105”。此時(shí)，通過像曝光、沖洗和清洗這樣的處理來選擇性地除去掩模105。
由阻擋凸紋圖形105’保護(hù)的阻擋凸紋材料103將會變?yōu)樽钃跬辜y104。除了在其上將要形成阻擋凸紋104的那部分阻擋凸紋材料103之外，除去阻擋凸紋圖形105’；并且除了在其上將要形成阻擋壁106的那部分阻擋凸紋材料103之外，除去阻擋壁圖形105”。
之后，選擇性地除去阻擋凸紋材料103以便形成阻擋凸紋104和阻擋壁106(圖5(e))。即，通過使用掩模的阻擋凸紋圖形105’和阻擋壁圖形105”的刻蝕阻擋凸紋材料103，使得在其上留下掩模105的那部分阻擋凸紋材料103不被去除，而在其上沒有留下掩模105的那部分阻擋凸紋材料103被去除，這樣便形成了阻擋凸紋104和阻擋壁106。
當(dāng)通過前述的過程注入一定量的刻蝕溶液之后已過去了完成刻蝕過程所用的預(yù)定時(shí)段時(shí)，執(zhí)行清洗過程?？涛g過程重復(fù)地執(zhí)行，直到阻擋凸紋104具有均勻的厚度。
在圖5(f)的情況下，去除阻擋凸紋圖形105’，清洗基板以去除覆蓋在基板102上的刻蝕溶液，并且使清洗過的基板變干，通過這些步驟便完成了在其上形成有阻擋凸紋104和阻擋壁106的底部基板100。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的另一個(gè)示例。為了方便，將只對本發(fā)明的主要部分進(jìn)行解釋。在本圖中，以二百表示的參考數(shù)字指代與圖3所示的實(shí)施例中的那些部分相似的部分。
如圖6所示，阻擋凸紋204形成于基板202上，以便于構(gòu)成等離子體顯示板的底板/基板200，并且阻擋壁206形成于其上。使最里面的阻擋壁206接觸阻擋凸紋204一側(cè)的末端部分，而另外的阻擋壁206則形成于上述阻擋凸紋204末端部分的另一邊的部分上。因此，在本示例中，沒有形成由橫跨阻擋凸紋204的阻擋壁206所界定的分隔空間，因?yàn)樽钃醣?06與阻擋凸紋204并不彼此交叉。所形成的阻擋壁206也可以與阻擋凸紋204等高或低于阻擋凸紋204。
較佳地，至少形成兩個(gè)阻擋壁206，以便更有效地防止涂覆溶液流過阻擋壁進(jìn)入相鄰的放電空間。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的另一個(gè)示例。同樣，為了方便將只對本發(fā)明的主要部分進(jìn)行解釋，以三百表示的參考數(shù)字指代與圖3所示的實(shí)施例中的那些部分相似的部分。
如圖7所示，阻擋凸紋304形成于基板302上以構(gòu)成等離子體顯示板的底板/基板300，并且阻擋壁306和306’形成于其上。阻擋壁306和306’分別形成于與阻擋凸紋304的兩端相對應(yīng)的位置處。形成的阻擋壁306和306’與阻擋凸紋304等高或低于阻擋凸紋304。在使用這種結(jié)構(gòu)的情況下，當(dāng)通過配置工藝釋放涂覆溶液時(shí)，形成于阻擋凸紋304的起始部分之上的阻擋壁306以及形成于阻擋凸紋304的結(jié)束部分之上的阻擋壁306’防止涂覆溶液進(jìn)入在相鄰的阻擋凸紋304之間界定的空間中。即，阻擋壁306和306’防止涂覆溶液在阻擋凸紋304之間移動，這種移動可能產(chǎn)生于涂覆開始與結(jié)束的部分中，原因是涂覆溶液的釋放壓力變化以及涂覆溶液釋放到釋放空與阻擋凸紋304之間的狹小空間中的限制。較佳地，在本實(shí)施例中至少要形成兩個(gè)阻擋壁306和306’。
接下來，圖8和9示出了本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施例。在本實(shí)施例中，本發(fā)明應(yīng)用于閉合型阻擋凸紋。
如圖8和9所示，閉合型阻擋凸紋404形成于用來構(gòu)成底部400的基板402上。阻擋凸紋404包括第一阻擋凸紋404a和第二阻擋凸紋404b，它們彼此之間依次地垂直交叉以形成在其中涂覆熒光屏的放電空間。
槽404a’形成于阻擋凸紋404的第一阻擋凸紋部分404a的上表面上，并在與涂覆有涂覆溶液的方向相垂直的方向上延伸，使得涂覆溶液沒有進(jìn)入到相鄰的放電空間中。盡管圖8示出了其它槽404b’也形成于第二阻擋凸紋部分404b的上表面之上并在與涂覆有涂覆溶液的方向相平行的方向上延伸，但槽404b’不是必然需要的。即，令人可以接受的是槽404a’在第一阻擋凸紋部分404a的縱向上形成于第一阻擋凸紋部分404a的上表面之上，第一阻擋凸紋部分404a的上表面之上實(shí)際地涂覆有涂覆溶液。
當(dāng)然，槽404b’也在縱向上形成于第二阻擋凸紋部分404b的上表面之上。不過，槽404b’并不是允許去除被直接涂覆在第一阻擋凸紋部分404a上的涂覆溶液的空間，而是用來防止在將涂覆溶液涂覆到放電空間的過程中已經(jīng)從放電空間轉(zhuǎn)移到第二阻擋凸紋部分404b的上表面之上的涂覆溶液再一次地進(jìn)入相鄰的放電空間中。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，圖9所示的掩模405被用來形成在其中含有前述的槽404a’和404b’的阻擋凸紋404。即，在掩模405上選擇性地構(gòu)成阻擋凸紋圖形405’以及槽圖形405”。阻擋凸紋圖形405’用來形成阻擋凸紋404，而槽圖形405”用來形成槽404a’和404b’。與阻擋凸紋圖形405’相比，可以這樣構(gòu)建槽圖形405”使得它們能夠很好地傳輸光線。
干式薄膜可以用作掩模405并且厚度為20微米。為了構(gòu)成槽404a’和404b’，小于等于阻擋凸紋上部寬度的1/3的干式薄膜被用作半透明或無保護(hù)圖形部分中。
以這樣一種方式來形成槽404a’和404b’，使得與阻擋凸紋的上方寬度的5～70％相對應(yīng)的槽的部分低于阻擋凸紋404的5～70％。此外，以這樣一種方式來形成阻擋凸紋404，使得阻擋凸紋的橫向上部寬度(圖8中的箭頭d)與阻擋凸紋的縱向上部寬度(圖8中的箭頭c)的比值是200％或更少。
接下來，將參照圖10對一種用于在根據(jù)圖8和9所示的實(shí)施例的等離子體顯示板上制造阻擋凸紋的方法進(jìn)行描述。此處，使用與物理刻蝕過程相對應(yīng)的噴砂處理來構(gòu)成阻擋凸紋404，但也可以使用其它工藝。
處理/清洗在其上形成有阻擋凸紋404的基板402，然后將其切成一定的大小。此時(shí)，由像鋁這樣的材料制成的阻擋凸紋材料403可以沉積在基板402的上表面之上。阻擋凸紋材料403是以β形狀構(gòu)成的。
更具體地講，如圖10(a)和10(b)所示，如果阻擋凸紋材料403形成于基板402的上表面之上，則執(zhí)行阻擋凸紋圖形化。通過將由感光樹脂制成的掩模405放置在阻擋凸紋材料403上并接著允許由曝光、沖洗和清洗使阻擋凸紋圖形405’形成于應(yīng)該形成阻擋凸紋404的那部分阻擋凸紋材料之上，就像圖10(c)所示的那樣。此外，阻擋凸紋材料403的其它部分是無遮擋的，因此可以執(zhí)行圖形化處理，該處理即為把將要圖形化的部分與將要刻蝕的部分區(qū)分開。
然后，如果當(dāng)掩模405的阻擋凸紋圖形405’留在阻擋凸紋材料403上時(shí)在阻擋凸紋材料403上執(zhí)行噴砂處理，則阻擋凸紋材料403便被刻蝕了，使得像圖10(d)所示的那樣只留下了阻擋凸紋404。
如圖10(d)所示，當(dāng)物理刻蝕處理已結(jié)束時(shí)，在阻擋凸紋404之間的阻擋凸紋材料403被刻蝕并除去了。去除附著于阻擋凸紋404之上的掩模405(圖10(e))，在高溫下執(zhí)行燒制過程，對阻擋凸紋404進(jìn)行加熱，之后便完成了形成阻擋凸紋的過程(圖10(f))。
顯示屏圖11示出了具有根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的等離子體顯示板的平面圖。如圖11所示，在等離子體顯示板中，在其上形成有阻擋凸紋和阻擋壁的底板500接合到頂板510，其中它們是通過密封部分520來密封的。此處，阻擋凸紋和阻擋壁可以是上述諸多阻擋凸紋和阻擋壁示例中的任何一種。例如，阻擋壁540和550放置在顯示區(qū)域530和密封部分520之間，密封部分520用來密封頂板510和底板500。
上述的根據(jù)本發(fā)明的等離子體顯示板可以提供如下的效果。
可以改變阻擋凸紋的形狀以抑制在涂覆熒光屏?xí)r熒光屏的多種顏色發(fā)生混合的現(xiàn)象。例如，阻擋壁形成于阻擋凸紋的開始部分和結(jié)束部分，以防止涂覆溶液從放電空間進(jìn)入阻擋凸紋之間所界定的相鄰的放電空間中。因此，優(yōu)點(diǎn)在于熒光屏的多種顏色的混合現(xiàn)象不再發(fā)生。
另外，槽可以形成于阻擋凸紋的上表面之上，以抑制在涂覆熒光屏的同時(shí)熒光屏的各種顏色的混合現(xiàn)象的發(fā)生。槽可以形成于阻擋凸紋的上表面之上并垂直于涂覆熒光屏的方向，尤其是在閉合型阻擋凸紋中情況更是如此。因此，因?yàn)檫@些槽防止涂覆溶液轉(zhuǎn)移到相鄰的放電空間中，所以不再發(fā)生并且可有效地防止熒光屏的多種顏色的混合現(xiàn)象，其中當(dāng)連續(xù)地將形成熒光屏的涂覆溶液來涂覆阻擋凸紋時(shí)該涂覆溶液便被涂覆在閉合型阻擋凸紋中的阻擋凸紋的上表面之上。
盡管本發(fā)明在得到說明和描述時(shí)都參照了諸多較佳實(shí)施例和附圖，但本發(fā)明并不限于此。因此，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解在不背離所附的權(quán)利要求書所界定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下可以對本發(fā)明作出各種修改和變化。因此，本發(fā)明的范圍應(yīng)該被理解成只由所附的權(quán)利要求書來界定。
權(quán)利要求
1.一種等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)，它包括基板；形成于所述基板上的阻擋凸紋；以及至少一個(gè)阻擋壁，它形成于所述阻擋凸紋的至少一個(gè)起始部分上以便將所述阻擋凸紋周圍相鄰的放電空間彼此隔開，涂覆熒光屏的過程便是從所述至少一個(gè)起始部分開始的。
2.如權(quán)利要求1所述的底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述底板結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括至少一個(gè)阻擋壁，它形成于所述阻擋凸紋的至少一個(gè)結(jié)束部分處，所述涂覆熒光屏的過程便是在所述至少一個(gè)結(jié)束部分處結(jié)束的。
3.如權(quán)利要求1所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述至少一個(gè)阻擋壁橫跨所述阻擋凸紋以便形成矩形放電空間。
4.如權(quán)利要求1所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述至少一個(gè)阻擋壁與各阻擋凸紋的末端部分相接觸。
5.如權(quán)利要求1所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述至少一個(gè)阻擋壁放置在所述等離子體顯示板的顯示區(qū)域和密封部分之間。
6.如權(quán)利要求1所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述至少一個(gè)阻擋壁與所述阻擋凸紋等高或低于所述阻擋凸紋。
7.如權(quán)利要求1所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述阻擋凸紋是以條紋形狀構(gòu)成的。
8.如權(quán)利要求7所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述至少一個(gè)阻擋壁包括形成于所述阻擋凸紋的開始部分處的多個(gè)阻擋壁。
9.如權(quán)利要求8所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述多個(gè)阻擋壁包括第一阻擋壁，它基本上垂直于所述阻擋凸紋而延伸并在所述等離子體顯示板的一側(cè)處與所述阻擋凸紋的末端表面鄰接；以及至少一個(gè)第二阻擋壁，它基本上垂直于所述阻擋凸紋而延伸并包括在所述等離子體顯示板的一側(cè)處放置在相鄰的阻擋凸紋之間的多個(gè)壁構(gòu)件。
10.如權(quán)利要求9所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述底板結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括至少一個(gè)第三阻擋壁，它形成于所述阻擋凸紋的至少一個(gè)結(jié)束部分處并基本上垂直于所述阻擋凸紋而延伸，所述至少一個(gè)第三阻擋壁包括放置在所述等離子體顯示板的另一側(cè)處的相鄰阻擋凸紋之間的多個(gè)壁構(gòu)件。
11.如權(quán)利要求8所述底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述多個(gè)阻擋壁包括第一阻擋壁，它基本上垂直于所述阻擋凸紋而延伸并在所述等離子體顯示板的一側(cè)處與所述阻擋凸紋的末端表面鄰接；以及第二阻擋壁，它基本上平行于所述第一阻擋壁而放置并且并不接觸所述阻擋壁。
12.一種等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)，它包括基板；形成于所述基板上的阻擋凸紋；以及槽，它們中的每一個(gè)都形成于所述相鄰的阻擋凸紋之間并基本上垂直于涂覆溶液的涂覆方向延伸以防止所述涂覆溶液轉(zhuǎn)移到相鄰的放電空間中，所述涂覆溶液用于涂覆由所述阻擋凸紋界定的放電空間。
13.如權(quán)利要求12所述的底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述阻擋凸紋是以閉合型構(gòu)成的。
14.如權(quán)利要求13所述的底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述閉合型是矩形。
15.如權(quán)利要求12所述的底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，與所述阻擋凸紋的上部寬度的5～70％相對應(yīng)的阻擋凸紋的部分要比所述阻擋凸紋低大約5～70％。
16.如權(quán)利要求12所述的底板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述底板結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括形成于相鄰的阻擋凸紋之間并基本上平行于所述涂覆溶液的涂覆方向而延伸的槽。
17.一種具有閉合型阻擋凸紋的等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，它包括形成于閉合型阻擋凸紋的上表面之間并基本上垂直于涂覆溶液的涂覆方向延伸的槽，所述涂覆溶液被施加到所述閉合型阻擋凸紋的放電空間。
18.如權(quán)利要求17所述的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述阻擋凸紋結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括形成于所述閉合型阻擋凸紋的上表面之間并在基本上平行于所述涂覆溶液的涂覆方向上延伸的槽。
19.如權(quán)利要求18所述的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述阻擋凸紋是矩形的并排列成矩陣結(jié)構(gòu)。
20.如權(quán)利要求17所述的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述阻擋凸紋的橫向上部寬度與所述阻擋凸紋的縱向上部寬度之比大約為2或更小。
全文摘要
討論了一種等離子體顯示板的阻擋凸紋結(jié)構(gòu)以及使用該阻擋凸紋結(jié)構(gòu)的底板結(jié)構(gòu)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，等離子體顯示板的底板結(jié)構(gòu)包括基板；形成于基板上的阻擋凸紋；以及至少一個(gè)阻擋壁，它形成于所述阻擋凸紋的至少一個(gè)開始部分處以便使阻擋凸紋周圍相鄰的放電空間彼此分開，涂覆熒光屏的過程便是從所述至少一個(gè)開始部分處開始的。
文檔編號H01J17/04GK1819103SQ20061000252
公開日2006年8月16日 申請日期2006年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月10日
發(fā)明者吳尚震, 樸俊奎, 金德煥, 洪淳國, 李康煜, 李惠真 申請人:Lg電子株式會社