專利名稱：等離子體顯示面板、等離子體顯示裝置及等離子體顯示面板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于顯示器件等的等離子體顯示面板的制造方法，特別是涉及電極的制造方法。
背景技術(shù)：
近年來，在用于計(jì)算機(jī)及電視機(jī)等的顯示裝置中，等離子體顯示面板(以下，稱為“PDP”)正在作為可實(shí)現(xiàn)大型、薄型、質(zhì)輕的顯示器件而引人注目。


圖1是一般的交流型(AC型)PDP100的概略圖。
PDP100由其主面互相相向而配置的正面板90和背面板91構(gòu)成。
正面板90由正面玻璃基板101、顯示電極102、電介質(zhì)層106和保護(hù)層107構(gòu)成。
正面玻璃基板101是構(gòu)成正面板90的基底的材料，在該正面玻璃基板101上形成顯示電極102。
該顯示電極102由透明電極103、黑色電極膜104和總線電極105構(gòu)成。
黑色電極膜104由于其主成分的氧化釕呈黑色，起到防止從玻璃背面一側(cè)看時(shí)外部光的反射的作用。
另外，總線電極105由于以具有高導(dǎo)電性的銀為主成分，起到降低總體電阻值的作用。
這里，為了方便起見，將黑色電極膜104和總線電極105合起來稱為多層電極309。
該多層電極309在其長(zhǎng)邊方向的一端，作為用于與驅(qū)動(dòng)電路連接的接口，具有電極的寬度被局部地放大了的矩形的端子部108。
顯示電極102和正面玻璃基板101還被電介質(zhì)層106和保護(hù)層107覆蓋。
背面板91由背面玻璃基板111、地址電極112、電介質(zhì)層113、間壁114和在鄰接的間壁114彼此之間的間隙(以下，稱為“間壁溝槽”)的壁面上形成的熒光體層115構(gòu)成。
如圖1所示，正面板90和背面板91在重疊的狀態(tài)下被密封，在其內(nèi)部形成放電空間116。
再有，在本圖中雖然被描繪成背面板91的y軸方向的端部開放的形式，但這是為了便于容易地說明結(jié)構(gòu)而表示的圖，實(shí)際上在其外周邊部用密封玻璃粘結(jié)、密封。
在放電空間116內(nèi)，由He、Xe、Ne等稀有氣體成分構(gòu)成的放電氣體(封入氣體)以500～600乇(66.5～79.8kPa)左右的壓力被封入。
相鄰的一對(duì)顯示電極102與1條地址電極112夾持放電空間116而交叉的區(qū)域構(gòu)成對(duì)圖像顯示有貢獻(xiàn)的單元。
通過連接該P(yáng)DP100與驅(qū)動(dòng)電路，構(gòu)成等離子體顯示裝置140。
驅(qū)動(dòng)電路按照來自存儲(chǔ)器和外部的圖像信號(hào)，具有對(duì)地址電極112和顯示電極102施加電壓的電路。
如上所述，橫截1個(gè)單元的顯示電極有2個(gè)，其中一個(gè)稱為X電極，另一個(gè)稱為Y電極，這些電極交互排列。
在本等離子體顯示裝置140中，在橫截欲使之點(diǎn)亮的單元的X電極與地址電極112之間施加電壓，進(jìn)行地址放電后，通過對(duì)橫截上述單元的X電極和Y電極施加脈沖電壓來進(jìn)行維持放電。
在等離子體顯示裝置140中，在放電空間116內(nèi)借助于該維持放電而產(chǎn)生紫外線，通過將所產(chǎn)生的紫外線照射熒光體層115，該紫外線變換成可見光，使單元點(diǎn)亮而顯示圖像。
這里，說明多層電極309，即黑色電極膜104和總線電極105的生成方法。
圖2是示出現(xiàn)有的多層電極的制造方法的一例的圖。
如圖2(a)所示，最初在正面玻璃基板302上例如用印刷法等涂敷含氧化釕等的感光材料，形成黑色電極膜前體301。
接著，如圖2(b)所示，在黑色電極膜前體301上例如用印刷法等涂敷含Ag等的感光材料，形成總線電極前體303。
然后，如圖2(c)所示，如從曝光掩模305上照射紫外線304，則在黑色電極膜前體301和總線電極前體303上形成曝光部307和非曝光部306。
這時(shí)，感光材料中的感光成分因受紫外線照射而從膜表面起漸次固化。
接著，如圖2(d)所示，如在含堿等的顯影液中進(jìn)行顯影，則僅有曝光部307留在基板上，形成對(duì)層疊狀態(tài)的黑色電極膜前體301和總線電極前體303進(jìn)行了構(gòu)圖的多層電極前體308。
也就是說，該多層電極前體308形成黑色電極膜前體301和總線電極前體303的2層結(jié)構(gòu)。
然后，如圖2(e)所示，如對(duì)多層電極前體308進(jìn)行焙燒，則包含于在基板上保留的顯影后的多層電極前體308中的材料的分子彼此之間可在縮短相互的距離的同時(shí)進(jìn)行燒結(jié)。
這時(shí)，多層電極前體308的體積減少了。
通過這種燒結(jié)，多層電極前體308的黑色電極膜前體301的部分成為黑色電極膜104，多層電極前體308的總線電極前體303的部分成為總線電極105。
再有，也有通過在總線電極105之上更層疊與總線電極105相同的材料以進(jìn)一步降低電阻值的方法。
然而，在本焙燒工序中，有下述問題。
即，在焙燒多層電極前體308，形成多層電極309時(shí)，在該多層電極309的長(zhǎng)邊方向的終端部，有發(fā)生剝離的情形。
這里，所謂多層電極309的終端部，是指不僅位于端子部108一側(cè)，還包含與之相反的終端部。
以下，將在這樣的多層電極的終端部中發(fā)生的剝離稱為電極剝離。
圖3是示出電極剝離的狀況的概略圖。
在本圖中，著眼于鄰接的2條多層電極309，即X電極和Y電極，這里為了方便起見，將跟前的多層電極稱為多層電極309a，將另一方的多層電極稱為多層電極309b。
這里，在多層電極309a中，與上述透明電極103、黑色電極膜104、總線電極105和端子部108對(duì)應(yīng)的部分分別為透明電極103a、黑色電極膜104a、總線電極105a和端子部108a。
另外，在多層電極309b中，與上述透明電極103、黑色電極膜104、總線電極105和端子部108對(duì)應(yīng)的部分分別為透明電極103b、黑色電極膜104b、總線電極105b和端子部108b。
在正常的狀態(tài)，即電極剝離不發(fā)生的狀態(tài)下，如圖3的左下方所示，在多層電極309a的x軸右方向的終端部即端子部108a中，正面玻璃基板101與多層電極309a完全粘結(jié)在一起。
同樣，在正常的狀態(tài)下，即使在多層電極309b的x軸右方向的終端部中，正面玻璃基板101與多層電極309a完全粘結(jié)在一起。
在這樣的正常的狀態(tài)下，如生成多層電極309a和多層電極309b，則在品質(zhì)上不存在問題，但如圖3的右下方所示，有在端子部108a的終端部發(fā)生電極剝離的情形。
這種電極剝離不僅在端子部，而且在與有端子部的一側(cè)相反的一側(cè)的多層電極的終端部，也同樣地發(fā)生。
作為包含感光材料的層疊金屬膜的多層電極308在焙燒的過程中，由于多層電極308中包含的感光材料等蒸發(fā)，釋放于環(huán)境氣氛之中，剩下的材料被燒結(jié)，其分子之間的距離縮短，所以體積收縮了。
電極剝離的原因被認(rèn)為是在多層電極309b與正面玻璃基板101的接觸面被固定的狀態(tài)下，上述收縮發(fā)生，從而在多層電極309內(nèi)部產(chǎn)生應(yīng)力的緣故。
這樣，在用于形成多層電極的焙燒工序中，如在多層電極的終端部發(fā)生電極剝離，則會(huì)發(fā)生制成的PDP的品質(zhì)不良的現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述問題而進(jìn)行的，其目的在于提供在焙燒工序中難以發(fā)生電極剝離的PDP、安裝了該P(yáng)DP的等離子體顯示裝置和在焙燒工序中難以發(fā)生電極剝離的PDP的制造方法。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的PDP是配備有對(duì)導(dǎo)電材料進(jìn)行燒結(jié)而形成的排列了多個(gè)電極的基板的等離子體顯示面板，其特征在于上述各電極包括屬于上述基板的顯示區(qū)域內(nèi)的第1部分和屬于上述基板的顯示區(qū)域外、其膜厚比該第1部分的膜厚薄的第2部分。
在上述電極中，有根據(jù)上述膜厚而產(chǎn)生的、在上述電極的長(zhǎng)邊方向起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，由此可使在第2部分中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力比在上述第1部分中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力減少。
也就是說，該內(nèi)部應(yīng)力是在上述電極焙燒后發(fā)生的、成為電極剝離的原因的剪應(yīng)力，由于降低了在上述第2部分中產(chǎn)生的應(yīng)力，所以抑制了第2部分中剝離的發(fā)生。
另外，上述顯示區(qū)域可以是形成放電空間的單元存在的區(qū)域。
由此，第2部分的上述電極的膜厚比存在上述單元的區(qū)域中的上述電極的膜厚薄。
與此同時(shí)，第2部分的電極的電阻值雖然有比在單元周邊存在的上述電極的電阻值增大的趨勢(shì)，但由于存在上述單元的區(qū)域占據(jù)了上述電極的大部分，所以作為上述電極總體的電阻值的增加也是輕微的。
而且，在單元存在的區(qū)域，出于提高亮度的要求，不得不收窄上述電極的寬度，因此，雖然膜厚的減薄直接影響到電阻值的增大，但在不存在單元的區(qū)域，即在第2部分所屬的區(qū)域，由于也能擴(kuò)展上述電極的寬度，所以膜厚的減薄難以直接影響電阻值的增大，因減薄膜厚而產(chǎn)生的缺點(diǎn)減少了。
另外，上述第2部分的膜厚可在5μm以下。
按照上述膜厚，產(chǎn)生沿上述電極的長(zhǎng)邊方向起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，由此可在第2部分中使該內(nèi)部應(yīng)力的值為該膜厚相應(yīng)于5μm的應(yīng)力的值以下。
也就是說，如果在第2部分包含電極剝離的發(fā)生范圍，則當(dāng)上述電極的膜厚為5μm以下時(shí)，由于難以發(fā)生在形成上述電極的焙燒工序中使電極剝離發(fā)生那種程度的應(yīng)力，所以這種電極剝離的發(fā)生減少了。
另外，上述第2部分可以定為從上述電極的終端部的前端到長(zhǎng)邊方向至少10μm的范圍。
由此，在因膜厚的減少引起內(nèi)部應(yīng)力降低的同時(shí)，電阻值增加的范圍被限定于上述10μm的范圍。
也就是說，由于上述電阻值的增加所發(fā)生的范圍很微小，所以在將電阻值的增加抑制到可忽視的程度的同時(shí)，也避免了發(fā)生電極剝離。
另外，上述第1部分至少包括層疊了的第1電極膜和第2電極膜，由于上述電極的第1電極膜和上述第2電極膜的各終端位置不同，上述第2部分的膜厚可以比上述第1部分的膜厚薄。
由此，上述終端部與上述第1部分相比，上述疊層數(shù)減少；與上述第1部分相比，膜厚減薄。
另外，上述第1電極膜在上述基板上形成，上述第2電極膜在上述第1電極膜的上層形成，上述第1電極膜的終端位置可以在距上述第2電極膜的終端位置一個(gè)規(guī)定長(zhǎng)度的延長(zhǎng)了的位置上。
由此，第1電極膜的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度比第2電極膜的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度要長(zhǎng)。
另外，上述第1電極膜在上述基板上形成，上述第2電極膜在上述第1電極膜的上層形成，上述第2電極膜的終端位置可以在距上述第1電極膜的終端位置一個(gè)規(guī)定長(zhǎng)度的延長(zhǎng)了的位置上。
由此，第2電極膜的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度比第1電極膜的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度要長(zhǎng)。
另外，上述第2電極膜可包含Ag、Cu、Al中的至少一種。
由此，可謀求上述電極的導(dǎo)電性的提高。
另外，上述第1電極膜包含Ag、Cu、Al、黑色顏料、氧化釕或釕的復(fù)合化合物中的至少一種，可以是黑色或灰色的。
由此，當(dāng)從與配置了上述基板的上述電極一側(cè)相反的一側(cè)目視時(shí)，上述電極的顏色被看作黑色或灰色。
另外，本發(fā)明的PDP是配備有對(duì)導(dǎo)電材料進(jìn)行燒結(jié)而形成的排列了多個(gè)電極的基板的等離子體顯示面板，其特征在于上述電極的各列的終端部被局部地拓寬，在該拓寬部分至少有1個(gè)凹部或貫通孔。
由此，在上述拓寬部分中，以上述凹部或上述貫通孔為界，上述電極的長(zhǎng)邊方向的終端部一側(cè)難以受到存在于其相反一側(cè)的部分的應(yīng)力的影響。
也就是說，在上述電極中，在具有根據(jù)上述電極的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度而起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，終端部一側(cè)的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度局部地縮短了，比起在上述相反一側(cè)產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力，可減少上述終端部一側(cè)的內(nèi)部應(yīng)力。
因此，該內(nèi)部應(yīng)力是在上述電極焙燒后發(fā)生的、成為電極剝離的原因的剪應(yīng)力，由于降低了在上述終端部一側(cè)產(chǎn)生的應(yīng)力，所以抑制了上述剝離的發(fā)生。
另外，上述凹部或上述貫通孔的至少1個(gè)可位于上述列中的上述拓寬部分以外的主要部分的長(zhǎng)邊方向延長(zhǎng)線上。
由此，在上述拓寬部分中，以上述凹部或上述貫通孔為界，上述電極的長(zhǎng)邊方向的終端部一側(cè)難以受到存在于其相反一側(cè)的部分的應(yīng)力的影響。
另外，本發(fā)明的等離子體顯示裝置的特征在于，它由上述某一種等離子體顯示面板和驅(qū)動(dòng)電路構(gòu)成。
在上述電極中，在根據(jù)上述膜厚而產(chǎn)生的具有沿上述電極的長(zhǎng)邊方向起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，由此，在第2部分中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力可比在上述第2膜厚中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力減少。
也就是說，該內(nèi)部應(yīng)力是在上述電極焙燒后發(fā)生的、成為電極剝離的原因的剪應(yīng)力，由于降低了在上述第2部分產(chǎn)生的應(yīng)力，所以抑制了第2部分中的剝離的發(fā)生，可謀求等離子體顯示裝置的品質(zhì)提高。
另外，本發(fā)明的等離子體顯示面板的制造方法是有基板的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于具有在上述基板上跨越顯示區(qū)域和顯示區(qū)域以外的區(qū)域形成多列導(dǎo)電材料的形成步驟；以及對(duì)所形成的上述導(dǎo)電材料進(jìn)行焙燒而生成電極的焙燒步驟，焙燒后的上述電極具有屬于上述基板的顯示區(qū)域內(nèi)的第1區(qū)域；以及屬于上述基板的顯示區(qū)域以外，其膜厚比該電極的第1區(qū)域的膜厚薄的第2區(qū)域。
在上述焙燒步驟中，在上述電極內(nèi)部，在根據(jù)上述膜厚而產(chǎn)生的具有沿上述電極的長(zhǎng)邊方向起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，由此，在第2部分中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力可比在上述第2膜厚中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力減少。
也就是說，該內(nèi)部應(yīng)力是在焙燒后的、成為該電極剝離的原因的剪應(yīng)力，由于降低了在上述第2部分產(chǎn)生的應(yīng)力，所以抑制了第2部分中的剝離的發(fā)生。
另外，上述顯示區(qū)域可以是形成放電空間的單元存在的區(qū)域。
由此，第2部分的上述電極的膜厚比存在上述單元的區(qū)域中的上述電極的膜厚要薄。
與此同時(shí)，第2部分的電極的電阻值有比在單元周邊存在的上述電極的電阻值增大的趨勢(shì)，但由于存在上述單元的區(qū)域占據(jù)了上述電極的大部分，所以作為上述電極總體的電阻值的增加也是輕微的。
而且，在存在單元的區(qū)域，出于提高亮度的要求，不得不收窄上述電極的寬度，因此，膜厚的減薄直接影響到電阻值的增大，但在不存在單元的區(qū)域，即第2部分所屬的區(qū)域，由于也可擴(kuò)展上述電極的寬度，所以膜厚的減薄難以直接影響電阻值的增大，因減薄膜厚而產(chǎn)生的缺點(diǎn)減少了。
另外，焙燒后的上述電極的上述第2區(qū)域中的膜厚可在5μm以下。
按照上述膜厚，產(chǎn)生沿上述電極的長(zhǎng)邊方向起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，由此可在第2部分中使該內(nèi)部應(yīng)力的值為該膜厚相應(yīng)于5μm的應(yīng)力的值以下。
也就是說，如果在第2部分中包含電極剝離的發(fā)生范圍，則當(dāng)上述電極的膜厚為5μm以下時(shí)，由于難以發(fā)生在形成上述電極的焙燒工序中使電極剝離發(fā)生那種程度的應(yīng)力，所以這種電極剝離的發(fā)生減少了。
另外，在上述形成步驟中，可進(jìn)行上述調(diào)整，使得上述焙燒后的上述電極的第2區(qū)域有從該電極的終端部的前端到長(zhǎng)邊方向至少10μm的范圍。
由此，在因膜厚的減少引起內(nèi)部應(yīng)力減少的同時(shí)，電阻值增加的范圍被限定于上述10μm的范圍。
也就是說，由于上述電阻值的增加發(fā)生的范圍是微小的，所以在將電阻值的增加抑制到可以忽視的程度的同時(shí)，避免了電極剝離的發(fā)生。
另外，在上述形成步驟中，在上述第1區(qū)域中，將上述導(dǎo)電材料層疊第1層和第2層的至少2層以進(jìn)行上述形成，在上述第2區(qū)域中，可形成上述第1層和上述第2層中的某一層。
由此，上述終端部與上述第1部分相比，上述疊層數(shù)減少；與上述第1部分相比，膜厚減薄。
另外，上述層疊可用印刷進(jìn)行，在上述第2區(qū)域中，可印刷第1層和第2層中的某一層。
由此，上述第2區(qū)域的薄膜化容易進(jìn)行。
另外，在上述形成步驟中，將上述導(dǎo)電材料層疊第1層和第2層的至少2層以進(jìn)行上述形成，上述層疊可使上述第2區(qū)域中的第1層或第2層的涂敷量比上述第1區(qū)域中的涂敷量減少并通過印刷進(jìn)行。
由此，上述第2區(qū)域的薄膜化容易進(jìn)行。
另外，上述減少在上述第1區(qū)域中的涂敷通過采用第1網(wǎng)孔進(jìn)行，在上述第2區(qū)域中的涂敷通過采用比第1網(wǎng)孔的開口率小的第2網(wǎng)孔進(jìn)行。
由此，對(duì)上述第2區(qū)域的涂敷量的減少容易進(jìn)行。
另外，上述減少在上述第1區(qū)域中的涂敷通過采用第1網(wǎng)孔進(jìn)行，在上述第2區(qū)域中的涂敷通過采用對(duì)第1網(wǎng)孔進(jìn)行了砑光處理而得到的網(wǎng)孔進(jìn)行。
由此，對(duì)上述第2區(qū)域的涂敷量的減少容易進(jìn)行。
另外，上述導(dǎo)電材料是與感光材料混合在一起的混合物，在上述形成步驟中，通過印刷涂敷上述混合物或涂敷層疊了上述混合物的薄片，可將上述混合物在上述基板上至少層疊2層，在進(jìn)行了上述第2區(qū)域內(nèi)所包含的上述疊層的部分中，使用其色調(diào)寬度在曝光分辨率以下的曝光掩模進(jìn)行了曝光后，通過顯影，可進(jìn)行上述形成。
由此，上述第2區(qū)域的薄膜化容易進(jìn)行。
另外，本發(fā)明的等離子體顯示面板的制造方法是有基板的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于，具有下述步驟形成多列導(dǎo)電材料的形成步驟，其中1列導(dǎo)電材料在上述基板上跨越顯示區(qū)域和該顯示區(qū)域以外的區(qū)域，其終端部被局部拓寬，該拓寬部分至少具有1個(gè)凹部或貫通孔；以及焙燒步驟，用來焙燒所形成的上述導(dǎo)電材料，生成電極。
由此，在上述拓寬部分中，以上述凹部或上述貫通孔為界，上述電極的長(zhǎng)邊方向中的終端部一側(cè)變得難以受到存在于其相反一側(cè)的部分的應(yīng)力的影響。
也就是說，在上述電極中，在具有按照上述電極的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度而起作用的內(nèi)部應(yīng)力時(shí)，通過局部縮短終端部一側(cè)的長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度，上述終端部一側(cè)的內(nèi)部應(yīng)力可比上述相反一側(cè)所產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力減少。
因此，該內(nèi)部應(yīng)力是在上述電極焙燒后發(fā)生的、成為電極剝離的原因的剪應(yīng)力，由于降低了在上述終端部一側(cè)產(chǎn)生的應(yīng)力，所以抑制了上述剝離的發(fā)生。
另外，上述凹部或上述貫通孔的至少1個(gè)可位于上述列中的上述拓寬部分以外的主要部分的長(zhǎng)邊方向延長(zhǎng)線上。
由此，在上述拓寬部分中，以上述凹部或上述貫通孔為界，上述電極的長(zhǎng)邊方向中的終端部一側(cè)變得更難受到存在于其相反一側(cè)的部分的應(yīng)力的影響。
附圖的詳細(xì)說明圖1是示出一般的交流型(AC型)PDP的一例的概略圖。
圖2是示出現(xiàn)有的多層電極的制造方法的一例的圖。
圖3是示出電極剝離的狀況的概略圖。
圖4是本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的PDP的概略圖。
圖5是示出多層電極的終端部附近的形狀的概略圖。
圖6是示出等離子體顯示裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
圖7是說明多層電極的生成方法的圖。
圖8是示出顯影后多層電極的膜厚與電極剝離的發(fā)生頻度的關(guān)系的圖。
圖9是示出現(xiàn)有的多層電極與正面玻璃基板的接觸面內(nèi)所產(chǎn)生的應(yīng)力的圖。
圖10是說明第1實(shí)施形態(tài)中的多層電極的終端部中在焙燒后發(fā)生的內(nèi)部應(yīng)力的圖。
圖11是說明本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)中的PDP的多層電極的生成方法的圖。
圖12是說明本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)中的PDP的多層電極的生成方法的圖。
圖13是示出對(duì)感光材料進(jìn)行半色調(diào)曝光時(shí)的半色調(diào)掩模的圖形與顯影后的膜厚的關(guān)系的圖。
圖14是說明本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的PDP的多層電極的生成方法的圖。
圖15是說明本發(fā)明的第5實(shí)施形態(tài)中的PDP的多層電極的生成方法的圖。
圖16是說明本發(fā)明的第6實(shí)施形態(tài)中的PDP的多層電極的生成方法的圖。
用于實(shí)施發(fā)明的優(yōu)選形態(tài)[第1實(shí)施形態(tài)]<結(jié)構(gòu)>
圖4是本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的PDP400的概略圖。
PDP400由其主面互相相向配置的正面板390和背面板391構(gòu)成。
圖中，z方向相當(dāng)于PDP的厚度方向，xy平面相當(dāng)于與PDP面平行的平面。
正面板390由正面玻璃基板401、顯示電極402、電介質(zhì)層406和保護(hù)層407構(gòu)成。
正面玻璃基板401是構(gòu)成正面板390的基底的材料，在該正面玻璃基板401上形成顯示電極402。
顯示電極402由透明電極403、黑色電極膜404和總線電極405構(gòu)成。
透明電極403是在正面玻璃基板401的一個(gè)面上以x方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向，將ITO、SnO2、ZnO等的導(dǎo)電性金屬氧化物形成為多個(gè)列狀的電極。
這里，當(dāng)著眼于1個(gè)單元時(shí)，橫截該單元的顯示電極402存在2個(gè)，其一方稱為X電極，另一方稱為Y電極，這些電極交互排列。
黑色電極膜404是將以氧化釕為主成分的材料涂敷在上述透明電極403上，其寬度比該透明電極403窄，層疊在透明電極403上而形成的電極膜。
總線電極405是將含Ag的導(dǎo)電材料層疊在黑色電極膜404上的電極。
本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的PDP400并不制作成使黑色電極膜404的形成范圍與總線電極405的形成范圍一致，與現(xiàn)有的PDP100的不同點(diǎn)在于，制作成使得這些形成范圍在這些長(zhǎng)邊方向的終端部互不相同。
這里，為了方便起見，將黑色電極膜404與總線電極405合起來稱為多層電極409。
以下，詳細(xì)說明該多層電極409。
該多層電極409在長(zhǎng)邊方向的一端有電極的寬度被局部擴(kuò)大了的矩形的端子部408，作為與后述的驅(qū)動(dòng)電路419連接的接口。
圖5是示出多層電極409的終端部附近的形狀的概略圖。
在本圖中，著眼于鄰接的2條多層電極409，為了說明的方便，將跟前的多層電極稱為多層電極409a，將另一方的多層電極稱為多層電極409b。
另外，多層電極409a由黑色電極膜404a和總線電極405a構(gòu)成，具有作為用于與驅(qū)動(dòng)電路419連接的接口的端子部408a。
進(jìn)而，透明電極403a與多層電極409a一起，形成向各單元供電的路徑。
多層電極409b與多層電極409a有同樣的結(jié)構(gòu)，其方向相互反向地排列。
圖5中所示的多層電極409b是對(duì)應(yīng)于與多層電極409a的圖示部分相反一側(cè)的終端部的部位。
更具體地說，多層電極409b有黑色電極膜404b和總線電極405b，還有作為用于與后述的驅(qū)動(dòng)電路419連接的接口的未圖示的端子部408b。
進(jìn)而，透明電極403a與多層電極409a一起，形成向各單元供電的路徑。
在多層電極409a的長(zhǎng)邊方向的終端部即端子部408a的前端部，在黑色電極膜404a的終端位置的更前面，有總線電極405的終端位置，因此，有僅用黑色電極膜404a構(gòu)成的膜厚為5μm以下的薄層部420。
另外，在作為多層電極409b的長(zhǎng)邊方向的終端部(沒有端子部408b的一側(cè))的前端部，在黑色電極膜404b的終端位置的更前面，有總線電極405的終端位置，因此，有僅用黑色電極膜404b構(gòu)成的膜厚為5μm以下的薄層部421。
這樣的薄層部存在于整個(gè)多層電極的兩端。
電介質(zhì)層406是由覆蓋形成了正面玻璃基板401的顯示電極的整個(gè)表面的電介質(zhì)構(gòu)成的層，一般地說，可使用鉛系低熔點(diǎn)玻璃，但也可用鉍系低熔點(diǎn)玻璃或鉛系低熔點(diǎn)玻璃與鉍系低熔點(diǎn)玻璃的層疊物形成。
保護(hù)層407是由氧化鎂(MgO)構(gòu)成的薄層，覆蓋了電介質(zhì)層406的整個(gè)表面。
背面板391由背面玻璃基板411、地址電極412、電介質(zhì)層413、間壁414和層疊在用鄰接的間壁414之間的間隙形成的間壁溝槽的壁面上的熒光體層415構(gòu)成。
背面玻璃基板411是構(gòu)成背面板391的基底的材料，在該背面玻璃基板411上生成地址電極412。
地址電極412是金屬電極(例如，銀電極或Cr-Cu-Cr電極)，是在背面玻璃基板411的一個(gè)面上，以y方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向，將含Ag的導(dǎo)電材料形成為多個(gè)列狀的電極。
該地址電極412的厚度通常為5μm以下。
電介質(zhì)層413是以覆蓋形成了地址電極412一側(cè)的背面玻璃基板411的整個(gè)面的方式形成的由電介質(zhì)構(gòu)成的層，一般地說，可使用鉛系低熔點(diǎn)玻璃，但也可用鉍系低熔點(diǎn)玻璃或鉛系低熔點(diǎn)玻璃與鉍系低熔點(diǎn)玻璃的層疊物形成。
另外，在該電介質(zhì)層413上，與鄰接的地址電極412的間隔一致地生成間壁414。
然后，在用鄰接的間壁414之間的間隙形成的間壁溝槽的壁面上形成與RGB的某一色對(duì)應(yīng)的熒光體層415。
更具體地說，該熒光體層415有由放電形成的紫外線發(fā)出紅、綠、藍(lán)的波長(zhǎng)各不相同的光的3種，按紅、綠、藍(lán)的熒光體的順序重復(fù)涂敷在間壁溝槽的內(nèi)壁上。
如圖4所示，正面板390和背面板391在重疊的狀態(tài)下被密封，在內(nèi)部形成放電空間416。
在放電空間416內(nèi)，以500～600乇(66.5～79.8kPa)左右的壓力封入由He、Xe、Ne等稀有氣體成分構(gòu)成的放電氣體(封入氣體)。
相鄰的一對(duì)顯示電極402和1條地址電極412夾持放電空間而交叉的區(qū)域構(gòu)成對(duì)圖像顯示有貢獻(xiàn)的單元。
如圖6所示，由PDP400和驅(qū)動(dòng)電路419構(gòu)成等離子體顯示裝置500，在該等離子體顯示裝置500中，在欲使之點(diǎn)亮的單元的X電極與地址電極412之間施加電壓、進(jìn)行地址放電后，通過對(duì)相鄰的2個(gè)顯示電極402的組施加脈沖電壓以進(jìn)行維持放電。
該維持放電發(fā)生紫外線(波長(zhǎng)約147nm)，通過將所發(fā)生的紫外線照射到熒光體層415上，該紫外線被變換為可見光，通過將單元點(diǎn)亮來顯示圖像。
<PDP的制造方法>
如上所述，PDP400通過將正面板390與背面板391重合在一起進(jìn)行密封，再在其間充填放電氣體而制成。
以下，說明正面板390的制造方法。
在本發(fā)明的氣體放電顯示面板的制造方法中，采用蒸鍍法或?yàn)R射法等熟知技術(shù)，在由厚度約2.8mm的鈉玻璃構(gòu)成的正面玻璃基板401的表面上，通過將厚度約1400埃的ITO(氧化銦錫)或SnO2等的導(dǎo)電體材料平行地生成多個(gè)列，形成透明電極403。
進(jìn)而，采用絲網(wǎng)印刷法或光刻法等熟知技術(shù)，形成跨越該透明電極403和正面玻璃基板401、由以氧化釕為主成分的黑色電極膜404的前體(以下，稱為“黑色電極膜前體404z”)和Ag構(gòu)成的總線電極405的前體(以下，稱為“總線電極前體405z”)，即形成多層電極409的前體(以下，稱為“多層電極前體409z”)。
這時(shí)，本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的多層電極前體409z在其終端部不形成黑色電極膜前體404z，僅形成總線電極前體405z。
如此形成的正面玻璃基板401按照其峰值溫度被設(shè)定在550～600℃(最好為580～600℃)的溫度分布進(jìn)行焙燒，從而對(duì)多層電極前體409z進(jìn)行燒結(jié)，生成黑色電極膜404和總線電極405。
再有，這些黑色電極膜404和總線電極405與已形成的透明電極403一起構(gòu)成顯示電極402。
<多層電極的生成方法>
圖7是說明上述多層電極409的生成方法的圖。
再有，由于多層電極409存在多個(gè)列，這里，舉圖5的E部中的多層電極409的生成為例進(jìn)行說明。
首先，采用絲網(wǎng)印刷法將包含氧化釕粒子的黑色負(fù)型感光膏702a涂敷在正面玻璃基板401上，在從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，利用在該溫度下保持恒定時(shí)間的具有溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，從而溶劑等從上述負(fù)型感光膏702a中揮發(fā)，形成黑色電極膜前體702b(圖7(a))。
這時(shí)，在上述印刷范圍內(nèi)，不包含相當(dāng)于上述薄層部421的范圍。
其次，采用絲網(wǎng)印刷法將包含Ag粒子的負(fù)型感光膏703a涂敷在黑色電極膜前體702b和正面玻璃基板401上，利用具有上述溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，形成了溶劑等從感光膏703a中減少的總線電極前體703b(圖7(b))。
這時(shí)，在上述印刷范圍內(nèi)，包含相當(dāng)于上述薄層部421的范圍，薄層部421的x軸方向的長(zhǎng)度L為10μm以上。
接著，在總線電極前體703b上配置曝光掩模705，如從其上用紫外線704進(jìn)行曝光，則從總線電極前體703b的膜表面向位于其下層的黑色電極膜前體702b進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而聚合，發(fā)生高分子化，形成曝光部706和非曝光部707(圖7(c))。
再有，這時(shí)的曝光條件是照度5～20mW/cm2，累計(jì)光量100600mJ/cm2，掩模與基板的距離(以下，稱為“接近量”)50～250μm。
接著，當(dāng)在含0.3～0.5重量％的碳酸鈉的顯影液中進(jìn)行顯影時(shí)，非曝光部707被除去，上述曝光部706，即多層電極409b的前體(以下，稱為“多層電極前體409d”)被保留(圖7(d))。
接著，當(dāng)用峰值溫度為550～600℃(最好為580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行焙燒時(shí)，顯影后殘留的多層電極前體409d中的樹脂成分等在燒掉的同時(shí)揮發(fā)，玻璃料熔融，導(dǎo)電材料被燒結(jié)，生成多層電極409b(圖7(e))。
再有，伴隨該燒結(jié)，該多層電極409b的視在體積收縮，線寬、膜厚減少。
這時(shí)，薄層部421中的膜厚708在5μm以下。
另外，例如，為了進(jìn)一步降低多層電極409b的電阻值，在多層電極409b和正面玻璃基板401上印刷與感光膏703a同樣的材料，采用與從上述圖7(b)至(e)同樣的方法層疊的結(jié)果是，在所生成的新的多層電極710中(圖7(f))，薄層部421中焙燒后的膜厚709可不超過5μm。
這樣，在生成了黑色電極膜404和總線電極405的正面玻璃基板401的面上用印刷法等熟知技術(shù)形成電介質(zhì)層406的前體(以下，稱為“電介質(zhì)層前體406a”)。
通過對(duì)該電介質(zhì)前體406a進(jìn)行燒結(jié)，生成電介質(zhì)層406。
再在其上用濺射法等熟知技術(shù)生成保護(hù)層407。
如上所述，本發(fā)明的PDP的制造方法在多層電極前體409z形成時(shí)，在其終端部未層疊黑色電極膜前體404z，僅層疊總線電極前體405z，在焙燒多層電極前體409z后得到的多層電極409的終端部，與以往的不同點(diǎn)是具有膜厚為5μm以下的薄層部。
以下，說明背面板391的制造方法。
本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的背面板391是用與以往同樣的制造方法制成的面板，采用絲網(wǎng)印刷法在由厚度約為2.6mm的鈉玻璃構(gòu)成的背面玻璃基板411的表面上，通過將以Ag為主成分的導(dǎo)電材料按恒定間隔涂敷成條形，形成了膜厚為1～5μm以下的地址電極412的前體(以下，稱為“地址電極前體412a”)。
通過將該地址電極前體412a進(jìn)行燒結(jié)，生成地址電極412。
再有，為了以所制作的PDP為40英寸級(jí)的高清晰電視機(jī)，將相鄰2條地址電極412的間隔設(shè)定為約0.36mm以下。
接著，在形成了地址電極412的背面玻璃基板411的整個(gè)面上，通過涂敷鉛系玻璃膏，將該背面玻璃基板411置于定位器上進(jìn)行焙燒，生成厚度約為20～30μm的電介質(zhì)層113。
進(jìn)而，通過采用小片涂敷的鍍膜方法，以鉛系玻璃為主成分，在電介質(zhì)層113上涂敷形成添加了氧化鋁粉末作為填料的膏狀間壁材料，用噴砂法僅削除掉除了目標(biāo)形狀區(qū)域以外的區(qū)域，形成間壁414的前體(以下，稱為“間壁前體414a”)，通過焙燒該間壁前體414a，生成高度約為100～150μm的間壁414。
再有，間壁414的間隔大致為0.36mm左右。
接著，在與間壁414的壁面鄰接的間壁414之間露出的電介質(zhì)層413的表面上，涂敷包含紅色(R)熒光體、綠色(G)熒光體、藍(lán)色(B)熒光體中的某一種的熒光體油墨。
所涂敷的各色熒光體油墨在干燥后通過進(jìn)行焙燒，形成各色熒光體層415。
再有，作為構(gòu)成熒光體層415的熒光體材料，在這里采用了下述材料紅色熒光體(YXGd1-X)BO3:Eu綠色熒光體Zn2SiO4:Mn藍(lán)色熒光體BaMgAl10O17Eu3+如上所述，在制成正面板390和背面板391后，采用熟知的PDP的制造技術(shù)將正面板390與背面板391貼合并密封，排出內(nèi)部的雜質(zhì)氣體，充填放電氣體，制成PDP400。
本發(fā)明的PDP的制造方法是涉及正面板390的制造方法，特別是涉及多層電極409的生成方法，正面板390與背面板391的貼合以后的制造方法的說明則予以省略。
這里，說明在多層電極409的兩端設(shè)置薄層部的理由。
<薄層部的效果>
發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)如8所示，在顯影后的多層電極前體的膜厚為10μm以上的狀態(tài)下進(jìn)行焙燒，焙燒結(jié)果所得到的多層電極的膜厚超過5μm時(shí)，電極剝離頻繁地發(fā)生，而焙燒后的多層電極的膜厚為5μm以下時(shí)，電極剝離的發(fā)生頻度降低。
這被認(rèn)為是在焙燒后的多層電極的膜厚為5μm以下時(shí)，電極剝離容易發(fā)生的上述終端部的接觸面上的剪應(yīng)力的值為每單位面積的粘附強(qiáng)度以下的緣故。
因此，也認(rèn)為焙燒后的多層電極的膜厚總體上為5μm以下，但如在總體上減薄焙燒后的多層電極的膜厚，則由于多層電極的電阻值增高，產(chǎn)生了作為等離子體顯示裝置而投入的電力增多的新的問題。
特別是，位于單元存在的區(qū)域(以下，稱為“顯示區(qū)域”)上的多層電極在單元點(diǎn)亮?xí)r，由于必須盡量收窄電極寬度，以便不妨礙向正面板390的正面一側(cè)的光的進(jìn)行，所以膜厚的減少直接影響到電阻值的增加。
也就是說，在上述顯示區(qū)域，使多層電極的膜厚在5μm以下是極其困難的。
因此，發(fā)明人等進(jìn)一步進(jìn)行了銳意研討，發(fā)現(xiàn)上述剪應(yīng)力的值局部增大的范圍在x軸方向?yàn)榫嘟K端部的前端10μm左右。
因此，在多層電極的終端部，如在x軸方向上的至少上述范圍內(nèi)使膜厚在5μm以下，則可減少電極剝離。
基于以上理由，在多層電極的兩端，假定有膜厚為5μm以下的薄層部，由此可在維持電極的低電阻值的同時(shí)，減少電極剝離的發(fā)生。
<內(nèi)部應(yīng)力的發(fā)生狀況>
(現(xiàn)有的多層電極中的應(yīng)力)以下，通過在多層電極上設(shè)置薄層部，說明多層電極中發(fā)生的應(yīng)力變得如何。
圖9是示出現(xiàn)有的PDP100中的正面玻璃基板401與多層電極309b的接觸面內(nèi)所產(chǎn)生的應(yīng)力。
多層電極309b作為距其終端部的代表點(diǎn)，可著眼于A0點(diǎn)、A1點(diǎn)和A2點(diǎn)進(jìn)行說明，作為其終端部周邊的代表點(diǎn)，可著眼于B0點(diǎn)、B1點(diǎn)和B2點(diǎn)進(jìn)行說明。
以下，對(duì)各點(diǎn)處生成的應(yīng)力進(jìn)行說明。
在A0點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力210x。
另外，在A1點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力211x，在y軸上側(cè)方向生成剪應(yīng)力211y。
而且，在A2點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力212x，在y軸下側(cè)方向生成剪應(yīng)力212y。
在B0點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力220x。
另外，在B1點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力221x，在y軸上側(cè)方向生成剪應(yīng)力221y。
而且，在B2點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力222x，在y軸下側(cè)方向生成剪應(yīng)力222y。
在這些應(yīng)力之中，其值大者是剪應(yīng)力220x、剪應(yīng)力221x和剪應(yīng)力222x，即終端部的x軸方向的剪應(yīng)力。
以下，這樣說明在終端部x軸方向的剪應(yīng)力變大的理由。
首先，僅著眼于x軸方向的收縮。
例如，將多層電極309b的前體區(qū)分為上層和下層2層時(shí)，由于與正面玻璃基板401粘結(jié)的下層受到在x軸方向收縮時(shí)與從接觸面收縮相反的反作用力的作用，在該收縮受抑制的同時(shí)，生成x軸方向的內(nèi)部應(yīng)力。
另一方面，由于上表面敞開的上層比起下層難以生成妨礙收縮的力，所以與下層相比，收縮顯著。
這時(shí)，如欲使上層收縮，當(dāng)然在妨礙從下層收縮的方向受到反作用力的作用，在上層盡管比不了下層，但也生成了x軸方向的內(nèi)部應(yīng)力。
因此，在下層，x軸方向的內(nèi)部應(yīng)力很大。
可是，多層電極309b的前體中的y軸方向的寬度為100μm左右，而在端子部108，也為500μm左右。
與此相對(duì)照，多層電極309b的前體中的x軸方向的長(zhǎng)度例如在42英寸級(jí)的PDP中也有900mm。
因此，即使各方向上的收縮率相同，x軸方向的收縮量也遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于在其它任何方向上的收縮量。
這樣的x軸方向的收縮并不在位置上分散地發(fā)生，容易偏向于其x軸方向的一端敞開的多層電極309b的終端部發(fā)生。
這時(shí)，由于上層與下層的收縮量之差在多層電極309b的終端部比其它部位為大，所以x軸方向的剪應(yīng)力有大的值。
也就是說，認(rèn)為招致電極剝離的主要原因是終端部的x軸方向的剪應(yīng)力。
可是，在實(shí)際上，由于多層電極309b的前體也在y軸方向和z軸方向收縮，所以對(duì)這些方向的收縮分別進(jìn)行說明。
當(dāng)多層電極309b的前體在y軸方向收縮時(shí)，由于多層電極309b的前體中的y軸方向的寬度為100μm左右，而在端子部108也為500μm左右，所以y軸方向的收縮量減小，y軸方向的剪應(yīng)力也比x軸方向的剪應(yīng)力小。
另外，關(guān)于多層電極309b中的z軸方向的收縮，妨礙在z軸方向收縮的力不起作用，z軸方向的剪應(yīng)力幾乎不發(fā)生。
因此，多層電極309b中的z軸方向的剪應(yīng)力不成其為電極剝離的問題。
(本發(fā)明的多層電極中的應(yīng)力)圖10是說明在圖5的多層電極409b的E部中在焙燒后所發(fā)生的內(nèi)部應(yīng)力的圖。
這里，在多層電極409b與正面玻璃基板401的接觸面內(nèi)，作為代表遠(yuǎn)離其終端部附近的范圍的點(diǎn)，著眼于C0點(diǎn)、C1點(diǎn)和C2點(diǎn)進(jìn)行說明，作為代表其終端部附近的范圍的點(diǎn)，著眼于D0點(diǎn)、D1點(diǎn)和D2點(diǎn)進(jìn)行說明。
以下，對(duì)各點(diǎn)處生成的應(yīng)力進(jìn)行說明。
在C0點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力510x。
另外，在C1點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力511x，在y軸上側(cè)方向生成剪應(yīng)力511y。
而且，在C2點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力512x，在y軸下側(cè)方向生成剪應(yīng)力512y。
在D0點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力520x。
另外，在D1點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力521x，在y軸上側(cè)方向生成剪應(yīng)力521y。
而且，在D2點(diǎn)，在x軸左側(cè)方向生成剪應(yīng)力522x，在y軸下側(cè)方向生成剪應(yīng)力522y。
上述剪應(yīng)力520x、剪應(yīng)力521x和剪應(yīng)力522x的值是比現(xiàn)有的多層電極的終端部中的x軸方向的剪應(yīng)力，即剪應(yīng)力220x、剪應(yīng)力221x和剪應(yīng)力222x小的值。
這是由于多層電極409b的終端部即薄層部421的膜厚在5μm以下，薄層部的yz平面內(nèi)的截面積比以往減小，在該薄層部421中的上層起作用的、在x軸的左方向收縮的力比以往減小的緣故。
因此，在薄層部421中，粘附強(qiáng)度以上的剪應(yīng)力不至發(fā)生，從而電極剝離難以發(fā)生。
反之，多層電極409b的終端部的膜厚越厚，yz平面內(nèi)的截面積就越大，在x軸的左方向收縮的力就越增大，從而生成粘附強(qiáng)度以上的剪應(yīng)力。
如上所述，在本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的PDP的制造方法中，在距多層電極409的終端部的前端10μm的范圍內(nèi)，由于有膜厚為5μm以下的薄層部，該終端部中的剪應(yīng)力減少，從而可避免電極剝離的發(fā)生。
再有，在本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)中的PDP400的制造方法中，雖然用絲網(wǎng)印刷法在正面玻璃基板401上涂敷負(fù)型感光膏702a，但不限于此，作為絲網(wǎng)印刷法的替代方法，即使是采取使用膜材料作為感光材料進(jìn)行涂敷的層疊法的情況，如確保作為上述薄層部的形狀，則可得到同樣的效果。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，感光膏702a和感光膏703a雖然為負(fù)型，但并不僅限于此。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，據(jù)記載，雖然感光膏702a和感光膏703a的成分互不相同，但也可以是由同一成分構(gòu)成的膏。
另外，感光膏702a雖然包含氧化釕，但不限于此。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，配置了多層電極409的正面玻璃基板401如不是鈉玻璃亦可，但至少是在焙燒溫度下要有耐熱性，而且具有規(guī)定的透明度的材料亦可。
另外，在玻璃等基板上也可預(yù)先形成透明電極等。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，印刷后的干燥用IR爐從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，在該溫度下保持恒定時(shí)間，但不限定于此，也可用IR爐以外的設(shè)備進(jìn)行干燥，還可在超出上述溫度范圍的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行干燥。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，曝光條件為照度5～20mW/cm2，累計(jì)光量100～600mJ/cm2，接近量50～250μm，但不限定于此值。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，用含0.3～0.5重量％碳酸鈉的顯影液進(jìn)行顯影，但不限定于此值。
另外，在第1實(shí)施形態(tài)中，用峰值溫度為550～600℃(最好是580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行多層電極409的焙燒，但不限定于該溫度范圍，另外，所使用的設(shè)備也不限定于帶式連續(xù)焙燒爐。
本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)中的PDP800由于只是多層電極的形成方法與PDP400不同，所以對(duì)與PDP400共同的內(nèi)容就不進(jìn)行說明了，以下，僅說明作為不同點(diǎn)的多層電極的形成方法。
<多層電極的形成方法>
圖11是說明本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)中的PDP800的多層電極的生成方法的圖。
這里，為了方便起見，圖5的E部用本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)中的多層電極的形成方法作為形成多層電極409b的方法加以說明。
首先，通過用絲網(wǎng)印刷法在正面玻璃基板401上涂敷含氧化釕粒子的黑色負(fù)型感光膏802a，從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，利用在該溫度下保持恒定時(shí)間的具有溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，溶劑等從上述負(fù)型感光膏802a中揮發(fā)，形成黑色電極膜前體802b(圖11(a))。
這時(shí)，在上述印刷范圍內(nèi)，包含相當(dāng)于薄層部421的范圍。
其次，用絲網(wǎng)印刷法在黑色電極膜前體802b和正面玻璃基板401上涂敷含Ag粒子的負(fù)型感光膏803a，用具有上述溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，形成溶劑等從感光膏803a中減少的總線電極前體803b(圖11(b))。
這時(shí)，在感光膏803a的印刷范圍內(nèi)，包含相當(dāng)于上述薄層部421的范圍。
接著，如在總線電極前體803b上配置曝光掩模805，并用紫外線804從其上曝光，則從總線電極前體803b的膜表面進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而聚合，發(fā)生高分子化，形成曝光部806和非曝光部807(圖11(c))。
再有，這時(shí)的曝光條件與第1實(shí)施形態(tài)中的曝光條件是一樣的。
接著，在總線電極前體803b和正面玻璃基板401上，在除了與薄層部421對(duì)應(yīng)的范圍F的范圍內(nèi)，用絲網(wǎng)印刷法涂敷含Ag粒子的負(fù)型感光膏808a，用具有上述溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，形成溶劑等從感光膏808a中減少的總線電極前體808b(圖11(d))。
接著，如在總線電極前體808b上配置曝光掩模809，并用紫外線804從其上曝光，則從總線電極前體808b的膜表面進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而聚合，發(fā)生高分子化，形成曝光部810和非曝光部811(圖11(e))。
再有，這時(shí)的曝光條件與圖11(c)中的曝光條件有相同的內(nèi)容。
接著，當(dāng)在含0.3～0.5重量％的碳酸鈉的顯影液中進(jìn)行顯影時(shí)，通過除去非曝光部807和非曝光部811，剩下的部分，即被構(gòu)圖的部分形成多層電極前體812(圖11(f))。
接著，當(dāng)用峰值溫度為550～600℃(最好為580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行焙燒時(shí)，多層電極前體812中的樹脂成分等在燒掉的同時(shí)揮發(fā)，玻璃料熔融，導(dǎo)電材料被燒結(jié)，生成多層電極813(圖11(g))。
再有，伴隨該燒結(jié)，該多層電極813的視在體積收縮，線寬、膜厚減少。
這時(shí)，薄層部421中的膜厚814在5μm以下。
如上所述，本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)中的PDP800的制造方法與第1實(shí)施形態(tài)的PDP的制造方法一樣，在多層電極的終端部可設(shè)置5μm以下的薄層部421，由此，在多層電極的終端部，由于所發(fā)生的x軸方向的剪應(yīng)力得到緩解，可避免焙燒時(shí)電極剝離的發(fā)生。
再有，在第2實(shí)施形態(tài)中，在圖11(c)的曝光工序之后，在與圖11(f)的顯影工序相同的條件下進(jìn)行顯影，進(jìn)而在與圖11(g)的焙燒工序相同的條件下進(jìn)行焙燒后，可經(jīng)圖11(d)以后的工序生成多層電極813。
另外，在圖11(d)的印刷工序中，感光膏808a的印刷范圍包含范圍F，在圖11(e)的曝光工序中，即使曝光掩模位于范圍F上，也可生成與上述同樣的多層電極813。
另外，在本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)中的PDP800的制造方法中，雖然用絲網(wǎng)印刷法在正面玻璃基板401上涂敷負(fù)型感光膏802a，但不限于此，作為絲網(wǎng)印刷法的替代方法，即使是采取使用膜材料作為感光材料進(jìn)行涂敷的層疊法的情況，如確保作為上述薄層部的形狀，則可生成與上述同樣的多層電極。
另外，在第2實(shí)施形態(tài)中，感光膏802a、感光膏803a和感光膏808a雖然為負(fù)型，但并不限定于此。
另外，在第2實(shí)施形態(tài)中，據(jù)記載，雖然感光膏803a和感光膏808a為同一成分，感光膏802a與它們的成分不同，但不限于此，例如也可完全由同一成分構(gòu)成。
另外，感光膏702a也不一定包含氧化釕和Ag。
另外，在第2實(shí)施形態(tài)中，印刷后的干燥用IR爐從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，在該溫度下保持恒定時(shí)間，但不限定于此，也可用IR爐以外的設(shè)備進(jìn)行干燥，還可在超出上述溫度范圍的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行干燥。
另外，在第2實(shí)施形態(tài)中，曝光條件為照度5～20mW/cm2，累計(jì)光量100～600mJ/cm2，接近量50～250μm，但不限定于此值。
另外，在第2實(shí)施形態(tài)中，用含0.3～0.5重量％碳酸鈉的顯影液進(jìn)行顯影，但不限定于此值。
另外，在第2實(shí)施形態(tài)中，用峰值溫度為550～600℃(最好是580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行多層電極409的焙燒，但不限定于該溫度范圍，另外，所使用的設(shè)備也不限定于帶式連續(xù)焙燒爐。
本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)中的PDP900由于只是多層電極的形成方法與PDP400不同，所以對(duì)與PDP400共同的內(nèi)容就不進(jìn)行說明了，以下，僅說明作為不同點(diǎn)的多層電極的形成方法。
<多層電極的形成方法>
圖12是說明本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)中的PDP900的多層電極的生成方法的圖。
這里，為了方便起見，圖5的E部用本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)中的多層電極的形成方法作為形成多層電極409b的方法加以說明。
首先，通過用絲網(wǎng)印刷法在正面玻璃基板401上涂敷含氧化釕粒子的黑色負(fù)型感光膏902a，從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，利用在該溫度下保持恒定時(shí)間的具有溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，溶劑等從上述負(fù)型感光膏902a中揮發(fā)，形成黑色電極膜前體902b(圖12(a))。
這時(shí)，在上述印刷范圍內(nèi)，包含相當(dāng)于薄層部421的范圍。
其次，用絲網(wǎng)印刷法在黑色電極膜前體902b和正面玻璃基板401上涂敷含Ag粒子的負(fù)型感光膏903a，用具有上述溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，形成溶劑等從感光膏903a中減少的總線電極前體903b(圖12(b))。
這時(shí)，在感光膏903a的印刷范圍內(nèi)，包含相當(dāng)于上述薄層部421的范圍。
接著，如在總線電極前體903b上配置曝光掩模905(它在與薄層部421對(duì)應(yīng)的范圍F內(nèi)，具有以10μm間隔的寬度為10μm的線形成的半色調(diào)部906)，并用紫外線904從其上曝光，則從總線電極前體903b的膜表面進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而聚合，發(fā)生高分子化，形成曝光部907和非曝光部908，同時(shí)通過了半色調(diào)部906的用紫外線904曝光的半曝光部909處于雖不像曝光部907那樣進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)但進(jìn)行弱交聯(lián)反應(yīng)的狀態(tài)(圖12(c))。
再有，這時(shí)的曝光條件為照度5～20mW/cm2，累計(jì)光量100600mJ/cm2，接近量50～250μm。
接著，當(dāng)在含0.3～0.5重量％的碳酸鈉的顯影液中進(jìn)行顯影時(shí)，除去非曝光部908，保留已被構(gòu)圖的多層電極前體910。
這時(shí)，在多層電極前體910的半曝光部909中，微小部分的未完全聚合的材料被除去，從而半曝光部909處于每單位體積內(nèi)存在的電極材料的密度低于曝光部907的狀態(tài)(圖12(d))。
接著，當(dāng)用峰值溫度為550～600℃(最好為580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行焙燒時(shí)，在顯影中殘留的多層電極前體910中的樹脂成分等在燒掉的同時(shí)揮發(fā)，玻璃料熔融，導(dǎo)電材料被燒結(jié)，生成多層電極911(圖12(e))。
再有，伴隨該燒結(jié)，該多層電極911的視在體積收縮，線寬、膜厚減少。
這時(shí)，密度低的半曝光部909的體積收縮，與薄層部421對(duì)應(yīng)的范圍F中的膜厚913在5μm以下。
這里，如上所述，說明可借助于進(jìn)行半色調(diào)曝光以減薄膜厚的理由。
曝光時(shí)的曝光掩模的線寬及其間隔對(duì)所形成的圖形的精密程度有影響，當(dāng)線寬大時(shí)，用與掩模一樣的圖形進(jìn)行曝光，但當(dāng)線寬減小時(shí)，超出了曝光靈敏度，交聯(lián)反應(yīng)變得極弱。
圖13是示出對(duì)感光膏902a和感光膏903a等感光材料以接近量100μm進(jìn)行半色調(diào)曝光時(shí)的半色調(diào)掩模的圖形(圖形的寬度＝間隔)與顯影后的膜厚的關(guān)系的圖。
線寬和間隔大時(shí)的區(qū)域是用與掩模一樣的圖形進(jìn)行曝光的區(qū)域，稱之為曝光區(qū)991。
另外，線寬和間隔小時(shí)的區(qū)域是幾乎不進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)的區(qū)域，稱之為未曝光區(qū)993。
在曝光區(qū)991與未曝光區(qū)993之間的區(qū)域是交聯(lián)反應(yīng)雖比曝光部弱但顯影并不完全的區(qū)域，稱之為半色調(diào)區(qū)992。
利用該半色調(diào)區(qū)992，即上述圖形的寬度和間隔均為10μm左右時(shí)進(jìn)行曝光的事實(shí)，由于顯影時(shí)多層電極前體被不完全顯影，所以膜厚減薄成為可能。
再有，為了實(shí)現(xiàn)這樣的半色調(diào)曝光，必須進(jìn)行在半色調(diào)掩模與感光膏之間設(shè)置間隙的接近式曝光。
如上所述，本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)中的PDP900的制造方法與第1和第2實(shí)施形態(tài)的PDP的制造方法一樣，在多層電極911的終端部可設(shè)置膜厚為5μm以下的薄層部421，從而可避免焙燒時(shí)電極剝離的發(fā)生。
再有，例如為了進(jìn)一步減少多層電極911的電阻值，可在多層電極911和正面玻璃基板401上印刷與感光膏903a同樣的材料，采用與上述圖12(b)至(e)同樣的方法進(jìn)行層疊的結(jié)果是，在所生成的新的多層電極912中(圖12(f))，如薄層部421中焙燒后的膜厚914超過5μm，則可取得抑制電極剝離的發(fā)生的效果。
另外，這時(shí)，在范圍F中的感光膏903a的曝光中，可采用上述半色調(diào)部906。

本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的PDP1000由于只是多層電極的形成方法與PDP400不同，所以對(duì)與PDP400共同的內(nèi)容就不進(jìn)行說明了，以下，僅說明作為不同點(diǎn)的多層電極的形成方法。
<多層電極的形成方法>
圖14是說明本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的PDP1000的多層電極的生成方法的圖。
這里，為了方便起見，圖5的E部用本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的多層電極的形成方法作為形成多層電極409b的方法加以說明。
首先，使用具有以下特征的絲網(wǎng)1020，用印刷法在正面玻璃基板401上涂敷含氧化釕粒子的黑色負(fù)型感光膏1002a。
即，印刷中所使用的絲網(wǎng)1020具有開口率大的第1區(qū)1021和開口率小的第2區(qū)1022。
更具體地說，第1區(qū)1021由網(wǎng)目數(shù)為334個(gè)/英寸、網(wǎng)紗厚度為45μm、開口率為33％的絲網(wǎng)構(gòu)成，另外，第2區(qū)1022由網(wǎng)目數(shù)為380個(gè)/英寸、網(wǎng)紗厚度為40μm、開口率為32％的絲網(wǎng)構(gòu)成。
在開口率小的第2區(qū)1022中，與開口率大的第1區(qū)1021相比，利用印刷形成的膜厚減少了。
由此，可用1次印刷形成感光膏的膜厚厚的部分和薄的部分。
再有，印刷時(shí)第2區(qū)1022的位置處于應(yīng)形成薄層部421的位置。
然后，從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，利用在該溫度下保持恒定時(shí)間的具有溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，溶劑等從上述負(fù)型感光膏1002a中揮發(fā)，形成黑色電極膜前體1002b(圖14(a))。
接著，使用上述絲網(wǎng)1020，采用與上述同樣的方法在黑色電極膜前體1002b和正面玻璃基板401上涂敷含Ag粒子的負(fù)型感光膏1003a，用具有上述溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，形成溶劑等從感光膏1003a中減少的總線電極前體1003b(圖14(b))。
這時(shí)，印刷時(shí)第2區(qū)1022的位置也處于應(yīng)形成薄層部421的位置。
接著，如在總線電極前體803b上配置通常的曝光掩模1005，用紫外線1004從其上進(jìn)行曝光，則從總線電極前體1003b的膜表面進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而聚合，發(fā)生高分子化，形成曝光部1007和非曝光部1008(圖14(c))。
再有，這時(shí)的曝光條件為與第1實(shí)施形態(tài)中的曝光條件一樣，照度5～20mW/cm2，累計(jì)光量100～600mJ/cm2，接近量50～250μm。
接著，當(dāng)在含0.3～0.5重量％的碳酸鈉的顯影液中進(jìn)行顯影時(shí)，除去非曝光部1008，保留已被構(gòu)圖的多層電極前體1010(圖14(d))。
接著，當(dāng)用峰值溫度為550～600℃(最好為580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行焙燒時(shí)，在顯影中殘留的多層電極前體1010中的樹脂成分等在燒掉的同時(shí)揮發(fā)，玻璃料熔融，導(dǎo)電材料被燒結(jié)，生成多層電極1011(圖14(e))。
再有，伴隨該燒結(jié)，該多層電極1011的視在體積收縮，線寬、膜厚減少。
這時(shí)，薄層部421的膜厚1013在5μm以下。
如上所述，本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的PDP1000的制造方法與第1、第2和第3實(shí)施形態(tài)的PDP的制造方法一樣，在多層電極911的終端部可設(shè)置膜厚為5μm以下的薄層部421，由此，由于緩解了多層電極的終端部中所發(fā)生的x軸方向的剪應(yīng)力，從而可避免焙燒時(shí)電極剝離的發(fā)生。
再有，例如為了進(jìn)一步減少多層電極1011的電阻值，可在多層電極1011和正面玻璃基板401上印刷與感光膏1003a同樣的材料，采用與上述圖14(b)至(e)同樣的方法進(jìn)行層疊的結(jié)果是，在所生成的新的多層電極1012中(圖14(f))，如薄層部421中焙燒后的膜厚1014超過5μm，則可取得抑制電極剝離的發(fā)生的效果。
另外，本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的用于絲網(wǎng)印刷的絲網(wǎng)1020的第1區(qū)1021由網(wǎng)目數(shù)為334個(gè)/英寸、網(wǎng)紗厚度為45μm、開口率為33％的絲網(wǎng)構(gòu)成，另外，第2區(qū)1022由網(wǎng)目數(shù)為380個(gè)/英寸、網(wǎng)紗厚度為40μm、開口率為32％的絲網(wǎng)構(gòu)成，但不限于此，例如，作為絲網(wǎng)1020的原材料，使用網(wǎng)目數(shù)為334個(gè)/英寸、網(wǎng)紗厚度為45μm、開口率為33％的絲網(wǎng)，在第1區(qū)1021中，沒有特意增加加工工序，在第2區(qū)1022中，用輥?zhàn)拥燃訅?，進(jìn)行壓縮網(wǎng)紗厚度的砑光處理等，可使印刷量，即印刷物的膜厚減少。
這時(shí)，如此得到的印刷物的膜厚被進(jìn)行上述砑光處理，使得與使用網(wǎng)目數(shù)為380個(gè)/英寸、網(wǎng)紗厚度為40μm、開口率為32％的上述絲網(wǎng)得到的印刷物的膜厚變得大致相同。另外，在第4實(shí)施形態(tài)中所述的開口率畢竟是例示，可通過改變感光膏的成分和粘度等而變更。
本發(fā)明的第5實(shí)施形態(tài)中的PDP1100由于只是多層電極的形成方法與PDP400不同，所以對(duì)與PDP400共同的內(nèi)容就不進(jìn)行說明了，以下，僅說明作為不同點(diǎn)的多層電極的形成方法。
<多層電極的形成方法>
圖15是說明本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的PDP1000的多層電極的生成方法的圖。
這里，為了方便起見，圖5的E部用本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)中的多層電極的形成方法作為形成多層電極409b的方法加以說明。
首先，通過用絲網(wǎng)印刷法在正面玻璃基板401上涂敷含氧化釕粒子的黑色負(fù)型感光膏1102a，從室溫直線上升至80℃以上、120℃以下的范圍后，利用在該溫度下保持恒定時(shí)間的具有溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，溶劑等從上述負(fù)型感光膏1102a中揮發(fā)，形成黑色電極膜前體1102b(圖15(a))。
這時(shí)，在上述印刷范圍內(nèi)，包含相當(dāng)于上述薄層部421的范圍。
其次，用絲網(wǎng)印刷法在黑色電極膜前體1102b和正面玻璃基板401上涂敷含Ag粒子的負(fù)型感光膏1103a，用具有上述溫度分布的IR爐進(jìn)行干燥，形成溶劑等從感光膏1103a中減少的總線電極前體1103b(圖15(b))。
再有，在至此已說明過的第1、第2、第3和第4實(shí)施形態(tài)中的PDP的制造方法中，在含Ag粒子的第2層感光膏的印刷中，在印刷范圍內(nèi)，不包含上述薄層部421，但在本第5實(shí)施形態(tài)中，在作為第2層的感光膏1103a的印刷范圍內(nèi)，不包含相當(dāng)于上述薄層部421的范圍。
接著，如在總線電極前體1103b上配置曝光掩模1105，并用紫外線1104從其上曝光，則從總線電極前體1103b的膜表面進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而聚合，發(fā)生高分子化，形成曝光部1106和非曝光部1107(圖15(c))。
接著，當(dāng)在含0.3～0.5重量％的碳酸鈉的顯影液中進(jìn)行顯影時(shí)，除去非曝光部1107，保留上述曝光部1106，形成多層電極前體1112(圖15(d))。
接著，當(dāng)用峰值溫度為550～600℃(最好為580～600℃)的帶式連續(xù)焙燒爐進(jìn)行焙燒時(shí)，在顯影中殘留的多層電極前體1112中的樹脂成分等在燒掉的同時(shí)揮發(fā)，玻璃料熔融，導(dǎo)電材料被燒結(jié)，生成多層電極1113(圖15(e))。
再有，伴隨該燒結(jié)，該多層電極1113的視在體積收縮，線寬、膜厚減少。
這時(shí)，在薄層部421中，只存在因焙燒黑色電極膜前體1102b的1層而得到的黑色電極膜404，其膜厚比用黑色電極膜404和總線電極405的2層構(gòu)成的其它部位要薄，其值在5μm以下。
如上所述，本發(fā)明的第5實(shí)施形態(tài)中的PDP1100的制造方法與第1、第2、第3和第4實(shí)施形態(tài)的PDP的制造方法一樣，在多層電極的終端部可設(shè)置膜厚為5μm以下的薄層部421，從而電極剝離變得難以發(fā)生。
再有，上述薄層部的黑色電極膜404比起總線電極405由于以導(dǎo)電性差的氧化釕為主成分，所以薄層部421的范圍最好不要增大。
另外，可采用在總線電極405上再層疊與總線電極405相同的材料以進(jìn)一步降低電阻值的方法。
本發(fā)明的第6實(shí)施形態(tài)中的PDP1200由于只是其多層電極的形狀，特別是端子部與PDP400的端子部108的形狀不同，除此以外的形狀與PDP400相同，所以對(duì)共同的部分就不進(jìn)行說明了。
以下，將PDP1200中的與多層電極409對(duì)應(yīng)的部分稱為多層電極1209，將與端子部408對(duì)應(yīng)的部分稱為端子部1208，進(jìn)而，將多層電極1209之中端子部1208以外的部分稱為電極部1210。
<多層電極的形狀>
圖16是說明第6實(shí)施形態(tài)中的PDP1200的多層電極1209的形狀的圖。
這里，為了方便起見，將多層電極1209之中寬度窄且沿長(zhǎng)邊方向遍及廣泛的范圍延伸的部分稱為電極部1210，將寬度寬且為矩形的部分稱為端子部1208。
如圖16所示，端子部1208在電極部1210的長(zhǎng)邊方向的延長(zhǎng)線上具有凹部或貫通孔。
凹部和貫通孔的形狀為圖16(a)所示的圓形，或?yàn)閳D16(b)所示的橢圓形等。
<多層電極的結(jié)構(gòu)>
作為與正面玻璃基板401的接觸面的多層電極1209的下層是以氧化釕為主成分的黑色電極膜1204。
在該黑色電極膜1204之上層疊的部分是以含Ag的導(dǎo)電材料為主成分的總線電極1205。
進(jìn)而，在該總線電極1205上層疊另1層以含Ag的導(dǎo)電材料為主成分的總線電極1206。
也就是說，多層電極1209為3層結(jié)構(gòu)，另外，端子部1208也為3層結(jié)構(gòu)。
采用在第1、第2、第3、第4和第5實(shí)施形態(tài)中所用的多層電極的制造方法，通過以薄層部的范圍為第6實(shí)施形態(tài)中的凹部或貫通孔的存在范圍加以解釋，可制成這樣形狀的端子部1208。
即，凹部和貫通孔的形成可用下述方法實(shí)現(xiàn)從感光膏的印刷范圍中去除掉形成凹部和貫通孔的范圍；通過進(jìn)行網(wǎng)目數(shù)的變更或砑光處理等，得到減小印刷絲網(wǎng)的開口率、比其它部位印刷量少的范圍；以及通過進(jìn)行半色調(diào)曝光，得到比其它部分減薄的范圍。
可是，在端子部1208設(shè)置貫通孔的情況下，如圖16(c)所示，在孔所在的范圍內(nèi)，形成端子部1208的上述全部3層的膜厚為0μm，但在端子部1208設(shè)置凹部的情況下，取決于減薄上述3層之中哪1層的膜厚以及減薄多少膜厚而存在剖面形狀的多種變化。
圖16(d)～(p)是示出這種剖面形狀的變化的圖。
圖16(d)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中總線電極1205和總線電極1206的膜厚為0而黑色電極膜1204的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(e)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中僅總線電極1206的膜厚為0而黑色電極膜1204和總線電極1205的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(f)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中僅黑色電極膜1204的膜厚為0而總線電極1205和總線電極1206的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(g)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中黑色電極膜1204和總線電極1205的膜厚為0而總線電極1206的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(h)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中黑色電極膜1204和總線電極1206的膜厚為0而總線電極1205的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(i)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中黑色電極膜1204的膜厚仍維持不變、總線電極1205的膜厚為0、總線電極1206的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(j)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中減薄黑色電極膜1204、總線電極1205和總線電極1206的各自的膜厚時(shí)的剖面形狀。
圖16(k)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中黑色電極膜1204的膜厚仍維持不變而減薄總線電極1205和總線電極1206的膜厚時(shí)的剖面形狀。
圖16(l)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中黑色電極膜1204和總線電極1205的膜厚仍維持不變而減薄總線電極1206的膜厚時(shí)的剖面形狀。
圖16(m)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中減薄黑色電極膜1204的膜厚而總線電極1205和總線電極1206的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(n)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中減薄黑色電極膜1204和總線電極1205的膜厚而總線電極1206的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(o)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中減薄黑色電極膜1204和總線電極1206的膜厚而總線電極1205的膜厚仍維持不變時(shí)的剖面形狀。
圖16(p)是在形成端子部1208內(nèi)的凹部的范圍內(nèi)在上述3層之中設(shè)黑色電極膜1204和總線電極1206的膜厚仍維持不變而減薄總線電極1205的膜厚時(shí)的剖面形狀。
這樣一來，在端子部1208形成了凹部的結(jié)果是，在該凹部的膜厚最薄的部分，其膜厚為5μm以下。
另外，在端子部1208形成貫通孔時(shí)，該部分的膜厚為0。
通過使這樣的凹部或貫通孔位于端子部1208，以該凹部或貫通孔為界，由于聯(lián)結(jié)端子部1208的長(zhǎng)邊方向的終端一側(cè)與其相反一側(cè)之間的部分的截面積減小，將上述終端一側(cè)的部分拉向上述相反一側(cè)的力受到阻礙，從而抑制了因偏向一端敞開的終端部而發(fā)生收縮。
由此，在以端子部1208的凹部或貫通孔為界的終端一側(cè)，緩解了焙燒時(shí)發(fā)生的x軸方向的剪應(yīng)力。
但是，如局部地看端子部1208內(nèi)的貫通孔的外緣部附近，即上述相反一側(cè)的部位，則與現(xiàn)有情形為同等程度的x軸方向的剪應(yīng)力起作用，但看該部位的y軸方向上的x軸方向的剪應(yīng)力的分布狀態(tài)時(shí)，在沒有貫通孔的部分，由于接觸面沿x軸方向延伸，所以x軸方向的剪應(yīng)力減小，在包含了上述部位的y軸方向的微小范圍內(nèi)，不發(fā)生像現(xiàn)有那么大的x軸方向的剪應(yīng)力。
因此，焙燒時(shí)的電極剝離變得難以發(fā)生。
如上所述，在本發(fā)明的第6實(shí)施形態(tài)的PDP的制造方法中，由于在端子部1208具有最小厚度為5μm以下的凹部或貫通孔，故以凹部或貫通孔為界，減小了終端部一側(cè)的剪應(yīng)力，從而可避免電極剝離的發(fā)生。
再有，在本發(fā)明的第6實(shí)施形態(tài)中，被配置在端子部1208的凹部和貫通孔的形狀為圓形或橢圓形等，但不限定于這些形狀。
另外，在本發(fā)明的第6實(shí)施形態(tài)中，說明了被配置在端子部1208的凹部和貫通孔的數(shù)目為1個(gè)的情形，但凹部和貫通孔的個(gè)數(shù)卻不限于1個(gè)。
這時(shí)，為了使以該凹部和貫通孔為界將端子部1208的長(zhǎng)邊方向的終端一側(cè)拉向其相反一側(cè)的力盡量得到緩解，希望其中1個(gè)凹部或貫通孔位于電極部1210的長(zhǎng)邊方向的延長(zhǎng)線上。
工業(yè)上的可利用性本申請(qǐng)的發(fā)明可應(yīng)用于在電視機(jī)和計(jì)算機(jī)用監(jiān)視器等方面使用的等離子體顯示面板等的氣體放電顯示面板的制造。
權(quán)利要求
1.一種等離子體顯示面板，它是配備有對(duì)導(dǎo)電材料進(jìn)行燒結(jié)而形成的排列了多個(gè)電極的基板的等離子體顯示面板，其特征在于上述各電極包括屬于上述基板的顯示區(qū)域內(nèi)的第1部分和屬于上述基板的顯示區(qū)域外、其膜厚比該第1部分的膜厚薄的第2部分。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述顯示區(qū)域是形成放電空間的單元存在的區(qū)域。
3.如權(quán)利要求2所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第2部分的膜厚在5μm以下。
4.如權(quán)利要求3所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第2部分有從上述電極的終端部的前端到長(zhǎng)邊方向至少10μm的范圍。
5.如權(quán)利要求4所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第1部分至少包括層疊了的第1電極膜和第2電極膜，由于上述電極的第1電極膜和上述第2電極膜的各終端位置不同，上述第2部分的膜厚比上述第1部分的膜厚薄。
6.如權(quán)利要求5所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第1電極膜在上述基板上形成，上述第2電極膜在上述第1電極膜的上層形成，上述第1電極膜的終端位置處于距上述第2電極膜的終端位置一個(gè)規(guī)定長(zhǎng)度的延長(zhǎng)了的位置上。
7.如權(quán)利要求5所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第1電極膜在上述基板上形成，上述第2電極膜在上述第1電極膜的上層形成，上述第2電極膜的終端位置處于距上述第1電極膜的終端位置一個(gè)規(guī)定長(zhǎng)度的延長(zhǎng)了的位置上。
8.如權(quán)利要求7所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第2電極膜包含Ag、Cu、Al中的至少一種。
9.如權(quán)利要求8所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述第1電極膜包含Ag、Cu、Al、黑色顏料、氧化釕或釕的復(fù)合化合物中的至少一種，是黑色或灰色的。
10.一種等離子體顯示面板，它是配備有對(duì)導(dǎo)電材料進(jìn)行燒結(jié)而形成的排列了多個(gè)電極的基板的等離子體顯示面板，其特征在于上述電極的各列的終端部被局部地拓寬，在該拓寬部分至少有1個(gè)凹部或貫通孔。
11.如權(quán)利要求10所述的等離子體顯示面板，其特征在于上述凹部或上述貫通孔的至少1個(gè)位于上述列中的上述拓寬部分以外的主要部分的長(zhǎng)邊方向延長(zhǎng)線上。
12.一種等離子體顯示裝置，其特征在于由權(quán)利要求1至11的任何一項(xiàng)中所述的等離子體顯示面板和驅(qū)動(dòng)電路構(gòu)成。
13.一種等離子體顯示面板的制造方法，它是有基板的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于具有在上述基板上跨越顯示區(qū)域和顯示區(qū)域以外的區(qū)域形成多列導(dǎo)電材料的形成步驟；以及對(duì)所形成的上述導(dǎo)電材料進(jìn)行焙燒而生成電極的焙燒步驟，焙燒后的上述電極具有屬于上述基板的顯示區(qū)域內(nèi)的第1區(qū)域；以及屬于上述基板的顯示區(qū)域以外，其膜厚比該電極的第1區(qū)域的膜厚薄的第2區(qū)域。
14.如權(quán)利要求13所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于上述顯示區(qū)域是形成放電空間的單元存在的區(qū)域。
15.如權(quán)利要求14所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于焙燒后的上述電極的上述第2區(qū)域中的膜厚在5μm以下。
16.如權(quán)利要求15所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于在上述形成步驟中，進(jìn)行上述調(diào)整，使得上述焙燒后的上述電極的第2區(qū)域有從該電極的終端部的前端到長(zhǎng)邊方向至少10μm的范圍。
17.如權(quán)利要求13所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于在上述形成步驟中，在上述第1區(qū)域中，將上述導(dǎo)電材料層疊第1層和第2層的至少2層以進(jìn)行上述形成，在上述第2區(qū)域中，形成上述第1層和上述第2層中的某一層。
18.如權(quán)利要求17所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于上述層疊用印刷進(jìn)行，在上述第2區(qū)域中，印刷第1層和第2層中的某一層。
19.如權(quán)利要求13所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于在上述形成步驟中，將上述導(dǎo)電材料層疊第1層和第2層的至少2層以進(jìn)行上述形成，上述層疊使上述第2區(qū)域中的第1層或第2層的涂敷量比上述第1區(qū)域中的涂敷量減少并通過印刷進(jìn)行。
20.如權(quán)利要求19所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于上述減少在上述第1區(qū)域中的涂敷通過采用第1網(wǎng)孔進(jìn)行，在上述第2區(qū)域中的涂敷通過采用比第1網(wǎng)孔的開口率小的第2網(wǎng)孔進(jìn)行。
21.如權(quán)利要求19所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于上述減少在上述第1區(qū)域中的涂敷通過采用第1網(wǎng)孔進(jìn)行，在上述第2區(qū)域中的涂敷通過采用對(duì)第1網(wǎng)孔進(jìn)行了砑光處理而得到的網(wǎng)孔進(jìn)行。
22.如權(quán)利要求13所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于上述導(dǎo)電材料是與感光材料混合的混合物，在上述形成步驟中，通過印刷涂敷上述混合物或涂敷層疊了上述混合物的薄片，可將上述混合物在上述基板上至少層疊2層，在進(jìn)行了上述第2區(qū)域內(nèi)所包含的上述疊層的部分中，使用其色調(diào)寬度在曝光分辨率以下的曝光掩模進(jìn)行了曝光后，通過顯影，可進(jìn)行上述形成。
23.一種等離子體顯示面板的制造方法，它是有基板的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于，具有下述步驟形成多列導(dǎo)電材料的形成步驟，其中1列導(dǎo)電材料在上述基板上跨越顯示區(qū)域和該顯示區(qū)域以外的區(qū)域，其終端部被局部拓寬，該拓寬部分至少具有1個(gè)凹部或貫通孔；以及焙燒步驟，用來焙燒所形成的上述導(dǎo)電材料，生成電極。
24.如權(quán)利要求23所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于上述凹部或上述貫通孔的至少1個(gè)位于上述列中的上述拓寬部分以外的主要部分的長(zhǎng)邊方向延長(zhǎng)線上。
全文摘要
本發(fā)明的等離子體顯示面板是配備有對(duì)導(dǎo)電材料進(jìn)行燒結(jié)而形成的排列了多個(gè)電極的基板的等離子體顯示面板，其特征在于上述各電極包括屬于上述基板的顯示區(qū)域內(nèi)的第1部分和屬于上述基板的顯示區(qū)域外、其膜厚比該第1部分的膜厚薄的第2部分。
文檔編號(hào)H01J17/04GK1541399SQ0281578
公開日2004年10月27日 申請(qǐng)日期2002年6月11日 優(yōu)先權(quán)日2001年6月12日
發(fā)明者蘆田英樹, 米原浩幸, 住田圭介, 藤谷守男, 日比野純一, 藤原伸也, 丸中英喜, 仲川整, 也, 介, 喜, 幸, 男, 純一 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社