S330，計算對準(zhǔn)測量傳感器的最佳測量平面的離焦量ΛΖ1。
[0084]進一步地，請參照圖6A，其是圖6中實現(xiàn)步驟S330的具體流程示意圖，具體包括如下步驟:
[0085]首先，執(zhí)行步驟S333，確定所述對準(zhǔn)測量傳感器的最佳測量平面、及調(diào)焦測量傳感器的零平面。
[0086]具體,請參照圖10,其為確定對準(zhǔn)測量最佳測量平面及固有偏差ΔΖ0的示意圖。如圖10所示，水平向運動基底承載臺，使得對準(zhǔn)測量傳感器的測量點530和調(diào)焦測量傳感器的測量點630測量基底承載臺對準(zhǔn)基準(zhǔn)板420，其中，當(dāng)對準(zhǔn)基準(zhǔn)板420上的基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421位于對準(zhǔn)測量傳感器的測量點530的視場范圍內(nèi)時，通過對準(zhǔn)測量傳感器的測量點對基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421進行對準(zhǔn)測量；先后使基底承載臺420沿垂向進行至少3次步進。本實施例中以6次步進，曝光裝置僅設(shè)置有一調(diào)焦傳感器及一對準(zhǔn)傳感器為例，在每次步進位上，記錄調(diào)焦測量傳感器的調(diào)焦測量信息Zf 1、Zf2、Zf3、Zf4、Zf5、Zf6，同時，在每個步進位上，通過對準(zhǔn)測量傳感器獲取基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421在對準(zhǔn)(XD525上的對比度MTl、MT2、MT3、MT4、MT5、MT6。通過拋物線擬合對比度MT1、MT2、MT3、MT4、MT5、MT6和調(diào)焦測量信息Zfl、Zf2、Zf3、Zf4、Zf5、Zf6，獲得基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421對比度最大的位置，即為此對準(zhǔn)測量傳感器的最佳測量平面550。由上述調(diào)焦測量信息即可確定調(diào)焦測量傳感器的零平面600。
[0087]接著，執(zhí)行步驟S334，計算所述對準(zhǔn)測量傳感器的最佳測量平面和所述調(diào)焦測量傳感器的零平面之間的固有偏差ΛΖΟ。所述對準(zhǔn)測量傳感器的最佳測量平面和所述調(diào)焦測量傳感器的零平面之間的固有偏差A(yù)ZO即為所述對準(zhǔn)測量傳感器的最佳測量平面和所述調(diào)焦測量傳感器的零平面之間的垂直距離。
[0088]接著，執(zhí)行步驟S335，根據(jù)基底承載臺位置信息，獲取所述對準(zhǔn)測量傳感器和調(diào)焦測量傳感器的測量點的水平向位置。
[0089]接著，執(zhí)行步驟S336，根據(jù)所述測量點的水平向位置查找所述調(diào)焦測量信息Zi，確定對準(zhǔn)標(biāo)記的高度ΔΖ2，計算出所述最佳測量平面的離焦量ΛΖ1，其中ΛΖ1 =ΛΖ0-ΛΖ2。
[0090]請繼續(xù)參照圖9-圖9B，所述調(diào)焦測量信息Zi是調(diào)焦測量傳感器對對準(zhǔn)標(biāo)記的調(diào)焦測量的結(jié)果，也是對準(zhǔn)標(biāo)記的高度值。通過查找所述干涉測量裝置測量基底承載臺位置的測量結(jié)果，可獲得對準(zhǔn)測量傳感器的測量點和調(diào)焦測量傳感器的測量點的水平向位置，最終確定所需要的對準(zhǔn)標(biāo)記的高度值即為調(diào)焦測量信息Zi。
[0091]接著，執(zhí)行步驟S331，通過離線測校，計算對準(zhǔn)測量傳感器的對準(zhǔn)測量光軸的偏離X軸的傾斜量Φχ或者偏離Y軸的傾斜量i>y。
[0092]由于對準(zhǔn)測量光軸的傾斜量Φ存在兩種情況，即偏離X軸的傾斜量Φχ或者偏離Y軸的傾斜量Φγ，因此需要針對不同的情況進行分析計算。請參照圖6Β，其是圖6中實現(xiàn)步驟S331的具體流程示意圖，如圖6Β所示，要實現(xiàn)步驟S331的具體流程包括如下步驟:
[0093]首先，執(zhí)行步驟S337，水平移動所述曝光裝置中的基底承載臺，使得所述對準(zhǔn)測量傳感器和所述調(diào)焦測量傳感器測量所述基底承載臺上承載的對準(zhǔn)基準(zhǔn)板。
[0094]接著，執(zhí)行步驟S338，將所述基底承載臺沿垂向步進至少兩次，記錄每次步進所述調(diào)焦測量傳感器的測量結(jié)果、及所述對準(zhǔn)測量傳感器的測量結(jié)果。
[0095]接著，執(zhí)行步驟S339，分別計算每相鄰兩次步進所述對準(zhǔn)測量傳感器的測量結(jié)果在X軸的偏差ΛΧ0或者在Y軸的偏差ΛΥ0，及所述調(diào)焦測量傳感器的測量結(jié)果的偏差ΛΖ。
[0096]接著,執(zhí)行步驟S340,計算所述偏離X軸的傾斜量ΦX或者所述偏離Y軸的傾斜量Φγ ;其中，Φχ = art an ( Δ YO/ Δ Ζ), Φγ = _l*artan ( Δ XO/ Δ Ζ)。
[0097]請參照圖11，其為對準(zhǔn)傳感器的對準(zhǔn)測量光軸傾斜時進行離線測校的原理示意圖。如圖11所示，水平向運動基底承載臺，使得對準(zhǔn)測量傳感器的測量點530和調(diào)焦測量傳感器的測量點630測量基底承載臺上的對準(zhǔn)基準(zhǔn)板420，其中，所述對準(zhǔn)基準(zhǔn)板420上設(shè)置有基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421。為后期使用離線測校對于對準(zhǔn)傳感器的測量光軸553的傾斜量的確定提供基礎(chǔ)。當(dāng)對準(zhǔn)基準(zhǔn)板420上的基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421位于對準(zhǔn)測量傳感器的測量點530的視場范圍內(nèi)時，通過對準(zhǔn)測量傳感器的測量點對基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421進行對準(zhǔn)測量；先后使基底承載臺420沿垂向進行至少兩次步進。在本實施例中以兩次步進，曝光裝置僅設(shè)置有一調(diào)焦測量傳感器及一對準(zhǔn)測量傳感器為例。在每個步進位上，記錄此時調(diào)焦測量傳感器的測量結(jié)果Zfa、Zfb,同時，在每個步進位上，通過對準(zhǔn)測量傳感器獲取當(dāng)前基準(zhǔn)板對準(zhǔn)標(biāo)記421的對準(zhǔn)測量信息。如果對準(zhǔn)光軸553存在光軸傾斜Φγ，則兩個步進位上的對準(zhǔn)測量結(jié)果在X軸會存在偏差Δ XO，在這里記ΛΖ = Zfa-ZfbJU Oy = _l*artan ( Λ XO/Δ Ζ)。同理，如果對準(zhǔn)光軸553存在光軸傾斜Φχ，則兩個步進位上的對準(zhǔn)測量結(jié)果在Y軸會存在偏差 Δ YO，在這里記 ΛΖ = Zfa-ZfbJU Φχ = artan ( Λ YO/Λ Ζ)。
[0098]請參照圖12及圖13，其中，圖12是對準(zhǔn)測量傳感器的對準(zhǔn)測量光軸偏離X軸時，進行離焦傾斜誤差補償?shù)氖疽鈭D；圖13是對準(zhǔn)測量傳感器的對準(zhǔn)測量光軸偏離Y軸時，進行離焦傾斜誤差補償?shù)氖疽鈭D。如圖12及圖13所示，執(zhí)行步驟S332，計算X軸的離焦傾斜誤差Δ X或者Y軸的離焦傾斜誤差Λ Y ;其中ΛΧ= AZltan(Ox), ΛΥ = AZltan(Oy)。本實施例中，調(diào)焦測量傳感器的測量光軸653不存在傾斜量，因此通過調(diào)焦傳感器對調(diào)焦測量傳感器的測量點630測量的結(jié)果，(即調(diào)焦測量信息)即可確定對準(zhǔn)標(biāo)記的高度ΛΖ2。
[0099]接著，執(zhí)行步驟S34，根據(jù)已計算出的X軸的離焦傾斜誤差Λ X或者Y軸的離焦傾斜誤差Λ Y，修正所述對準(zhǔn)測量信息(Xj，Yj)，得到修正后的對準(zhǔn)測量信息(Xj’ ,YjMo
[0100]進一步地，所述修正后的對準(zhǔn)測量信息(Xj’，Yj’ )與修正前的所述對準(zhǔn)信息(Xj, Yj)關(guān)系為:(Xj’，Yj，) = (Xj-ΔΧ, Yj)或者(Xj，，Yj，) = (Xj1Yj-AY)0
[0101]接著，執(zhí)行步驟S35，根據(jù)所述調(diào)焦測量信息Zi及修正后的對準(zhǔn)測量信息(Xj’，Yj’)，分別計算調(diào)焦位置Z及對準(zhǔn)位置(X，Y);其中，所述計算調(diào)焦位置Z是由當(dāng)前掃描曝光視場的調(diào)焦測量信息Zi進行擬合計算得到的；所述計算對準(zhǔn)位置(X，Y)是由修正后的對準(zhǔn)測量信息(Xj ’，Yj’)進行擬合計算得到的。
[0102]接著，執(zhí)行步驟S35，根據(jù)修正后的對準(zhǔn)測量信息(Xj’，Yj’)，計算當(dāng)前掃描曝光視場的對準(zhǔn)位置(X，Y)，完成離焦傾斜誤差的補償。
[0103]具體的，由于調(diào)焦測量信息是不存在誤差的，對準(zhǔn)測量信息是經(jīng)過修正后的(即經(jīng)過離焦傾斜誤差補償?shù)?，因此計算的調(diào)焦位置Z及對準(zhǔn)位置(X，Y)具有較高的精準(zhǔn)度，提高了對準(zhǔn)精度。經(jīng)驗證當(dāng)最佳測量平面的離焦量ΔΖ1 = 1um,離焦量Φ = 3mrad時，使用本發(fā)明所提供的離焦傾斜誤差補償方法可使對準(zhǔn)精度相比采用現(xiàn)有技術(shù)提高30nm左右。
[0104]為了進一步對以上內(nèi)容進行理解，請參照圖14，其為本發(fā)明中的曝光裝置設(shè)計的曝光流程圖。如圖14所示，應(yīng)用本發(fā)明的曝光裝置在進行曝光流程包括如下步驟:
[0105]首先，執(zhí)行步驟S10，將基底放置于基底承載臺上；
[0106]接著，執(zhí)行步驟S11，對基底進行預(yù)對準(zhǔn)；
[0107]接著，執(zhí)行步驟S12，將基底承載臺移動至第I個掃描曝光視場進行掃描測量，當(dāng)調(diào)焦測量傳感器的測量點開始進入該掃描曝光視場時開始進行調(diào)焦測量，并記錄各個時刻的調(diào)焦測量信息；
[0108]接著，執(zhí)行步驟S13，對當(dāng)前掃描曝光視場中的第I列對準(zhǔn)標(biāo)記進行對準(zhǔn)測量，并記錄對準(zhǔn)測量信息；
[0109]接著，執(zhí)行步驟S14，對當(dāng)前掃描曝光視場中的第2列對準(zhǔn)標(biāo)記進行對準(zhǔn)測量，并記錄對準(zhǔn)測量信息；
[0110]接著，執(zhí)行步驟S15，當(dāng)所有調(diào)焦測量傳感器的測量點全部離開當(dāng)前掃描曝光視場時，停止進行調(diào)焦測量及對調(diào)焦測量信息的記錄；
[0111]接著，執(zhí)行步驟S16，