3]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，在制造減反射結(jié)構(gòu)時(shí)，在第一取向?qū)由闲纬删€偏振片可以包括:在第一取向?qū)由贤糠蟀ǘ蛏匀玖?、可聚合液晶和光引發(fā)劑的第一材料層;對第一材料層進(jìn)行取向固化。
[0124]進(jìn)一步地，當(dāng)減反射結(jié)構(gòu)形成在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板時(shí)，在制造減反射結(jié)構(gòu)之前，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示器的制造方法還可以包括:在其上形成有所述有機(jī)發(fā)光二極管和所述薄膜晶體管的襯底基板上形成平坦化層，而后續(xù)形成的減反射結(jié)構(gòu)形成在平坦化層上。
[0125]在本實(shí)施例中，減反射結(jié)構(gòu)形成在對置基板指的是減反射結(jié)構(gòu)形成在對置基板的與所述陣列基板相反的一側(cè)。進(jìn)一步地，由于這樣形成的減反射結(jié)構(gòu)位于顯示面板外部，為了對其進(jìn)行保護(hù)，在減反射結(jié)構(gòu)形成在對置基板的與所述陣列基板相反的一側(cè)之后，該顯示器的制造方法還包括:在線偏振片上形成保護(hù)層。備選地，還可以在光截止層上形成保護(hù)層。
[0126]示例性地，該保護(hù)層可以由透明絕緣材料形成，例如，由透明樹脂材料形成。
[0127]以下參照圖8a?Se對根據(jù)本實(shí)施例的顯示器的制造方法給出了示例性描述，這里，以減反射結(jié)構(gòu)形成在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板上作為示例，圖8a?Se示出了在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板上執(zhí)行制造減反射結(jié)構(gòu)的各步驟后所獲得的截面圖。
[0128]如圖8a所示，減反射結(jié)構(gòu)即將形成在其上的襯底基板105上形成有包括有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的多個(gè)像素單元106。
[0129]接下來，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示器的制造方法可以包括:
[0130]在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板105上形成平坦化層110，如圖8b所示；
[0131]接著，在平坦化層110上，例如，采用聚酰亞胺材料，形成第二取向?qū)?09，對該第二取向?qū)?09進(jìn)行摩擦取向，如圖8c所示；
[0132]接著，在第二取向?qū)?09上形成延遲膜102;
[0133]示例性地，形成延遲膜102可以包括:在第二取向?qū)?09上涂敷包括可聚合液晶和光引發(fā)劑的第二材料層，對該第二材料層進(jìn)行取向固化，例如，采用紫外光(UV光)對所述第二材料層進(jìn)行取向固化。
[0134]接著，在延遲膜102上，例如，采用聚酰亞胺材料，形成第一取向?qū)?03，對第一取向?qū)?03進(jìn)行摩擦取向；
[0135]然后，在第一取向?qū)?03上形成線偏振片104，如圖Sd所示；
[0136]示例性地，形成線偏振片104可以包括:在第一取向?qū)?03上涂敷包括二向色性染料、可聚合液晶和光引發(fā)劑的第一材料層，對該第二材料層進(jìn)行取向固化，例如，采用紫外光(UV光)對所述第二材料層進(jìn)行取向固化。
[0137]例如，第一材料層可以包括質(zhì)量百分比為1%-20%的二向色性染料、質(zhì)量百分比為75 % -95 %的可聚合液晶和質(zhì)量百分比為0.1 % -5 %的光引發(fā)劑。備選地，二向色性染料、可聚合液晶和光引發(fā)劑的百分含量分別為10% ,87.5%，2.5%。
[0138]然后，在線偏振片104上形成光截止層108，如圖Se所示；
[0139]示例性地，在線偏振片104上形成光截止層108，可以包括采用等離子體氣相沉積法(PECVD)交替沉積多個(gè)高折射率層和多個(gè)低折射率層，例如，該高折射率層為氮化硅層，沉積氮化硅層的反應(yīng)氣體為SiH4、NHdPN2的混合氣體;該低折射率層為氧化硅層，沉積氧化硅層的反應(yīng)氣體為SiH4、N02和N2的混合氣體。
[OMO]對應(yīng)于圖8a?8e示出的具體示例，圖10示出了在襯底基板上形成減反射結(jié)構(gòu)的流程圖。例如，在襯底基板上形成減反射結(jié)構(gòu)時(shí)，可以包括如下步驟:
[0141]步驟S71:在形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板上形成平坦化層。
[0142]步驟S72:在形成有平坦化層的襯底基板上形成第二取向?qū)?，并對第二取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0143]步驟S73:在第二取向?qū)由贤糠蟀删酆弦壕Ш凸庖l(fā)劑的第二材料層，對第二材料層進(jìn)行取向固化，得到延遲膜。
[0144]步驟S74:在延遲膜上形成第一取向?qū)?，對第一取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0145]步驟S75:在第一取向?qū)由贤糠蟀ǘ蛏匀玖?、可聚合液晶和光引發(fā)劑的第一材料層，對第一材料層進(jìn)行取向固化形成線偏振片。
[0146]步驟S76:在線偏振片上形成光截止層。
[0147]需要說明的是，對于以上示例，減反射結(jié)構(gòu)形成在所述襯底基板上之后，將其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管、薄膜晶體管和減反射結(jié)構(gòu)的襯底基板與其上形成有其他所需部件的對置基板對盒，從而獲得減反射結(jié)構(gòu)位于陣列基板與對置基板之間的顯示面板。
[0148]示例性地，該減反射結(jié)構(gòu)形成在對置基板上，也就是，形成在對置基板的與陣列基板相反的一側(cè)，下面給出了具體示例。
[0149]如圖11所示，是在對置基板的與陣列基板相反的一側(cè)形成減反射結(jié)構(gòu)的流程圖，可以包括如下步驟:
[0150]步驟S81:在對置基板上形成第二取向?qū)?，并對第二取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0151]步驟S82:在第二取向?qū)由贤糠蟀删酆弦壕Ш凸庖l(fā)劑的第二材料層，對第二材料層進(jìn)行取向固化，得到延遲膜。
[0152]步驟S83:在延遲膜上形成第一取向?qū)?，對第一取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0153]步驟S84:在第一取向?qū)由贤糠蟀ǘ蛏匀玖?、可聚合液晶和光引發(fā)劑的第一材料層，對第一材料層進(jìn)行取向固化形成線偏振片。
[0154]步驟S85:在線偏振片上形成光截止層，該光截止層的形成過程可以參見以上示例，在此不再贅述。
[0155]步驟S86:在光截止層上形成保護(hù)層。
[0156]示例性地，第一取向?qū)?03、延遲膜102、第二取向?qū)?09、光截止層108、線偏光片104的厚度范圍，光截止層108的具體形成方法參見實(shí)施例二，在此不再贅述。
[0157]實(shí)施例五
[0158]本實(shí)施例也提供一種顯示器的制造方法，與實(shí)施例三的制造方法的區(qū)別在于:減反射結(jié)構(gòu)在對置基板的與陣列基板相對的一側(cè)上形成，這樣，在制作完成減反射結(jié)構(gòu)后，對置基板需要翻轉(zhuǎn)而與其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板對盒而得到顯示器，其中該減反結(jié)構(gòu)位于陣列基板與對置基板之間，不需要額外的保護(hù)層來保護(hù)減反射結(jié)構(gòu)，且與減反射結(jié)構(gòu)直接形成在襯底基板上相比，也不需要形成平坦層，除了上述區(qū)別之夕卜，如果沒有特別說明，本實(shí)施例的制造方法中的步驟可以參照實(shí)施例三中的描述，為了簡潔，這里將不再贅述。
[0159]示例性地，在本實(shí)施例中，制造減反射結(jié)構(gòu)可以包括:
[0160]在對置基板上形成線偏振片；
[0161]在線偏振片上形成第一取向?qū)?；以?br>[0162]在第一取向?qū)由闲纬裳舆t膜。
[0163]示例性地，在對置基板上形成線偏振片之前，根據(jù)本實(shí)施例的顯示器的制造方法還可以包括:在對置基板上形成第二取向?qū)?對第二取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0164]相應(yīng)地，在對置基板上形成線偏振片可以包括:在第二取向?qū)由贤糠蟀ǘ蛏匀玖稀⒖删酆弦壕Ш凸庖l(fā)劑的第二材料層;對第二材料層進(jìn)行取向固化。
[0165]相應(yīng)地，在線偏振片上形成第一取向?qū)又?，根?jù)本實(shí)施例的顯示器的制造方法還可以包括:對第一取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0166]相應(yīng)地，在第一取向?qū)由闲纬裳舆t膜，可以包括:在第一取向?qū)由贤糠蟀删酆弦壕Ш凸庖l(fā)劑的第一材料層;對第一材料層進(jìn)行取向固化。
[0167]進(jìn)一步地，在對置基板上形成線偏振片之前，制造減反射結(jié)構(gòu)的步驟還可以包括:在對置基板上形成光截止層。
[0168]示例性地，該光截止層位于第二取向?qū)优c對置基板之間或者位于線偏振片與對置基板之間。
[0169]以下參照圖9a?9d對根據(jù)本實(shí)施例的顯示器的制造方法給出了示例性描述，這里，以減反射結(jié)構(gòu)形成對置基板上作為示例，圖9a?9d示出了在對置基板上執(zhí)行制造減反射結(jié)構(gòu)的各步驟后所獲得的截面圖，其中該減反結(jié)構(gòu)設(shè)置在該對置基板與陣列基板之間。
[0170]提供對置基板107，如圖9a所不，；
[0171]在對置基板107上形成光截止層108，如圖9b所示。
[0172]示例性地，該光截止層108通過采用等離子體氣相沉積法交替沉積多個(gè)高折射率層和多個(gè)低折射率層而形成。例如，該高折射率層為氮化硅層，沉積該氮化硅層的反應(yīng)氣體為3丨瓜、順3和犯的混合氣體，例如，該混合氣體中，3丨!14、冊3和犯的流量比可為16:4:1;該低折射率層為氧化硅層，沉積該氧化硅層的反應(yīng)氣體為SiH4、N04PN2的混合氣體，例如，該混合氣體中，5池、順3和他的流量比可為40:4:1。
[0173]在光截止層108上形成第二取向?qū)?09，對該第二取向?qū)?09進(jìn)行摩擦取向，如圖9c所示；
[0174]在形成有光截止層108和第二取向?qū)?09的對置基板107上順次形成線偏振片104、第一取向?qū)?03和延遲膜102，如圖9d所示。
[0175]需要說明的是，形成線偏振片104的示例步驟，形成第一取向?qū)?03的示例步驟，形成延遲膜102的示例步驟可以參考實(shí)施例二的相應(yīng)描述，為了簡潔，這里不再贅述。
[0176]與圖9a?9d相對應(yīng)，圖12給出了在對置基板上形成減反射結(jié)構(gòu)的流程圖。如圖12所示，制造減反射結(jié)構(gòu)可以包括如下步驟:
[0177]步驟S91:在對置基板上形成光截止層。
[0178]步驟S92:在形成有光截止層的對置基板上形成第二取向?qū)?，并對第二取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0179]步驟S93:在第二取向?qū)由贤糠蟀ǘ蛏匀玖?、可聚合液晶和光引發(fā)劑的第二材料層，并對第二材料層進(jìn)行取向固化形成線偏振片。
[0180]步驟S94:在線偏振片上形成第一取向?qū)樱瑢Φ谝蝗∠驅(qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0181]步驟S95:在第一取向?qū)由贤糠蟀删酆弦壕Ш凸庖l(fā)劑的第一材料層，對第一材料層進(jìn)行取向固化，得到延遲膜。
[0182]需要注意的是，在形成減反射結(jié)構(gòu)之前，對置基板上可以形成有OELD顯示面板的一些構(gòu)件，例如，如果OLED顯示面板為W0LED-C0A(白色OLED及彩色濾波陣列)方式，則可以在對置基板上形成有紅綠藍(lán)三種顏色的濾色器，備選地，可以先形成濾色器，然后形成減反射結(jié)構(gòu)，或者可以先形成減反射結(jié)構(gòu)，然后形成濾色器等，本發(fā)明的實(shí)施例并不對此進(jìn)行限定。
[0183]這里應(yīng)該注意的是，以上的描述中以顯示面板為有機(jī)電致發(fā)光面板為例進(jìn)行了說明，但是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板還可以為包括背光源的液晶顯示面板，本發(fā)明的實(shí)施例并不對此進(jìn)行限定。
[0184]對于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)、顯示器及其制造方法，在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于減輕外部光的反射的減反射結(jié)構(gòu)中，該減反射結(jié)構(gòu)包括由液晶材料制成的延遲膜和線偏振片，這樣可以利用涂敷等方法形成