還可以包括在線偏振片104的出光側(cè)的保護(hù)層120，構(gòu)造為保護(hù)減反射結(jié)構(gòu)101，例如，保護(hù)層120可以由透光絕緣材料形成。
[0086]示例性地，線偏振片104可以包括二向色性染料、可聚合液晶和光引發(fā)劑，延遲膜102可以包括可聚合液晶和光引發(fā)劑。其中，二向色性染料可為Xll(BASF)或S-428;可聚合液晶可為LC242(merck)等普通向列相液晶，光引發(fā)劑可為184。
[0087]示例性地，線偏振片104可以包括質(zhì)量百分比為1%_20%的二向色性染料、質(zhì)量百分比為75 % -95 %的可聚合液晶和質(zhì)量百分比為0.1 %-5 %的光引發(fā)劑。備選地，二向色性染料、可聚合液晶和光引發(fā)劑的百分含量分別為10%、87.5%和2.5%。
[0088]示例性地，延遲膜102可以包括重量百分比為75%_99.5%的可聚合液晶和重量百分比為0.5 % -25 %的光引發(fā)劑。
[0089]示例性地，為了使得包括液晶材料的線偏振片104能夠使得一個方向的偏振光透過而使得與之垂直方向的偏振光被吸收，在形成過程中需要被取向，且包括液晶材料的延遲膜102在形成過程中也需要被取向。備選地，線偏振片104和延遲膜102可以共用位于二者之間的第一取向?qū)?03而配向；或者，線偏振片104和延遲膜102可以分別利用不同的取向?qū)佣湎颉?br>[0090]示例性地，第一取向?qū)?03可以構(gòu)造為對延遲膜102進(jìn)行取向，此時減反射結(jié)構(gòu)還可以包括第二取向?qū)?09，該第二取向?qū)?09設(shè)置在線偏振片104的出光側(cè)，且該第二取向?qū)?09構(gòu)造為對線偏振片104進(jìn)行取向。如圖4c所示，對應(yīng)于圖4a所示的顯示器的結(jié)構(gòu)，第二取向?qū)?09可以設(shè)置在對置基板107與線偏振片104之間；備選地，如圖4d所不，與圖4b所不的顯示器相對應(yīng)，第二取向?qū)?09可以設(shè)置在保護(hù)層120與線偏振片104之間。
[0091]備選地，第一取向?qū)?03也可構(gòu)造為對線偏振片104進(jìn)行取向，此時減反射結(jié)構(gòu)101可以包括第三取向?qū)?30，第三取向?qū)?30設(shè)置在延遲膜102的入光側(cè)且構(gòu)造為對延遲膜102進(jìn)行取向。例如，對應(yīng)于減反射結(jié)構(gòu)101形成在對置基板和陣列基板之間的實(shí)施方式，第三取向?qū)?30設(shè)置在形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板上的平坦層110與延遲膜102之間，如圖4e所示。備選地，對應(yīng)于減反射結(jié)構(gòu)101設(shè)置在對置基板與陣列基板相反的一側(cè)的實(shí)施方式，第三取向?qū)有纬稍趯χ没迮c延遲膜102之間。
[0092]在本實(shí)施例中，減反射結(jié)構(gòu)的線偏振片和延遲膜都采用液晶材料，例如采用涂敷方法而形成，這樣與傳統(tǒng)的用于顯示器的減反射結(jié)構(gòu)相比，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)的厚度可以被顯著減小，例如，厚度可以減小到約ΙΟμ??，甚至遠(yuǎn)小于ΙΟμ??，例如，下面的示例中給出的5.27μπι。然而，對于以上減反射結(jié)構(gòu)，其偏光度可能較低，例如，為60%。
[0093]備選地，為了提高以上顯示器的偏光度，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)還可以包括光截止層，該光截止層設(shè)置在線偏振片的出光側(cè)且構(gòu)造為截止特定波長范圍的光。例如，如圖5所示，對應(yīng)于圖4a所示的顯示器，在平坦化層110上順次設(shè)置延遲膜102、第一取向?qū)?03和線偏振片104，在線偏振片104的出光側(cè)形成光截止層108。備選地，對應(yīng)于圖4c和圖4d所示的顯示器結(jié)構(gòu)，光截止層108可以設(shè)置在第二取向?qū)?09的出光側(cè)。
[0094]示例性地，第一取向?qū)?03、第二取向?qū)?09、第三取向?qū)?30的厚度可分別在0.05μm?0.15μηι的厚度范圍內(nèi)，例如，可以都為0.Ιμπι。
[0095]示例性地，線偏振片104的厚度可為2.5μηι?3.5μηι，例如，為3μηι。
[0096]示例性地，延遲膜102的厚度可為1.5μηι?2.5μηι，例如，為2μηι。
[0097]示例性地，光截止層108的厚度可為0.06μπι?0.08μπι，例如，為0.07μπι。
[0098]示例性地，對于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)的一個示例，例如，該減反射結(jié)構(gòu)順次包括延遲膜、第一取向?qū)?、線偏振片、第二取向?qū)右约肮饨刂箤?，?dāng)光截止層108的厚度例如為0.07μπι，兩個取向?qū)拥暮穸壤缍紴?.lμm，線偏振片104的厚度例如為3μm，延遲膜103的厚度例如為2μπι時，減反射結(jié)構(gòu)的總厚度為5.27μπι，小于ΙΟμπι，而與厚度大約為120-250μπι的現(xiàn)有減反射結(jié)構(gòu)相比，厚度顯著減小，而且具有該結(jié)構(gòu)的減反射結(jié)構(gòu)，其偏光度能夠提升到99.7%，而利于實(shí)現(xiàn)超薄顯不。
[0099]下面結(jié)合圖6對光截止層108的光截止特性進(jìn)行示例性描述。
[0?00]圖6所不，不出了減反射結(jié)構(gòu)的偏光度與入射光波長之間的關(guān)系，其中橫坐標(biāo)表不入射光波長，縱坐標(biāo)表示偏光度(DOP)，線Line I示出了通過測試得到的現(xiàn)有的貼附到顯示面板外部的量產(chǎn)減反射結(jié)構(gòu)的偏光度與入射光波長之間的關(guān)系，而線Line 2示出了通過測試得到的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的未包括光截止層的減反射結(jié)構(gòu)的偏光度與入射光波長之間的關(guān)系。從圖6可以看出，對于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的未包括光截止層的減反射結(jié)構(gòu)，當(dāng)入射光的波長范圍為380nm?780nm時，平均偏光度僅為60%，其中在380nm?650nm時，平均偏光度接近I，大約為99.75%，而入射光的波長大于650nm時，偏光度急劇下降，由此可知，波長為650nm?780nm的光嚴(yán)重地影響了減反射結(jié)構(gòu)的偏光度，因此，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光截止層108可以構(gòu)造為截止650nm?780nm范圍內(nèi)的光，從而提高偏光度。
[0101]示例性地，光截止層108可構(gòu)造為截止特定波長范圍的光，例如，截止波長范圍為650nm?780nm的光，優(yōu)選地，截止波長范圍為700nm?780nm的光，這樣可以僅截止部分的紅外光，而并非截止全部紅外光，從而可以大大提高偏光度，又不會影響顯示。
[0102]這樣，通過提供光截止層108，其濾光作用使得偏光度得到很大的提升，從而可以在厚度減薄的同時，實(shí)現(xiàn)具有高偏光度的減反射結(jié)構(gòu)，從而能很好的應(yīng)用于顯示器，實(shí)現(xiàn)超薄柔性顯示。
[0103]示例性地，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光截止層108可以包括交替設(shè)置的多個高折射率層和多個低折射率層，該多個高折射率層的每層的厚度可以相等或不相等，該多個低折射率層的每層的厚度也可以相等或不相等，高折射率層的厚度也可以等于或不等于低折射率層的厚度，本發(fā)明的實(shí)施例并不對此進(jìn)行限定。
[0104]例如，該高折射率層可以為氮化硅層，該低折射率層可以為氧化硅層，也就是，光截止層108可以包括交替設(shè)置的多層氮化硅層和多層氧化硅層。例如，可以采用等離子體氣相沉積(PECVD)的方法交替沉積氮化硅層和氧化硅層，其中沉積氮化硅層的反應(yīng)氣體可為SiH4、NH3和N2的混合氣體，例如，該混合氣體中，SiH4、NH3和N2的流量比可為16:4:1;沉積氧化硅層的反應(yīng)氣體可為SiH4、N02和他的混合氣體，例如，該混合氣體中，SiH4、NH3和N2的流量比可為40:4:1。在實(shí)際中，可通過控制反應(yīng)時間來控制膜層的厚度，通過反應(yīng)氣體氣路的打開和關(guān)閉來實(shí)現(xiàn)多層膜交替沉積。
[0105]下面給出光截止層的具體示例。這里，交替沉積氮化硅層和氧化硅層而形成光截止層，例如，所形成的光截止層形成為具有0.66H| (ILlH)4I IL的結(jié)構(gòu)，其中，H表示氮化硅層，L表不氧化娃層，而系數(shù)0.66和I表不每層的厚度，這里對于氮化娃層，系數(shù)I代表36nm，貝Ij0.66H表示厚度為36 X 0.66nm = 23.76nm的氮化硅層，而對于氧化硅層，系數(shù)I代表52nm，則IL表示厚度為52nm的氧化硅層。例如，(ILlH)4表示氧化硅以52nm的厚度和氮化硅以36nm的厚度依次交替沉積4次，例如，交替層級的次數(shù)還可為8次、16次、32次等。
[0106]圖7給出了通過模擬得到的示例性光截止層的透過率曲線圖，如圖7所示，該光截止層具有16層膜層，氮化硅層和氧化硅層交替層疊8次，具體結(jié)構(gòu)為:1.15Η,1.07?,1.10Η,1.14L，0.99H，1.09L，1.11H，1.11L，1.17H，0.58L，1.26H，1.15L，0.99H，1.14L，0.98H，0.46L，構(gòu)成總厚度為717nm的光截止層，由圖可見，對于波長為380nm?700nm，例如，380nm?650nm的光，具有這種結(jié)構(gòu)的光截止層的透過率大于95%。
[0107]這里應(yīng)該注意的是，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的延遲膜可以為λ/4波片，λ可以取可見光波長的平均值，或者本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際需要而設(shè)定，本發(fā)明的實(shí)施例對此不進(jìn)行限定。
[0108]對于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)，線偏振片和延遲膜都采用液晶材料形成，例如可以采用涂敷方法而形成，這樣與傳統(tǒng)的用于顯示器的減反射結(jié)構(gòu)相比，減反射結(jié)構(gòu)的厚度可以被顯著減小，而且進(jìn)一步包括截止波長范圍為650nm?780nm的光的光截止層，使得對減反射結(jié)構(gòu)的偏光度具有不利影響的光全部或者部分被截止，從而能夠顯著提升減反射結(jié)構(gòu)的偏光度，例如，減反射結(jié)構(gòu)的偏光度可以從60 %提升到99.7 %，由此實(shí)現(xiàn)厚度顯著減薄而偏光度顯著提升的減反射結(jié)構(gòu)，適用于實(shí)現(xiàn)超薄柔性顯示。
[0109]實(shí)施例四
[0110]本實(shí)施例提供一種顯示器的制造方法。該制造方法包括:提供顯示面板以及制造減反射結(jié)構(gòu)，其中該顯示面板包括彼此對盒的陣列基板以及對置基板，該陣列基板包括:襯底基板以及多個像素單元，形成在該襯底基板上且多個像素單元的每個中形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管，該對置基板設(shè)置在該多個像素單元的出光側(cè);其中制造減反射結(jié)構(gòu)包括:在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板或者對置基板上形成延遲膜、第一取向?qū)雍途€偏振片，第一取向?qū)游挥谘舆t膜與線偏振片之間。
[0111]示例性地，制造減反射結(jié)構(gòu)可以包括:
[0112]在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板或?qū)χ没迳闲纬裳舆t膜；
[0113]在延遲膜上形成第一取向?qū)?；以?br>[0114]在第一取向?qū)由闲纬删€偏振片。
[0115]進(jìn)一步地，制造減反射結(jié)構(gòu)還可以包括:在線偏振片上形成光截止層。
[0116]示例性地，在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板或?qū)χ没迳闲纬裳舆t膜之前，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示器的制造方法中，制造減反射結(jié)構(gòu)還可以包括:
[0117]在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板或?qū)χ没迳闲纬傻诙∠驅(qū)?；以?br>[0118]對第二取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[0119]可選地，在其上形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板上或?qū)χ没迳闲纬裳舆t膜包括:
[0120]在第二取向?qū)由贤糠蟀删酆弦壕Ш凸庖l(fā)劑的第二材料層；
[0121]對第二材料層進(jìn)行取向固化。
[0122]可選地，在制造減反射結(jié)構(gòu)的過程中，在延遲膜上形成第一取向?qū)又?，還可以包括:對第一取向?qū)舆M(jìn)行摩擦取向。
[012