ι，小于ΙΟμπι，而與厚度大約為120-250μπι的現(xiàn)有減反射結(jié)構(gòu)相比，厚度顯著減小，而且具有該結(jié)構(gòu)的減反射結(jié)構(gòu)，其偏光度能夠提升到99.7%，而利于實(shí)現(xiàn)超薄顯不。
[0047]示例性地，光截止層108可構(gòu)造為截止特定波長(zhǎng)范圍的光，例如，截止波長(zhǎng)范圍為650nm?780nm的光，優(yōu)選地，截止波長(zhǎng)范圍為700nm?780nm的光，這樣可以僅截止部分的紅外光，而并非截止全部紅外光，從而可以大大提高偏光度，又不會(huì)影響顯示。
[0048]這樣，通過(guò)提供光截止層108，其濾光作用使得偏光度得到很大的提升，從而可以在厚度減薄的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)具有高偏光度的減反射結(jié)構(gòu)，從而能很好的應(yīng)用于顯示器，實(shí)現(xiàn)超薄柔性顯示。
[0049]示例性地，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光截止層108可以包括交替設(shè)置的多個(gè)高折射率層和多個(gè)低折射率層，該多個(gè)高折射率層的每層的厚度可以相等或不相等，該多個(gè)低折射率層的每層的厚度也可以相等或不相等，高折射率層的厚度也可以等于或不等于低折射率層的厚度，本發(fā)明的實(shí)施例并不對(duì)此進(jìn)行限定。
[0050]例如，該高折射率層可以為氮化硅層，該低折射率層可以為氧化硅層，也就是，光截止層108可以包括交替設(shè)置的多層氮化硅層和多層氧化硅層。例如，可以采用等離子體氣相沉積(PECVD)的方法交替沉積氮化硅層和氧化硅層，其中沉積氮化硅層的反應(yīng)氣體可為SiH4、NH3和N2的混合氣體，例如，該混合氣體中，SiH4、NH3和N2的流量比可為16:4:1;沉積氧化硅層的反應(yīng)氣體可為SiH4、N02和他的混合氣體，例如，該混合氣體中，SiH4、NH3和N2的流量比可為40:4:1。在實(shí)際中，可通過(guò)控制反應(yīng)時(shí)間來(lái)控制膜層的厚度，通過(guò)反應(yīng)氣體氣路的打開(kāi)和關(guān)閉來(lái)實(shí)現(xiàn)多層膜交替沉積。
[0051]這里應(yīng)該注意的是，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的延遲膜可以為λ/4波片，λ可以取可見(jiàn)光波長(zhǎng)的平均值，或者本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際需要而設(shè)定，本發(fā)明的實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限定。
[0052]對(duì)于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)，線偏振片和延遲膜都采用液晶材料形成，例如可以采用涂敷方法而形成，這樣與傳統(tǒng)的用于顯示器的減反射結(jié)構(gòu)相比，減反射結(jié)構(gòu)的厚度可以被顯著減小，而且進(jìn)一步包括截止波長(zhǎng)范圍為650nm?780nm的光的光截止層，使得對(duì)減反射結(jié)構(gòu)的偏光度具有不利影響的光全部或者部分被截止，從而能夠顯著提升減反射結(jié)構(gòu)的偏光度，例如，減反射結(jié)構(gòu)的偏光度可以從60 %提升到99.7 %，由此實(shí)現(xiàn)厚度顯著減薄而偏光度顯著提升的減反射結(jié)構(gòu)，適用于實(shí)現(xiàn)超薄柔性顯示。
[0053]實(shí)施例二
[0054]本實(shí)施例提供另一種減反射結(jié)構(gòu)。如圖1b所示，為減反射結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，該減反射結(jié)構(gòu)101順次包括:第一取向?qū)?031、延遲膜102、線偏振片104和第二取向?qū)?03。第一取向?qū)?031設(shè)置在延遲膜102的入光側(cè);線偏振片104設(shè)置在延遲膜102的出光側(cè)，其中，該延遲膜和該線偏振片包括液晶。
[0055]需要說(shuō)明的是，在這里出光側(cè)是相對(duì)于顯示光而言的，出光側(cè)指的是位于顯示光的出光方向上的一側(cè)，而相應(yīng)的以下描述中的入光側(cè)指的是位于顯示光的來(lái)光方向上的一側(cè)，如圖1所示，LI標(biāo)注了顯示光的出光方向。
[0056]示例性地，該延遲膜和該線偏振片中包括的液晶可以為可聚合液晶，線偏振片104可以包括二向色性染料、可聚合液晶和光引發(fā)劑，延遲膜102可以包括可聚合液晶和光引發(fā)劑。其中，二向色性染料可為Xll(BASF)或S-428;可聚合液晶可為L(zhǎng)C242(merck)等普通向列相液晶，光引發(fā)劑可為184。
[0057]示例性地，線偏振片104可以包括質(zhì)量百分比為1%_20%的二向色性染料、質(zhì)量百分比為75 % -95 %的可聚合液晶和質(zhì)量百分比為0.1 %-5 %的光引發(fā)劑。備選地，二向色性染料、可聚合液晶和光引發(fā)劑的百分含量分別為10%、87.5%和2.5%。
[0058]示例性地，延遲膜102可以包括重量百分比為75%_99.5%的可聚合液晶和重量百分比為0.5 % -25 %的光引發(fā)劑。
[0059]備選地，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)還可以包括光截止層，該光截止層設(shè)置在線偏振片的出光側(cè)且構(gòu)造為截止特定波長(zhǎng)范圍的光。備選地，光截止層108還可以設(shè)置在第二取向?qū)?09的出光側(cè)。
[0060]示例性地，第一取向?qū)?031、第二取向?qū)?03的厚度可分別在0.05μπι?0.15μπι的厚度范圍內(nèi)，例如，可以都為0.Ιμπι。
[0061 ] 示例性地，線偏振片104的厚度可為2.5μηι?3.5μηι，例如，為3μηι。
[0062]示例性地，延遲膜102的厚度可為1.5μηι?2.5μηι，例如，為2μηι。
[0063]示例性地，光截止層108的厚度可為0.06μπι?0.08μπι，例如，為0.07μπι。
[0064]示例性地，光截止層108可構(gòu)造為截止特定波長(zhǎng)范圍的光，例如，截止波長(zhǎng)范圍為650nm?780nm的光，優(yōu)選地，截止波長(zhǎng)范圍為700nm?780nm的光，這樣可以僅截止部分的紅外光，而并非截止全部紅外光，從而可以大大提高偏光度，又不會(huì)影響顯示。
[0065]這樣，通過(guò)提供光截止層108，其濾光作用使得偏光度得到很大的提升，從而可以在厚度減薄的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)具有高偏光度的減反射結(jié)構(gòu)，從而能很好的應(yīng)用于顯示器，實(shí)現(xiàn)超薄柔性顯示。
[0066]示例性地，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光截止層108可以包括交替設(shè)置的多個(gè)高折射率層和多個(gè)低折射率層，該多個(gè)高折射率層的每層的厚度可以相等或不相等，該多個(gè)低折射率層的每層的厚度也可以相等或不相等，高折射率層的厚度也可以等于或不等于低折射率層的厚度，本發(fā)明的實(shí)施例并不對(duì)此進(jìn)行限定。
[0067]例如，該高折射率層可以為氮化硅層，該低折射率層可以為氧化硅層，也就是，光截止層108可以包括交替設(shè)置的多層氮化硅層和多層氧化硅層。例如，可以采用等離子體氣相沉積(PECVD)的方法交替沉積氮化硅層和氧化硅層，其中沉積氮化硅層的反應(yīng)氣體可為SiH4、NH3和N2的混合氣體，例如，該混合氣體中，SiH4、NH3和N2的流量比可為16:4:1;沉積氧化硅層的反應(yīng)氣體可為SiH4、N02和他的混合氣體，例如，該混合氣體中，SiH4、NH3和N2的流量比可為40:4:1。在實(shí)際中，可通過(guò)控制反應(yīng)時(shí)間來(lái)控制膜層的厚度，通過(guò)反應(yīng)氣體氣路的打開(kāi)和關(guān)閉來(lái)實(shí)現(xiàn)多層膜交替沉積。
[0068]這里應(yīng)該注意的是，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的延遲膜可以為λ/4波片，λ可以取可見(jiàn)光波長(zhǎng)的平均值，或者本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際需要而設(shè)定，本發(fā)明的實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限定。
[0069]對(duì)于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)，線偏振片和延遲膜都采用液晶材料形成，例如可以采用涂敷方法而形成，這樣與傳統(tǒng)的用于顯示器的減反射結(jié)構(gòu)相比，減反射結(jié)構(gòu)的厚度可以被顯著減小，而且進(jìn)一步包括截止波長(zhǎng)范圍為650nm?780nm的光的光截止層，使得對(duì)減反射結(jié)構(gòu)的偏光度具有不利影響的光全部或者部分被截止，從而能夠顯著提升減反射結(jié)構(gòu)的偏光度，例如，減反射結(jié)構(gòu)的偏光度可以從60 %提升到99.7 %，由此實(shí)現(xiàn)厚度顯著減薄而偏光度顯著提升的減反射結(jié)構(gòu)，適用于實(shí)現(xiàn)超薄柔性顯示。
[0070]實(shí)施例三
[0071 ]本實(shí)施例提供一種制造如實(shí)施例一和實(shí)施例二所述的減反射結(jié)構(gòu)的制造方法，下面以制造實(shí)施例一的減反射結(jié)構(gòu)為例對(duì)根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)的制造方法進(jìn)行描述。
[0072]示例性地，根據(jù)本實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)的制造方法，包括:
[0073]準(zhǔn)備基板；
[0074]在基板上形成延遲膜、第一取向?qū)雍途€偏振片，
[0075]其中第一取向?qū)游挥谘舆t膜與線偏振片之間，延遲膜和線偏振片包括液晶。
[0076]備選地，在根據(jù)本實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)的制造方法中，在基板上形成延遲膜、第一取向?qū)雍途€偏振片可以包括:在基板上形成延遲膜;在延遲膜上形成第一取向?qū)?；以及在第一取向?qū)由闲纬删€偏振片。
[0077]備選地，在根據(jù)本實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)的制造方法中，在基板上形成延遲膜、第一取向?qū)雍途€偏振片包括:在基板上形成線偏振片;在線偏振片上形成第一取向?qū)?；以及在第一取向?qū)由闲纬裳舆t膜。
[0078]進(jìn)一步地，以上形成延遲膜、取向?qū)?、線偏振片的示例性步驟可以參考下面的實(shí)施例四中顯示器的制造方法，這里將不進(jìn)行贅述。
[0079]本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該注意的是，這里描述的各個(gè)部件的制造方法也同樣適應(yīng)于實(shí)施例二所述的減反射結(jié)構(gòu)的制造，只不過(guò)需要改變各個(gè)步驟的執(zhí)行順序，為了簡(jiǎn)便，這里將省略其具體描述。
[0080]實(shí)施例三
[0081]本實(shí)施例提供一種顯示器。如圖2所示，為具有減反射結(jié)構(gòu)的顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖，該顯示器包括:顯示面板100和減反射結(jié)構(gòu)101，其中該減反射結(jié)構(gòu)101順次包括:延遲膜102、第一取向?qū)?03和線偏振片104。第一取向?qū)?03設(shè)置在延遲膜102的出光側(cè);線偏振片104設(shè)置在第一取向?qū)?03的出光側(cè)。圖2中示出的示例中減反射結(jié)構(gòu)101設(shè)置在該顯示面板100的出光側(cè)，但除圖2示出的示例之外，該減反射結(jié)構(gòu)101還可以設(shè)置在顯示面板100的內(nèi)部。
[0082]需要說(shuō)明的是，在這里出光側(cè)是相對(duì)于顯示光而言的，出光側(cè)指的是位于顯示光的出光方向上的一側(cè)，而相應(yīng)的以下描述中的入光側(cè)指的是位于顯示光的來(lái)光方向上的一側(cè)，如圖2所示，LI標(biāo)注了顯示光的出光方向。
[0083]例如，如圖3所示，示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的減反射結(jié)構(gòu)設(shè)置在顯示面板內(nèi)的顯示器，該顯示器中的顯示面板100包括:陣列基板111和對(duì)置基板107，其中，陣列基板111包括:襯底基板105和多個(gè)像素單元106。多個(gè)像素單元106形成在該襯底基板105上且該多個(gè)像素單元106的每個(gè)中形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管;對(duì)置基板107，在該多個(gè)像素單兀106的出光側(cè)與陣列基板111對(duì)盒，其中該減反射結(jié)構(gòu)101設(shè)置在該陣列基板111與該對(duì)置基板107之間。在圖3中，該減反射結(jié)構(gòu)101設(shè)置在對(duì)置基板107和陣列基板111之間；備選地，該減反射結(jié)構(gòu)101還可以設(shè)置在對(duì)置基板的與陣列基板相反的一側(cè)。
[0084]例如，如圖4a所示，減反射結(jié)構(gòu)1I設(shè)置在對(duì)置基板107和陣列基板111之間，多個(gè)像素單元106形成在襯底基板105上，且多個(gè)像素單元106的每個(gè)中形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管，在形成有多個(gè)像素單元106的襯底基板上形成減反射結(jié)構(gòu)101。備選地，在減反射結(jié)構(gòu)101和形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管的襯底基板105之間還可以形成有平坦化層110，該平坦化層110可利用發(fā)明人已知的材料而采用反刻法、玻璃回流法、旋涂玻璃法、化學(xué)機(jī)械平坦化法等形成。
[0085]示例性地，如圖4b所示，減反射結(jié)構(gòu)101還可以設(shè)置在對(duì)置基板107與陣列基板111相反的一側(cè)，其中多個(gè)像素單元106形成在襯底基板105上，且該多個(gè)像素單元106的每個(gè)中形成有有機(jī)發(fā)光二極管和薄膜晶體管，該減反射結(jié)構(gòu)101