中的柱狀體)，第二區(qū)域A2則未設置隔墊物。
[0044]在第一區(qū)域Al中，平坦層3與襯底基板I之間設置的墊高圖形包括:與顯示區(qū)域中的黑矩陣5和/或黑邊框6在一個掩膜工藝中同層同材料形成的第一墊高圖形21，以及與顯示區(qū)域中的彩色濾光層7在一個掩膜工藝中同層同材料形成的第二墊高圖形22。
[0045]進一步參考圖4，圖4為彩膜基板的俯視圖，其中，位于第一區(qū)域Al的圓狀圖形即為隔墊物。這里需要給予說明的是，圖4中橢圓形虛線處為彩膜基板在制作過程中，需要對掩膜板進行測距的位置，因此掩膜板上不能設置圖形?，F有技術中，襯底基板上該處為空白區(qū)域，該區(qū)域與周邊區(qū)域的高度差一般> 4 μ m，這個高度差會在后續(xù)PI Rubbing工藝(即對涂布的PI層進行摩擦的工藝，)中磨損Rubbing Cloth (摩擦布)，進而影響顯示區(qū)域的Rubbing均一"性，造成Rubbing Mura (PI涂層不均勾)。本實現方式中，橢圓形虛線處雖然不設置有隔墊物，但可以通過墊高圖層來減小與周邊區(qū)域的段差(一般< 3μπι)，能夠有效降低對Rubbing Cloth的損傷，從而解決Rubbing Mura的問題。
[0046]以上是本實現方式的彩膜基板，可以看出，由于本發(fā)明在非顯示區(qū)域中的第一區(qū)域上設置了墊高圖形，因此相比于現有技術，在陣列基板與彩膜基板對盒后，位于第一區(qū)域上的隔墊物與陣列基板的間隙得到了明顯的減小，當整個顯示面板受到外力后，第一區(qū)域上的隔墊物能夠更早地接觸陣列基板，從而為顯示區(qū)域的像素分擔更多的應力，避免了像素因受力而導致顯示不均的現象發(fā)生。此外，本實施例復用原有的掩膜工藝制作墊高圖形，因此不會增加彩膜基板的制造成本以及制造時間，具有很高的實用價值。
[0047]當然，需要給予說明的是，本實施例彩膜基板的墊高圖形可以是一個或多個，且還可以與其它現有的功能圖形由同一材料層制作。
[0048]此外，本發(fā)明還提供一種包括上述彩膜基板的顯示裝置，該顯示裝置在由于在非顯示區(qū)域上的支撐更為有效，因此當顯示面板受到外力作用后，不易出現顯示不均的現象。
[0049]對應地，本發(fā)明的另一實施例還提供一種彩膜面板的制作方法，彩膜面板包括有形成平坦層的非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域包括設置隔墊物的第一區(qū)域，以及未設置隔墊物的第二區(qū)域；其中，本實施例的制作方法包括:
[0050]在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形。
[0051]此外，在上述基礎之上，本實施例制作方法還包括:
[0052]在顯示區(qū)域形成隔墊物的步驟；
[0053]其中，為了進一步減少顯示區(qū)域所承受的應力，本實施例的制作方法在第一區(qū)域的隔墊物相對于所述襯底基板的設置高度不低于顯示區(qū)域的隔墊物相對于所述襯底基板的設置高度。
[0054]下面對本實施例的制作方法進行詳細描述:
[0055]如圖6所示，本實施例的制作方法包括:
[0056]步驟一，參考圖6A，通過一次掩膜工藝在襯底基板I上的顯示區(qū)域上形成黑矩陣5，在顯示區(qū)域的周邊形成黑邊框6，在非顯示區(qū)域上的第一區(qū)域Al形成第一墊高圖形21。
[0057]步驟二，參考圖6B，通過一次掩膜工藝，在顯示區(qū)域形成彩色濾光層7，并在非顯示區(qū)域的第一區(qū)域Al上形成第二墊高圖形22。
[0058]這里需要給予說明的，步驟二中，還可以在第二區(qū)域A2上形成第二墊高圖形22，從而整體改善顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域的段差。
[0059]步驟三，參考圖6C，沉積平坦層3，該平坦層3完全覆蓋整個顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域。
[0060]步驟四，參考圖6D，通過一次掩膜工藝，在顯示區(qū)域以及第一區(qū)域Al上形成隔墊物(即圖6D中的柱狀圖形)。
[0061]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種彩膜基板，包括形成有平坦層的非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域中設置有隔墊物，所述第二區(qū)域中未設置隔墊物； 其特征在于， 所述第一區(qū)域還設置有位于所述平坦層與襯底基板之間的墊高圖形。2.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，還包括: 顯示區(qū)域，所述顯示區(qū)域設置有隔墊物； 其中，所述第一區(qū)域的隔墊物相對于所述彩膜基板的襯底基板的高度不低于所述顯示區(qū)域中的隔墊物相對于所述彩膜基板的襯底基板的高度。3.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于， 所述顯示區(qū)域還形成由黑矩陣和/或彩色濾光層； 所述墊高圖形包括: 與所述顯示區(qū)域的黑矩陣同層同材料形成的第一墊高圖形，和/或與所述顯示區(qū)域的彩色濾光層同層同材料形成的第二墊高圖形。4.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于， 所述第二區(qū)域設置有位于所述平坦層與襯底基板之間的墊高圖形。5.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-6任一項所述的彩膜基板。6.一種彩膜面板的制作方法，所述彩膜面板包括有形成平坦層的非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域包括設置隔墊物的第一區(qū)域，以及未設置隔墊物的第二區(qū)域；其特征在于，所述制作方法包括: 在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形。7.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，還包括: 在顯示區(qū)域形成隔墊物的步驟； 其中，所述第一區(qū)域的隔墊物相對于所述襯底基板的設置高度不低于所述顯示區(qū)域的隔墊物。8.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，還包括: 在顯示區(qū)域的襯底基板上，形成黑矩陣和/或彩色濾光層的步驟； 在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形，包括: 在所述平坦層形成前，通過所述黑矩陣的制圖工藝，在所述第一區(qū)域的襯底基板上，形成與所述黑矩陣同一材料層制成的第一墊高圖形；和/或 在所述平坦層形成前，通過所述彩色濾光層的制圖工藝，在所述第一區(qū)域的襯底基板上，形成與所述彩色濾光層同一材料層制成的二墊高圖形。9.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于， 在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形，還包括: 在所述第二區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種彩膜基板、顯示裝置及制作方法。彩膜基板包括：形成有平坦層的非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域中設置有隔墊物，所述第二區(qū)域中未設置隔墊物；其中，所述第一區(qū)域還設置有位于所述平坦層與襯底基板之間的墊高圖形。本發(fā)明的方案可有效避免顯示面板因外力影響，而使像素發(fā)生顯示不均的現象。
【IPC分類】G02F1/1339, G02F1/1335
【公開號】CN105068307
【申請?zhí)枴緾N201510617017
【發(fā)明人】姜晶晶, 肖宇, 李曉光
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年9月24日