一種彩膜基板、顯示裝置及制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器的制作領(lǐng)域，特別是一種彩膜基板、顯示裝置及制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的顯示面板制作過程中，在對(duì)陣列基板與彩膜基板進(jìn)行真空對(duì)盒時(shí)，為了避免像素受力不均而致使周邊顯示不均的現(xiàn)象發(fā)生，需要維持盒厚的均一性。
[0003]如圖1所示，現(xiàn)有的做法是在彩膜基板上設(shè)置一些隔墊物(即圖1中的柱狀圖形)。但是目前在非顯示區(qū)域(虛線右側(cè))的隔墊物，卻采用了與顯示區(qū)域(虛線左側(cè))的隔墊物相同的設(shè)計(jì)，而非顯示區(qū)域上設(shè)置的功能圖層顯然要少于顯示區(qū)域。這樣一來，非顯示區(qū)域的隔墊物相比于顯示區(qū)域的隔墊物，與陣列基板TFT存在更大間隙hi。當(dāng)顯示面板受到擠壓時(shí)(如對(duì)顯示面板進(jìn)行切割)，由于非顯示區(qū)域的隔墊物接觸陣列基板的有效面積減少，因此靜摩擦力產(chǎn)生的應(yīng)力多集中于顯示區(qū)域，這使得像素受力不均的問題并沒有得到有效改善。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是解決顯示面板應(yīng)外部受力，而導(dǎo)致像素顯示不均的問題。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，一方面，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種彩膜基板，包括形成有平坦層的非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域中設(shè)置有隔墊物，所述第二區(qū)域中未設(shè)置隔墊物；
[0006]所述第一區(qū)域還設(shè)置有位于所述平坦層與襯底基板之間的墊高圖形。
[0007]其中，所述彩膜基板還包括:
[0008]顯示區(qū)域；
[0009]所述第一區(qū)域的隔墊物相對(duì)于所述彩膜基板的襯底基板的高度不低于所述顯示區(qū)域中的隔墊物相對(duì)于所述彩膜基板的襯底基板的高度。
[0010]其中，所述顯示區(qū)域還形成由黑矩陣和/或彩色濾光層；
[0011]所述墊高圖形包括:與所述顯示區(qū)域的黑矩陣同層同材料形成的第一墊高圖形，和/或與所述顯示區(qū)域的彩色濾光層同層同材料形成的第二墊高圖形。
[0012]優(yōu)選地，所述第二區(qū)域設(shè)置有位于所述平坦層與襯底基板之間的墊高圖形。
[0013]此外，本發(fā)明的實(shí)施例還提供一種包括上述彩膜基板的顯示裝置。
[0014]此外，本發(fā)明的實(shí)施例還提供一種彩膜面板的制作方法，所述彩膜面板包括有形成平坦層的非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域包括設(shè)置隔墊物的第一區(qū)域，以及未設(shè)置隔墊物的第二區(qū)域；其中，所述制作方法包括:
[0015]在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形。
[0016]其中，所述制作方法還包括:
[0017]在顯示區(qū)域形成隔墊物的步驟；
[0018]所述第一區(qū)域的隔墊物相對(duì)于所述襯底基板的設(shè)置高度不低于所述顯示區(qū)域的隔墊物。
[0019]其中，所述制作方法還包括:
[0020]在顯示區(qū)域的襯底基板上，形成黑矩陣和/或彩色濾光層的步驟；
[0021]在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形，包括:
[0022]在所述平坦層形成前，通過所述黑矩陣的制圖工藝，在所述第一區(qū)域的襯底基板上，形成與所述黑矩陣同一材料層制成的第一墊高圖形；和/或
[0023]在所述平坦層形成前，通過所述彩色濾光層的制圖工藝，在所述第一區(qū)域的襯底基板上，形成與所述彩色濾光層同一材料層制成的二墊高圖形。
[0024]其中，在形成所述平坦層前，在所述第一區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形，還包括:
[0025]在所述第二區(qū)域的襯底基板上形成墊高圖形。
[0026]本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
[0027]本發(fā)明的方案在非顯示區(qū)域的隔墊物下方，進(jìn)一步設(shè)置了墊高圖形，因此相比于現(xiàn)有技術(shù)，在陣列基板與彩膜基板對(duì)盒后，位于非顯示區(qū)域的隔墊物與陣列基板的間隙得到了明顯的減小。當(dāng)整個(gè)顯示面板受到外力后，非顯示區(qū)域上的隔墊物能夠更早地接觸到陣列基板，從而為顯示區(qū)域的像素分擔(dān)更多的應(yīng)力，避免了像素出現(xiàn)顯示不均的現(xiàn)象。
【附圖說明】
[0028]圖1為本發(fā)明現(xiàn)的彩膜基板在與陣列基板對(duì)盒后的結(jié)構(gòu)的示意圖；
[0029]圖2至圖5為本發(fā)明的彩膜基板在與陣列基板對(duì)盒后的結(jié)構(gòu)的示意圖；
[0030]圖6A至圖6D為本發(fā)明的彩膜基板的制作方法的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031]為使本發(fā)明要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0032]在現(xiàn)有技術(shù)中，非顯示區(qū)域的隔墊物的設(shè)置高度與陣列基板存在較大的間隙，因此當(dāng)顯示面板受到外力后，顯示區(qū)域上的隔墊物承受較多的應(yīng)力，從而使附近的像素應(yīng)受力而出現(xiàn)顯示不均的現(xiàn)象。有鑒于此，本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種彩膜基板，可有效提高非顯示區(qū)域的隔墊物對(duì)像素提供的保護(hù)力度。
[0033]如圖2所示，本實(shí)施例的彩膜基板包括:
[0034]形成有平坦層3的非顯示區(qū)域(即圖2中封框膠4的右側(cè)區(qū)域)，該非顯示區(qū)域進(jìn)一步包括設(shè)置隔墊物(即圖2中柱狀圖形)的第一區(qū)域Al，以及未設(shè)置隔墊物的第二區(qū)域A2 ；
[0035]需要給予說明的是，平坦層3屬于彩膜基板的現(xiàn)有圖層，是通過沉積而形成的，由于沒有使用掩膜工藝進(jìn)行圖形化處理，因此完全覆蓋了整個(gè)襯底基板上，即上述平坦層3也會(huì)保留在整個(gè)非顯示區(qū)域上。
[0036]其中，上述第一區(qū)域Al還設(shè)置有位于平坦層3與襯底基板I之間的墊高圖形2。
[0037]對(duì)比圖1和圖2可以看出，本實(shí)施例的彩膜基板在第一區(qū)域Al上設(shè)置了墊高圖形2，從而增加了第一區(qū)域Al的隔墊物相對(duì)于襯底基板I的設(shè)置高度。在對(duì)盒后，本實(shí)施例第一區(qū)域Al的隔墊物與陣列基板TFT的間隙h2要遠(yuǎn)小于圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)中的間隙hi。因此當(dāng)對(duì)盒后的顯示面板受力時(shí)，第一區(qū)域Al的隔墊物能夠承擔(dān)更多的應(yīng)力，從而為像素提供更好的保護(hù)，有效避免了像素發(fā)生顯示不均的現(xiàn)象。
[0038]進(jìn)一步地，本實(shí)施例的彩膜基板還包括顯示區(qū)域(即圖2中封框膠4的左側(cè)區(qū)域)，該顯示區(qū)域上也設(shè)置有隔墊物。為了進(jìn)一步減少顯示區(qū)域所承受的應(yīng)力，作為優(yōu)選方案，本實(shí)施例中的第一區(qū)域Al上的隔墊物相對(duì)于襯底基板I的設(shè)置高度不低于顯示區(qū)域的隔墊物對(duì)于襯底基板I的設(shè)置高度。在顯示面板受到外力后，第一區(qū)域Al上的隔墊物先接觸到陣列基板，形成對(duì)陣列基板的支撐。
[0039]下面結(jié)合一個(gè)具體的實(shí)現(xiàn)方式，對(duì)本實(shí)施例的彩膜基板的應(yīng)用進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0040]在本實(shí)現(xiàn)方式中，為不增加彩膜基板的制作成本，復(fù)用彩膜基板原有的黑矩陣和彩色濾光層的掩膜工藝，形成墊高圖形。
[0041]圖3為對(duì)盒后的顯示面板的剖視圖，圖3上半部分為陣列基板TFT，圖3下半部分為彩膜基板，中間設(shè)置有支撐陣列基板TFT與彩膜基板的封框膠4。
[0042]本實(shí)現(xiàn)方式以封框膠4的位置劃分顯示區(qū)域(封框膠4左側(cè))與非顯示區(qū)域(封框膠4右側(cè))。
[0043]具體地，非顯示區(qū)域由第一區(qū)域Al和第二區(qū)域A2組成；第一區(qū)域Al與顯示區(qū)域上均設(shè)置有隔墊物(即圖3