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彩色濾光片基板及其制作方法、液晶面板的制作方法_2

文檔序號:9326077閱讀:來源:國知局
本實(shí)施例中,基板11可為透明的玻璃基板,但本發(fā)明并不限制于此,例如基板11也可為透明的樹脂基板。
[0033]參照圖2B,在基板11上形成黑色矩陣12 ;在本實(shí)施例中,黑色矩陣12可由鉻等黑色金屬形成,但本發(fā)明并不限制于此,例如,黑色矩陣12也可由黑色樹脂形成。
[0034]參照圖2C,在基板11上形成與黑色矩陣12間隔設(shè)置的彩色光阻13 ;其中,彩色光阻13的頂表面131的邊緣下凹。在本實(shí)施例中,進(jìn)一步地,彩色光阻13的頂表面131的兩側(cè)邊緣分別下凹,從而使彩色光阻13的頂表面131呈現(xiàn)中間部分凸出,而兩側(cè)邊緣下凹的形態(tài)。
[0035]在本實(shí)施例中,當(dāng)彩色光阻13采用負(fù)性光阻制作時,進(jìn)一步地利用圖3所示的灰階光罩4在基板11上形成彩色光阻13。這里,圖3所示的灰階光罩4包括:與彩色光阻13的頂表面131的邊緣相對的第一曝光區(qū)41,以及與彩色光阻13的頂表面131的非邊緣(即,彩色光阻13的頂表面131的除邊緣的位置處)相對的第二曝光區(qū)42 ;其中,第一曝光區(qū)41的曝光量小于第二曝光區(qū)42的曝光量。在本實(shí)施例中,灰階光罩4在第一曝光區(qū)41使用光柵結(jié)構(gòu),即孔或狹縫,使得第一曝光區(qū)41能通過部分UV光,以實(shí)現(xiàn)第一曝光區(qū)41的曝光量小于第二曝光區(qū)42的曝光量??梢岳斫獾氖?,上述改變曝光量的方式并不限于此,還可以采用半透膜調(diào)整光透過率來實(shí)現(xiàn),在此不作具體限定。
[0036]作為本發(fā)明的另一實(shí)施方式,當(dāng)彩色光阻13采用正性光阻制作時,第一曝光區(qū)41的曝光量大于第二曝光區(qū)42的曝光量。
[0037]此外,彩色光阻13可為紅色彩色光阻(圖2C中以R表示)或者綠色彩色光阻(圖2C中以G表示)或者藍(lán)色彩色光阻(圖2C中以B表示),但本發(fā)明并不限制于此。在本實(shí)施例中,紅色彩色光阻、綠色彩色光阻、藍(lán)色彩色光阻與黑色矩陣12間隔設(shè)置。進(jìn)一步地,在本實(shí)施例中,彩色光阻13覆蓋黑色矩陣12的頂表面121的部分。
[0038]參照圖2D,形成覆蓋彩色光阻13和黑色矩陣12的導(dǎo)電膜層14 ;在本實(shí)施例中,導(dǎo)電膜層14由氧化銦錫ITO形成,但本發(fā)明并不限制于此。進(jìn)一步地,導(dǎo)電膜層14覆蓋彩色光阻13的頂表面131及黑色矩陣12的未被彩色光阻13覆蓋的頂表面121。
[0039]參照圖2E,在導(dǎo)電膜層14上形成位于黑色矩陣12上方的間隔保持體(PhotoSpacer) 15。進(jìn)一步地,間隔保持體15位于未被彩色光阻13覆蓋的頂表面121的上方。
[0040]圖4是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的液晶面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0041]參照圖4,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的液晶面板包括:對盒設(shè)置的圖1所示的彩色濾光片基板I和陣列基板2,以及夾設(shè)于二者之間的液晶層3。在本實(shí)施例中,為了避免贅述,不再詳細(xì)對陣列基板2進(jìn)行詳細(xì)描述,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可參照現(xiàn)有的關(guān)于陣列基板的技術(shù)來獲知陣列基板2的具體結(jié)構(gòu)。
[0042]綜上所述,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,能夠在通過增加彩色光阻厚度提高顯示色域的同時,避免大視角觀看出現(xiàn)的漏光和混色的現(xiàn)象。
[0043]雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明,但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解:在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下,可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種彩色濾光片基板,其特征在于,包括: 基板(11); 黑色矩陣(12),設(shè)置在所述基板(11)上; 彩色光阻(13),設(shè)置在所述基板(11)上且與所述黑色矩陣(12)間隔設(shè)置; 其中,所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的邊緣下凹。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板,其特征在于,所述彩色濾光片基板還包括:導(dǎo)電膜層(14),覆蓋所述彩色光阻(13)和所述黑色矩陣(12)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩色濾光片基板,其特征在于,所述彩色濾光片基板還包括:間隔保持體(15),設(shè)置在所述導(dǎo)電膜層(14)上并位于所述黑色矩陣(12)的上方。4.一種彩色濾光片的制作方法,其特征在于,包括: 提供一基板(11); 在所述基板(11)上形成黑色矩陣(12); 在所述基板(11)上形成與所述黑色矩陣(12)間隔設(shè)置的彩色光阻(13); 其中,所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的邊緣下凹。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制作方法,其特征在于,利用灰階光罩(4)在所述基板(11)上形成所述彩色光阻(13)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述灰階光罩(4)包括:與所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的邊緣相對的第一曝光區(qū)(41)以及與所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的非邊緣相對的第二曝光區(qū)(42);其中,當(dāng)所述彩色光阻(13)采用負(fù)性光阻制作時,所述第一曝光區(qū)(41)的曝光量小于所述第二曝光區(qū)(42)的曝光量。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述灰階光罩(4)包括:與所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的邊緣相對的第一曝光區(qū)(41)以及與所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的非邊緣相對的第二曝光區(qū)(42);其中,當(dāng)所述彩色光阻(13)采用正性光阻制作時,所述第一曝光區(qū)(41)的曝光量大于所述第二曝光區(qū)(42)的曝光量。8.根據(jù)權(quán)利要求4至7任一項(xiàng)所述的制作方法,其特征在于,還包括:形成覆蓋所述彩色光阻(13)和所述黑色矩陣(12)的導(dǎo)電膜層(14)。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制作方法,其特征在于,還包括:在所述導(dǎo)電膜層(14)上形成位于所述黑色矩陣(12)上方的間隔保持體(15)。10.一種液晶面板,其特征在于,包括權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的彩色濾光片基板。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種彩色濾光片基板,其包括:基板(11);黑色矩陣(12),設(shè)置在所述基板(11)上;彩色光阻(13),設(shè)置在所述基板(11)上且與所述黑色矩陣(12)間隔設(shè)置;其中,所述彩色光阻(13)的頂表面(131)的邊緣下凹。本發(fā)明還公開一種彩色濾光片基板的制作方法以及具有該彩色濾光片基板的液晶面板。本發(fā)明能夠在通過增加彩色光阻厚度提高顯示色域的同時,避免大視角觀看出現(xiàn)的漏光和混色的現(xiàn)象。
【IPC分類】G02F1/1335
【公開號】CN105044967
【申請?zhí)枴緾N201510491548
【發(fā)明人】雨文駒, 王威, 虞曉江
【申請人】武漢華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年8月11日
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