一種顯示基板及其制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及其制作方法和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在顯示行業(yè)中，高PPI產(chǎn)品是目前一個(gè)主流發(fā)展方向。PPI是指單位面積上像素 的個(gè)數(shù)。PPI越高，產(chǎn)品的顆粒感越低，越接近平面顯示的終極目標(biāo)：類打印畫質(zhì)。然而，隨 著產(chǎn)品PPI的提高，對(duì)制程工藝要求也越高。在眾多的問題中，最為明顯的就是對(duì)摩擦取向 (Rubbing)工藝要求提高很多。現(xiàn)有的彩膜基板的摩擦取向工藝通常包括以下步驟：先形 成一層取向膜，在取向膜上形成支撐隔墊物（PS)，然后采用摩擦取向裝置對(duì)取向膜進(jìn)行摩 擦取向。由于支撐隔墊物具有一定的高度，在采用摩擦取向裝置對(duì)取向膜摩擦取向時(shí)，支撐 隔墊物的陰影處難以被摩擦到，形成不了摩擦溝槽，從而會(huì)造成支撐隔墊物陰影處漏光，導(dǎo) 致顯示裝置畫面品質(zhì)下降。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 有鑒于此，本發(fā)明提供一種顯示基板及其制作方法和顯示裝置，用以解決因支撐 隔墊物對(duì)摩擦取向的影響，造成顯示裝置漏光的問題。
[0004] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種顯示基板，包括：襯底基板以及設(shè)置于所述 襯底基板上的取向?qū)雍投鄠€(gè)支撐隔墊物，所述取向?qū)訛椴捎媚Σ敛紝?duì)形成于所述襯底基板 上的取向膜摩擦取向形成，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間 的距離與在摩擦取向時(shí)所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸長(zhǎng)度滿足第一預(yù)設(shè)條件，以 使得摩擦布的一纖維每一次與所述取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于或等 于第一閾值。
[0005] 優(yōu)選地，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離為66微米，所述第一閾值為2。
[0006] 優(yōu)選地，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩膜基板還包括呈行列方式排列的多個(gè) 濾光單元，所述摩擦取向方向?yàn)樗鰹V光單元的列方向。
[0007] 優(yōu)選地，部分所述濾光單元設(shè)置所述支撐隔墊物，部分所述濾光單元不設(shè)置所述 支撐隔墊物，在行方向和列方向上，設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元和不設(shè)置所述支撐隔 墊物的濾光單元間隔排布。
[0008] 優(yōu)選地，部分行所述濾光單元設(shè)置所述支撐隔墊物，部分行所述濾光單元不設(shè)置 所述支撐隔墊物，設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元行與不設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元 行間隔設(shè)置。
[0009] 優(yōu)選地，設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元行中，每一所述濾光單元設(shè)置一所述支 撐隔墊物。
[0010] 優(yōu)選地，每一所述濾光單元設(shè)置一所述支撐隔墊物，所有奇數(shù)行所述濾光單元對(duì) 應(yīng)的支撐隔墊物的排列方式相同，所有偶數(shù)行所述濾光單元對(duì)應(yīng)的支撐隔墊物的排列方式 相同，位于同一列的濾光單元中，相鄰的濾光單元對(duì)應(yīng)的支撐隔墊物錯(cuò)開排列。
[0011] 優(yōu)選地，位于同一列的濾光單元中，相鄰的濾光單元對(duì)應(yīng)的支撐隔墊物在行方向 上的錯(cuò)開距離為6. 0-7. 0微米。
[0012] 優(yōu)選地，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離與 在摩擦取向時(shí)所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸長(zhǎng)度還滿足第二預(yù)設(shè)條件，以使得所 述摩擦布的一纖維在每一摩擦取向周期內(nèi)與所述取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的 個(gè)數(shù)小于或等于第二閾值。
[0013] 優(yōu)選地，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離為66微米，所述第二閾值為67。
[0014] 優(yōu)選地，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離滿 足第三預(yù)設(shè)條件，以使得相鄰的所述支撐隔墊物在一平面上的投影的重疊面積小于或等于 第三閾值，所述平面為與所述摩擦取向方向垂直的平面。
[0015] 優(yōu)選地，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離為66微米，所述第三閾值為3. 6。
[0016] 優(yōu)選地，所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)和所述支撐隔墊物的頂端面積的乘積大于或等于 第四閾值。
[0017] 本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述顯示基板。
[0018] 本發(fā)明還提供一種顯示基板的制作方法，包括：
[0019] 提供一襯底基板；
[0020] 在所述襯底基板上形成取向膜；
[0021] 在所述取向膜上形成支撐隔墊物；
[0022] 采用摩擦布對(duì)所述取向膜進(jìn)行摩擦取向；
[0023] 其中，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離與在 摩擦取向時(shí)所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸長(zhǎng)度滿足第一預(yù)設(shè)條件，以使得摩擦布 的一纖維每一次與所述取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于第一閾值。
[0024] 本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：
[0025] 在顯示基板上設(shè)置支撐隔墊物時(shí)，考慮摩擦取向時(shí)摩擦布的纖維與取向膜的接觸 長(zhǎng)度，使得摩擦布的一纖維每一次與取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于或等于第 一閾值，從而使得減輕因支撐隔墊物對(duì)摩擦取向的影響而造成的漏光問題。
【附圖說明】
[0026] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的摩擦取向裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027] 圖2為摩擦布的纖維與支撐隔墊物的位置關(guān)系示意圖；
[0028] 圖3為現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029] 圖4為本發(fā)明實(shí)施例一的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030] 圖5為本發(fā)明實(shí)施例二的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031] 圖6為本發(fā)明實(shí)施例三的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032] 圖7為包含圖3所示的彩膜基板的顯示裝置與包含圖6所示的彩膜基板的顯示裝 置的顯示性能的比對(duì)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0033] 請(qǐng)參考圖1，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的摩擦取向裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，該摩擦取向裝置包 括摩擦輥101，摩擦輥101的表面設(shè)置有摩擦布102,摩擦布102上設(shè)由纖維103。在摩擦 取向時(shí)，基臺(tái)300載著涂覆有取向膜的基板200向摩擦輥101移動(dòng)，摩擦輥101按照一定速 度旋轉(zhuǎn)，并且，摩擦輥101轉(zhuǎn)動(dòng)的切線方向與基臺(tái)300行進(jìn)方向呈一定角度，通過控制摩擦 布102上的纖維103壓入取向膜的深度等工藝參數(shù)，從而在取向膜上形成具有一定角度并 均勻排列的溝槽。
[0034] 當(dāng)對(duì)設(shè)置有支撐隔墊物的顯示基板進(jìn)行摩擦取向時(shí)，由于支撐隔墊物具有一定的 高度，支撐隔墊物的陰影處難以被摩擦取向。
[0035] 經(jīng)過多次實(shí)驗(yàn)表明，摩擦布的一纖維每一次與取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的支撐隔墊物的 個(gè)數(shù)，是影響支撐隔墊物陰影區(qū)域大小的主要因素。
[0036] 下面通過實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行證明。
[0037] 第一實(shí)驗(yàn)：
[0038] 請(qǐng)參考下表：
[0039]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種顯示基板，包括襯底基板以及設(shè)置于所述襯底基板上的取向?qū)雍投鄠€(gè)支撐隔墊 物，所述取向?qū)訛椴捎媚Σ敛紝?duì)形成于所述襯底基板上的取向膜摩擦取向形成，其特征在 于，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離與在摩擦取向時(shí) 所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸長(zhǎng)度滿足第一預(yù)設(shè)條件，以使得摩擦布的一纖維每 一次與所述取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于或等于第一閾值。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離 為66微米，所述第一閾值為2。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩 膜基板還包括呈行列方式排列的多個(gè)濾光單元，所述摩擦取向方向?yàn)樗鰹V光單元的列方 向。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板，其特征在于，部分所述濾光單元設(shè)置所述支撐隔 墊物，部分所述濾光單元不設(shè)置所述支撐隔墊物，在行方向和列方向上，設(shè)置所述支撐隔墊 物的濾光單元和不設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元間隔排布。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板，其特征在于，部分行所述濾光單元設(shè)置所述支撐 隔墊物，部分行所述濾光單元不設(shè)置所述支撐隔墊物，設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元行 與不設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元行間隔設(shè)置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示基板，其特征在于，設(shè)置所述支撐隔墊物的濾光單元行 中，每一所述濾光單元設(shè)置一所述支撐隔墊物。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板，其特征在于，每一所述濾光單元設(shè)置一所述支撐 隔墊物，所有奇數(shù)行所述濾光單元對(duì)應(yīng)的支撐隔墊物的排列方式相同，所有偶數(shù)行所述濾 光單元對(duì)應(yīng)的支撐隔墊物的排列方式相同，位于同一列的濾光單元中，相鄰的濾光單元對(duì) 應(yīng)的支撐隔墊物錯(cuò)開排列。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板，其特征在于，位于同一列的濾光單元中，相鄰的濾 光單元對(duì)應(yīng)的支撐隔墊物在行方向上的錯(cuò)開距離為6. 0-7.O微米。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相 鄰的所述支撐隔墊物之間的距離與在摩擦取向時(shí)所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸 長(zhǎng)度還滿足第二預(yù)設(shè)條件，以使得所述摩擦布的一纖維在每一摩擦取向周期內(nèi)與所述取向 膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于或等于第二閾值。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示基板，其特征在于，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離 為66微米，所述第二閾值為67。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，在所述取向膜的摩擦取向方向上， 相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離滿足第三預(yù)設(shè)條件，以使得相鄰的所述支撐隔墊物在一 平面上的投影的重疊面積小于或等于第三閾值，所述平面為與所述摩擦取向方向垂直的平 面。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示基板，其特征在于，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距 離為66微米，所述第三閾值為3. 6。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1-12任一項(xiàng)所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù) 和所述支撐隔墊物的頂端面積的乘積大于或等于第四閾值。
14. 一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-13任一項(xiàng)所述的顯示基板。
15. -種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括： 提供一襯底基板； 在所述襯底基板上形成取向膜； 在所述取向膜上形成支撐隔墊物； 采用摩擦布對(duì)所述取向膜進(jìn)行摩擦取向； 其中，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離與在摩擦 取向時(shí)所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸長(zhǎng)度滿足第一預(yù)設(shè)條件，以使得摩擦布的一 纖維每一次與所述取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于第一閾值。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種顯示基板及其制作方法和顯示裝置，該顯示基板包括襯底基板以及設(shè)置于所述襯底基板上的取向?qū)雍投鄠€(gè)支撐隔墊物，所述取向?qū)訛椴捎媚Σ敛紝?duì)形成于所述襯底基板上的取向膜摩擦取向形成，在所述取向膜的摩擦取向方向上，相鄰的所述支撐隔墊物之間的距離與在摩擦取向時(shí)所述摩擦布的纖維與所述取向膜的接觸長(zhǎng)度滿足第一預(yù)設(shè)條件，以使得摩擦布的一纖維每一次與所述取向膜接觸時(shí)經(jīng)過的所述支撐隔墊物的個(gè)數(shù)小于或等于第一閾值。本發(fā)明可以減少支撐隔墊物對(duì)摩擦取向的影響，減輕顯示裝置漏光現(xiàn)象。
【IPC分類】G02F1-1337, G02F1-1339
【公開號(hào)】CN104820317
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510275808
【發(fā)明人】李鴻鵬, 李建, 范宇光
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請(qǐng)日】2015年5月26日