顯示基板、顯示面板、顯示裝置及顯示基板的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種顯示基板、顯示面板、顯示裝置及顯示基板的制造方法。
【背景技術】
[0002]圖1 所不為目前的 TFT-LCD (Thin Film Transistor一Liquid Crystal Display,液晶顯示器)的結構示意圖。如圖1所示，目前的TFT-1XD包括顯示面板以及背光模組，其中顯示面板由彩膜基板(CF)I以及陣列基板(TFT) 2通過封框膠6對盒而成，背光模組主要包括邊框、光源3、導光板4、底反射片5以及光學膜片等，其中通常導光板4設置于陣列基板2的下方，光源3設置在邊框上，并位于導光板4的一側，光源發(fā)出的光線進入導光板4內(nèi)，并經(jīng)導光板底部的底反射片5進行反射后，進入光學膜片，最終從陣列基板2和彩膜基板I的顯示區(qū)域出射。
[0003]背光模組所采用的光源一般有LED (發(fā)光二極管)光源和EL (電致發(fā)光片)光源兩種，這兩種光源各有優(yōu)缺點。其中LED光源優(yōu)點在于壽命較長，但是工藝較復雜，而EL光源的工藝簡單，但是壽命相對較短。EL是一種直接將電能轉(zhuǎn)化為光能的結構。EL是通過加在兩個電極的交流電壓產(chǎn)生交流電場，而電場激發(fā)的電子轟擊熒光物質(zhì)，引起電子的能級躍迀、變化、復合而發(fā)射出高效率冷光的一種物理現(xiàn)象，即電致發(fā)光。圖2所示為一種EL光源的結構示意圖。如圖2所示，EL光源包括:位于上層的金屬電極7、與金屬電極7相對的可透光的底部透明電極8、在金屬電極7和底部透明電極8之間的發(fā)光層9以及介電體層9’，該發(fā)光層9通常由熒光物質(zhì)形成。
[0004]傳統(tǒng)的顯示器的光源都是與顯示面板相互獨立，S卩，顯示面板所使用的為外置光源，這樣存在著以下缺點:光源占用空間較大，集成度低；并且，外置光源在顯示器制造組裝過程中可能存在位置偏移誤差，從而導致顯示面板的光學差異性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種顯示基板、顯示面板、顯示裝置及顯示基板的制造方法，能夠在基板上進行背光集成，從而達到了將背光和基板集成一起的技術效果，解決了顯示裝置的顯示面板與光源無法集成的問題。
[0006]本發(fā)明所提供的技術方案如下:
[0007]一種顯不基板，包括:
[0008]襯底基板，包括顯示區(qū)域和周邊區(qū)域；
[0009]形成于所述襯底基板的周邊區(qū)域的光源結構；
[0010]以及，用于限定所述光源結構發(fā)出的光出射方向，以使得所述光源結構所發(fā)出的光朝預定方向出射的遮光結構。
[0011]進一步的，所述顯示基板為彩膜基板，所述襯底基板包括相對的第一表面和第二表面；
[0012]其中，所述襯底基板的第一表面的顯示區(qū)域設置有黑矩陣，
[0013]所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域設置有所述光源結構，且所述光源結構的發(fā)光面面對所述襯底基板的第二表面。
[0014]進一步的，所述遮光結構包括:
[0015]形成于所述襯底基板的第一表面的周邊區(qū)域的第一遮光部，所述第一遮光部包括一由不透光材料制成的框架結構，所述框架結構具有一中空區(qū)，且所述中空區(qū)正對所述光源結構。
[0016]進一步的，所述第一遮光部與所述黑矩陣材質(zhì)相同，并與所述黑矩陣同層設置。
[0017]進一步的，所述遮光結構還包括:
[0018]形成于所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域的第二遮光部，所述第二遮光部包括第一遮光罩結構，所述第一遮光罩結構具有一開口，且所述第一遮光罩結構的開口朝向所述襯底基板的第二表面而罩設于所述光源結構上。
[0019]進一步的，所述光源結構包括電致發(fā)光組件，所述電致發(fā)光組件包括:
[0020]形成于所述襯底基板的第二表面上的可透光的第一電極；
[0021]形成于所述第一電極的遠離所述襯底基板的一側，并與所述第一電極相對的不透光的第二電極；
[0022]以及形成于所述第一電極和所述第二電極之間的第一發(fā)光層；
[0023]其中在所述第一電極和所述第二電極之間設置有圍設在所述第一發(fā)光層四周的第一遮光層，且所述第一遮光層與所述第二電極配合，形成所述第一遮光罩結構。
[0024]進一步的，所述第一遮光層和/或所述第二電極采用反射率大于預設值的金屬制成，用于將所述第一發(fā)光層發(fā)出的光反射至所述第一遮光罩結構的開口。
[0025]進一步的，所述第一遮光層與所述第二電極連接為一體，且所述第一遮光層與所述第一電極之間設置有第一絕緣層。
[0026]進一步的，所述顯示基板為陣列基板，所述襯底基板包括相對的第三表面和第四表面；
[0027]其中，所述第三表面的顯示區(qū)域設置有薄膜晶體管，
[0028]所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域設置有所述光源結構，且所述光源結構的發(fā)光面背向所述襯底基板的第四表面。
[0029]進一步的，所述遮光結構包括:
[0030]形成于所述襯底基板的第四表面上的第三遮光部，所述第三遮光部包括第二遮光罩結構，所述第二遮光罩結構具有一開口，所述光源結構設于所述第二遮光罩內(nèi)，且所述第二遮光罩結構的開口背向所述襯底基板的第四表面。
[0031]進一步的，所述光源結構包括電致發(fā)光組件，所述電致發(fā)光組件包括:
[0032]形成于所述襯底基板的第四表面上的不透光的第三電極；
[0033]形成于所述第三電極的遠離所述襯底基板的一側，并與所述第三電極相對的可透光的第四電極；
[0034]以及形成于所述第三電極和所述第四電極之間的第二發(fā)光層；
[0035]其中在所述第三電極和所述第四電極之間設置有圍設在所述第二發(fā)光層四周的第二遮光層，且所述第二遮光層與所述第三電極配合，形成所述第二遮光罩結構。
[0036]進一步的，所述第二遮光層和/或所述第三電極采用反射率大于預設值的金屬制成，用于將所述第二發(fā)光層發(fā)出的光反射至所述第二遮光罩結構的開口。
[0037]進一步的，所述第二遮光層與所述第三電極連接為一體，且所述第二遮光層與所述第四電極之間設置有第二絕緣層。
[0038]一種顯示基板的制造方法，所述的方法包括:
[0039]在襯底基板的周邊區(qū)域形成光源結構；
[0040]在襯底基板上形成用于對所述光源結構發(fā)出的光進行遮擋，以使得所述光源結構所發(fā)出的光朝預定方向出射的遮光結構。
[0041]進一步的，所述方法包括:
[0042]在所述襯底基板的第一表面的顯示區(qū)域形成黑矩陣；
[0043]在所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，其中所述光源結構的發(fā)光面面對所述襯底基板的第二表面。
[0044]進一步的，所述方法中，采用轉(zhuǎn)印方式在所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，具體包括:
[0045]在轉(zhuǎn)印版上形成所述光源結構，包括:在轉(zhuǎn)印版上依次形成不透光的第二電極、第一發(fā)光層、與所述第二電極相對的可透光的第一電極以及設置于所述第一電極和所述第二電極之間并圍設在所述第一發(fā)光層四周的第一遮光層；
[0046]在所述襯底基板的第一表面的周邊區(qū)域涂布第一粘結樹脂層；
[0047]將轉(zhuǎn)印版上的光源結構的第一電極面對所述第一粘結樹脂層；
[0048]熔融所述第一粘結樹脂層，利用所述第一粘結樹脂層的黏結性將所述第二電極、第一發(fā)光層、第一電極及第一遮光層轉(zhuǎn)印至所述襯底基板上。
[0049]進一步的，在所述襯底基板的第三表面的顯示區(qū)域形成薄膜晶體管；
[0050]在所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，其中所述光源結構的發(fā)光面背對所述襯底基板的第四表面。
[0051]進一步的，所述方法中，采用轉(zhuǎn)印方式在所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，具體包括:
[0052]在轉(zhuǎn)印版上形成所述光源結構，包括:在轉(zhuǎn)印版上依次形成可透光的第四電極、第二發(fā)光層、與所述第四電極相對的不透光的第三電極以及設置于所述第三電極和所述第四電極之間并圍設在所述第二發(fā)光層四周的第二遮光層；
[0053]在所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域涂布第三粘結樹脂層；
[0054]將轉(zhuǎn)印版上的所述第三電極正對所述第三粘結樹脂層；
[0055]熔融所述第三粘結樹脂層，利用所述第三粘結樹脂層的黏結性將所述第四電極、第二發(fā)光層、第三電極及所述第二遮光層轉(zhuǎn)印至所述襯底基板上。
[0056]一種顯示面板，包括如上所述的顯示基板。
[0057]一種顯示裝置，包括如上所述的顯