電壓成比例的電荷。通過(guò)以液滴產(chǎn)生相同的液滴速率來(lái)改變充電 電極的電壓，每個(gè)液滴可以被充電到預(yù)定水平。液滴流繼續(xù)飛行并通過(guò)兩個(gè)維持恒電位在 如+/-0. lkV-+/-5kV或例如+/-lkV-+/-3kV的導(dǎo)流板。在該場(chǎng)的存在下，液滴自身所帶電 荷成比例的數(shù)量偏向其中一個(gè)板。未帶電荷的液滴不會(huì)偏轉(zhuǎn)并被收集進(jìn)入一個(gè)槽內(nèi)在循 環(huán)回到油墨噴嘴。帶電荷的液滴且因此轉(zhuǎn)向撞擊到與液滴偏轉(zhuǎn)方向成直角移動(dòng)的輻射能 量敏感材料上。通過(guò)改變單個(gè)液滴的電荷，可以得到期望的圖案。液滴尺寸范圍可從直徑 30 y m-100 y m，或例如 40 y m_80 y m，或例如 50 y m_70 y m。
[0040] 對(duì)于連續(xù)可變數(shù)據(jù)的高速應(yīng)用，噴墨過(guò)程可適應(yīng)計(jì)算機(jī)控制。噴墨印刷方法可以 分為三個(gè)通用類別：高壓（lOpsi以上），低壓（小于lOpsi)和真空技術(shù)。所有均為本領(lǐng)域 已知技術(shù)或文獻(xiàn)中描述的，并且可以被用于將抗蝕劑組合物施加到襯底上。
[0041] 抗蝕劑組合物可以用作抗刻蝕劑或作為抗鍍覆基。附圖是在UV透明膜上噴墨圖 案且接著將帶有圖案的膜施加到襯底上的示意圖。在步驟1中，UV透明柔性膜10被提供且 制成平面的。在步驟2中用噴墨設(shè)備（未示出）的噴墨噴嘴14將UV可固化熱融油墨抗蝕 劑圖案12施加到UV透明柔性膜10上。在步驟3中，帶有熱融油墨抗蝕劑的膜被施加到三 維彎曲襯底16上，使得膜的帶有圖案化的抗蝕劑的一側(cè)與襯底的表面接觸。在步驟4中， 空氣被從膜10和襯底16之間排出，通過(guò)輕柔按壓膜或通過(guò)真空。在步驟5中UV光18被 施加到UV透明膜的不帶有UV可固化抗蝕劑的一側(cè)，但是抗蝕劑被固化并粘附在三維彎曲 襯底16上。在步驟6中，薄片被去除，留下固化的抗蝕劑20在襯底16上。
[0042] 在固化之后，帶有固化的抗蝕劑的三維襯底可以被刻蝕到想要的深度，或去除部 分襯底表面以露出下面的層，從而在襯底上形成圖案。在刻蝕過(guò)程中刻蝕劑不會(huì)從襯底上 去除固化的抗蝕劑，因此固化的抗蝕劑組合物的功能是抗刻蝕劑?？箍涛g劑接著從襯底上 剝離并留下圖案化的襯底，以通過(guò)傳統(tǒng)的本領(lǐng)域已知方法進(jìn)行進(jìn)一步處理。而且，襯底的未 覆蓋部分可以用金屬鍍覆以在襯底上形成圖案，因此固化的抗蝕劑的功能是抗鍍覆劑?？?鍍覆劑接著被從襯底上剝離，并留下帶有金屬圖案的襯底，以常規(guī)本領(lǐng)域已知方法進(jìn)行進(jìn) 一步處理。剝離用pH為8以上的堿進(jìn)行，優(yōu)選地為pHll以上。更優(yōu)選的剝離用pH為11-13 的堿進(jìn)行。剝離溫度從〇°C _100°C，典型地為40°C -60°C。
[0043] 刻蝕可以采用適用于組成襯底的材料的本領(lǐng)域的已知技術(shù)。典型地，刻蝕用酸進(jìn) 行，例如氫氟酸、硝酸、磷酸、鹽酸、有機(jī)酸如羧酸和它們的混合物，和堿性刻蝕劑例如含氨 的刻蝕劑、氫氧化銨、氯化銨和硫酸銨。工業(yè)刻蝕劑如氯化銅（CuCl2)和氯化鐵（FeCl3)也 可以被使用。
[0044] 刻蝕通常在20°C -100°C的溫度下進(jìn)行，更典型的為25°C -60°C?？涛g包括用刻蝕 劑以垂直或水平位置對(duì)抗蝕劑涂覆的襯底進(jìn)行噴涂或浸漬。通常，噴涂是當(dāng)襯底在水平位 置時(shí)完成的，這允許更快去除刻蝕劑。通過(guò)攪拌刻蝕劑，刻蝕的速度會(huì)被加快，例如使用超 聲攪拌或振蕩噴涂。在基板被刻蝕劑處理之后，通常用水沖洗除去刻蝕劑痕跡。
[0045] 一層或更多金屬層以圖案形式沉積在襯底上。金屬可以被化學(xué)鍍、電解沉積，通過(guò) 浸入或光致鍍覆進(jìn)行沉積。傳統(tǒng)化學(xué)鍍、電解，和浸入槽和方法可以用于沉積金屬或金屬合 金層。許多這樣的槽可以商業(yè)購(gòu)買到或在文獻(xiàn)中被描述過(guò)。金屬包含但不限于貴金屬和非 貴金屬及它們的合金。合適的貴金屬示例有金、銀、鉬、鈕和它們的合金。合適的非貴金屬 示例有銅、鎳、鈷、鉍、鋅、銦、錫和它們的合金。
[0046] 抗蝕劑組合物具有酸和堿的抗性，從pHl到小于pH8的范圍。優(yōu)選地，抗蝕劑組合 物的酸和堿抗性為從pHl到小于pHll的范圍。粘附到三維襯底表面上的抗蝕劑組合物可 以用堿性剝離劑從襯底上快速剝離。
[0047] 所述能在三維襯底上形成圖案的方法相比用于在三維襯底上成像的許多傳統(tǒng)方 法具有改善的分辨率。因此，襯底上的特征可以更精細(xì)、細(xì)小和數(shù)量更多。這對(duì)于許多使用 噴墨成像形成強(qiáng)調(diào)最小化的表面特征的工業(yè)來(lái)說(shuō)是非常理想的。基本上所有的抗蝕劑組合 物都從光化輻射透明柔性膜上脫模到了三維襯底的表面上，沒(méi)有額外使用會(huì)破壞圖案的壓 力。另外，脫模劑沒(méi)有如許多傳統(tǒng)方法一樣包括在光化輻射透明柔性膜上。所述方法相比 許多傳統(tǒng)方法提供了更有效的三維襯底成像，這是由于減少了工藝步驟和使用的設(shè)備。所 述方法可以用于電子設(shè)備的部件例如印刷電子線路板和引線框、光電設(shè)備、光伏電池設(shè)備 的制備，和用于零件的金屬拋光和精密模具。
[0048] 以下實(shí)施例旨在進(jìn)一步描述本發(fā)明而不是用于限定其范圍。
[0049] 實(shí)施例1-4
[0050] 以下噴墨刻蝕抗蝕劑組合物被制備：
[0051] 表 1
[0052]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種方法，所述方法包括： a. 選擇性地將包括一種或多種蠟，一種或多種不含酸基的丙烯酸酯官能單體和一種或 多種自由基光引發(fā)劑的抗蝕劑組合物噴墨到鄰近光化輻射透明柔性膜的第一表面； b. 將帶有抗蝕劑組合物的光化輻射透明柔性膜施加到三維襯底的表面，帶有抗蝕劑組 合物的光化輻射透明柔性膜的第一表面鄰近三維襯底的表面，并且光化輻射透明柔性膜跟 隨三維襯底的表面的輪廓； c. 向與帶有抗蝕劑組合物的第一表面相對(duì)的光化輻射透明柔性膜的第二表面上施加 光化輻射，以固化抗蝕劑組合物；和 d. 將光化輻射透明柔性膜從固化的抗蝕劑組合物上分離，固化的組合物粘附到三維襯 底的表面上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括三維襯底的刻蝕部分沒(méi)有被固化的抗蝕劑組合 物覆蓋。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2的方法，進(jìn)一步包括在三維襯底的沒(méi)有覆蓋固化抗蝕劑組合物的刻 蝕部分上鍍覆金屬。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括使用pH為8或以上的堿將固化的抗蝕劑組合物 從三維襯底上剝離。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述光化輻射透明柔性膜為聚合物，所述聚合物選 自聚乙烯醇、聚酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚烯烴、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯和乙 酸-乙稀乙稀醋。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述不含酸基的一種或多種丙烯酸酯官能單體選自非 芳香族環(huán)（烷基）丙烯酸酯。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6的方法，其中所述非芳香族環(huán)（烷基）丙烯酸酯選自具有橋接骨架 的單環(huán)、雙環(huán)、三環(huán)和四環(huán)脂環(huán)族（烷基）丙烯酸酯，和不含橋接骨架的脂環(huán)族烴基。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述一種或多種蠟選自酸數(shù)為OmgKOH/g或以上的蠟。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中一種或多種酸數(shù)為OmgKOH/g或以上的蠟選自小燭樹(shù) 蠟、石蠟、酯化褐煤蠟、地蠟、純地蠟、合成烴蠟、褐煤蠟、羧酸封端的聚乙烯蠟、具有功能性 羧酸端部的線性飽和脂肪族蠟和氫化蠟。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述三維襯底為固體滾筒、空心滾筒、圓錐、三角形物 體、橢圓或多面物體。
【專利摘要】使用轉(zhuǎn)印膜的三維襯底成像。提供了一種方法，所述方法包括：a.選擇性地將包括一種或多種蠟，一種或多種不含酸基的丙烯酸酯官能單體和一種或多種自由基光引發(fā)劑的抗蝕劑組合物噴墨到鄰近光化輻射透明柔性膜的第一表面；b.將帶有抗蝕劑組合物的光化輻射透明柔性膜施加到三維襯底的表面，帶有抗蝕劑組合物的光化輻射透明柔性膜的第一表面鄰近三維襯底的表面，并且光化輻射透明柔性膜跟隨三維襯底的表面的輪廓；c.向與帶有抗蝕劑組合物的第一表面相對(duì)的光化輻射透明柔性膜的第二表面上施加光化輻射，以固化抗蝕劑組合物；和d.將光化輻射透明柔性膜從固化的抗蝕劑組合物上分離，固化的組合物粘附到三維襯底的表面上。
【IPC分類】G03F7-00, G03F7-027, G03F7-004
【公開(kāi)號(hào)】CN104749877
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410858492
【發(fā)明人】K·巴蘭特拉普, R·K·巴爾, B·D·阿莫斯
【申請(qǐng)人】羅門哈斯電子材料有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月1日
【申請(qǐng)日】2014年12月29日
【公告號(hào)】EP2889687A1, US20150182997