于作業(yè)存儲(chǔ)部41。
[0157]另一方面，在步驟S601中為否定判定的情況下向步驟S605轉(zhuǎn)移，進(jìn)行將錯(cuò)誤信息顯示于顯示部52的控制，該錯(cuò)誤信息表示不存在具有與執(zhí)行第一面作業(yè)的曝光條件信息63相同的曝光條件信息63的第二面的作業(yè)信息60B。
[0158]本實(shí)施方式所涉及的第二曝光描繪裝置3在從控制裝置5接收到上述第二面的作業(yè)信息60B時(shí)，基于接收到的作業(yè)信息60B，進(jìn)行向被曝光基板C的第二面描繪圖像的第二作業(yè)執(zhí)行處理。
[0159]接著，參照圖17，說明執(zhí)行本實(shí)施方式所涉及的第二作業(yè)執(zhí)行處理時(shí)的第二曝光描繪裝置3的作用。另外，圖17是表示此時(shí)通過第二曝光描繪裝置3的系統(tǒng)控制部40執(zhí)行的第二作業(yè)執(zhí)行處理程序的處理的流程的流程圖。該程序預(yù)先存儲(chǔ)于系統(tǒng)控制部40所具備的ROM的預(yù)定區(qū)域。另外，執(zhí)行該程序的時(shí)刻并不局限于接收到作業(yè)信息60B的時(shí)刻，也可以是由使用者經(jīng)由輸入裝置44輸入了預(yù)先確定的執(zhí)行指示的時(shí)刻等。
[0160]首先，在步驟S701至S705中，進(jìn)行與第一實(shí)施方式的步驟S301至305同樣的處理。
[0161]在步驟S707至S723中，進(jìn)行與第一實(shí)施方式的步驟S309至S325同樣的處理，結(jié)束本第二作業(yè)執(zhí)行處理程序。
[0162]標(biāo)號(hào)說明
[0163]I曝光描繪系統(tǒng)
[0164]2第一曝光描繪裝置
[0165]3第二曝光描繪裝置
[0166]4翻轉(zhuǎn)裝置
[0167]5控制裝置
[0168]10 臺(tái)
[0169]16a 曝光頭
[0170]40 系統(tǒng)控制部
[0171]41 作業(yè)存儲(chǔ)部
[0172]50 控制部
[0173]51 存儲(chǔ)部
[0174]60A第一作業(yè)信息
[0175]60B第二作業(yè)信息
[0176]C 被曝光基板
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種曝光描繪裝置，包括: 第一描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的第一面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息建立了對應(yīng)的第一作業(yè)信息，將所述第一面曝光，由此將由該第一作業(yè)信息表示的圖像向所述第一面描繪； 存儲(chǔ)構(gòu)件，存儲(chǔ)多個(gè)第二作業(yè)信息，該多個(gè)第二作業(yè)信息將表示向被曝光基板的與所述第一面相反的第二面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息分別建立了對應(yīng)；以及 第二描繪構(gòu)件，基于所述存儲(chǔ)構(gòu)件所存儲(chǔ)的所述多個(gè)第二作業(yè)信息中的具有與利用所述第一描繪構(gòu)件對被曝光基板的所述第一面進(jìn)行的圖像的描繪所使用的所述第一作業(yè)信息所表示的曝光條件信息相同的曝光條件信息的所述第二作業(yè)信息，將在該第一面描繪了圖像的被曝光基板的所述第二面曝光，由此將由該第二作業(yè)信息表示的圖像向所述第二面描繪。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述曝光條件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作為曝光對象的片數(shù)、在所述被曝光基板設(shè)置有用于決定圖像的描繪區(qū)域的標(biāo)記的情況下的該標(biāo)記的配置圖案以及所述被曝光基板的感光材料種類中的至少一個(gè)。
3.—種曝光描繪系統(tǒng)，具有第一曝光描繪裝置和第二曝光描繪裝置， 所述第一曝光描繪裝置包括: 第一描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的第一面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息建立了對應(yīng)的第一作業(yè)信息，將所述第一面曝光，由此將由該第一作業(yè)信息表示的圖像向所述第一面描繪；以及 發(fā)送構(gòu)件，發(fā)送利用所述第一描繪構(gòu)件對被曝光基板的所述第一面進(jìn)行的圖像的描繪所使用的所述第一作業(yè)信息的曝光條件信息， 所述第二曝光描繪裝置包括: 存儲(chǔ)構(gòu)件，存儲(chǔ)多個(gè)第二作業(yè)信息，該多個(gè)第二作業(yè)信息將表示向被曝光基板的與所述第一面相反的第二面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息分別建立了對應(yīng)； 接收構(gòu)件，接收由所述發(fā)送構(gòu)件發(fā)送的所述曝光條件信息；以及 第二描繪構(gòu)件，基于所述存儲(chǔ)構(gòu)件所存儲(chǔ)的所述多個(gè)第二作業(yè)信息中的具有與由所述接收構(gòu)件接收到的曝光條件信息相同的曝光條件信息的所述第二作業(yè)信息，將利用所述第一描繪構(gòu)件在所述第一面描繪了圖像的被曝光基板的所述第二面曝光，由此將由該第二作業(yè)信息表示的圖像向該第二面描繪。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光描繪系統(tǒng)，其中， 所述第一曝光描繪裝置的所述發(fā)送構(gòu)件發(fā)送由所述第一描繪構(gòu)件進(jìn)行的描繪正常地結(jié)束時(shí)的曝光條件信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的曝光描繪系統(tǒng)，其中， 所述第一曝光描繪裝置的所述發(fā)送構(gòu)件在由所述第一描繪構(gòu)件進(jìn)行的描繪異常地結(jié)束的情況下，發(fā)送表示發(fā)生了錯(cuò)誤的錯(cuò)誤信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求3?5中任一項(xiàng)所述的曝光描繪系統(tǒng)，其中， 所述第二曝光描繪裝置還具備受理構(gòu)件，在由所述存儲(chǔ)構(gòu)件存儲(chǔ)的所述多個(gè)第二作業(yè)信息中存在多個(gè)具有與由所述接收構(gòu)件接收到的曝光條件信息相同的曝光條件信息的所述第二作業(yè)信息的情況下，所述受理構(gòu)件受理存在多個(gè)的所述第二作業(yè)信息中的任一個(gè)所述第二作業(yè)信息的選擇， 所述第二曝光描繪裝置的所述第二描繪構(gòu)件基于由所述受理構(gòu)件受理了選擇的所述第二作業(yè)信息來向所述第二面描繪圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求3?6中的任一項(xiàng)所述的曝光描繪系統(tǒng)，其中， 所述曝光描繪系統(tǒng)還具備控制裝置，該控制裝置包括:第二存儲(chǔ)構(gòu)件，存儲(chǔ)所述第一作業(yè)信息以及所述第二作業(yè)信息；以及 第二發(fā)送構(gòu)件，將由所述第二存儲(chǔ)構(gòu)件存儲(chǔ)的所述第一作業(yè)信息向所述第一曝光描繪裝置發(fā)送，并將所述第二作業(yè)信息向所述第二曝光描繪裝置發(fā)送， 所述第一曝光描繪裝置還具備接收由所述第二發(fā)送構(gòu)件發(fā)送的所述第一作業(yè)信息的第二接收構(gòu)件， 所述第一曝光描繪裝置的所述第一描繪構(gòu)件使用由所述第二接收構(gòu)件接收到的所述第一作業(yè)信息，將由該第一作業(yè)信息表示的圖像向所述第一面描繪， 所述第二曝光描繪裝置還具備接收由所述第二發(fā)送構(gòu)件發(fā)送的所述第二作業(yè)信息的第三接收構(gòu)件， 所述第二曝光描繪裝置的所述存儲(chǔ)構(gòu)件存儲(chǔ)多個(gè)由所述第三接收構(gòu)件接收到的所述第二作業(yè)信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光描繪系統(tǒng)，其中， 所述控制裝置還具備受理所述第一作業(yè)信息以及所述第二作業(yè)信息的輸入的第二受理構(gòu)件， 所述控制裝置的所述第二存儲(chǔ)構(gòu)件存儲(chǔ)由所述第二受理構(gòu)件受理的所述第一作業(yè)信息以及所述第二作業(yè)信息。
9.一種曝光描繪系統(tǒng)，具有第一曝光描繪裝置、控制裝置以及第二曝光描繪裝置， 所述第一曝光描繪裝置包括: 第一描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的第一面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息建立了對應(yīng)的第一作業(yè)信息，將所述第一面曝光，由此將由該第一作業(yè)信息表示的圖像向所述第一面描繪；以及 第一發(fā)送構(gòu)件，發(fā)送利用所述第一描繪構(gòu)件對被曝光基板的所述第一面進(jìn)行的圖像的描繪所使用的所述第一作業(yè)信息的曝光條件信息， 所述控制裝置包括: 存儲(chǔ)構(gòu)件，存儲(chǔ)多個(gè)第二作業(yè)信息，該多個(gè)第二作業(yè)信息將表示向被曝光基板的與所述第一面相反的第二面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息分別建立了對應(yīng)； 第一接收構(gòu)件，接收由所述第一發(fā)送構(gòu)件發(fā)送的曝光條件信息；以及第二發(fā)送構(gòu)件，發(fā)送由所述存儲(chǔ)構(gòu)件存儲(chǔ)的所述多個(gè)第二作業(yè)信息中的具有與由所述第一接收構(gòu)件接收到的曝光條件信息相同的曝光條件信息的所述第二作業(yè)信息， 所述第二曝光描繪裝置包括: 第二接收構(gòu)件，接收由所述第二發(fā)送構(gòu)件發(fā)送的所述第二作業(yè)信息；以及 第二描繪構(gòu)件，基于由所述第二接收構(gòu)件接收到的所述第二作業(yè)信息，將利用所述第一描繪構(gòu)件在所述第一面描繪了圖像的被曝光基板的所述第二面曝光，由此將由該第二作業(yè)信息表示的圖像向該第二面描繪。
10.根據(jù)權(quán)利要求3?9中的任一項(xiàng)所述的曝光描繪系統(tǒng)，其中， 所述曝光條件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作為曝光對象的片數(shù)、在所述被曝光基板設(shè)置有用于決定圖像的描繪區(qū)域的標(biāo)記的情況下的該標(biāo)記的配置圖案以及所述被曝光基板的感光材料種類中的至少一個(gè)。
11.一種程序，用于使計(jì)算機(jī)作為第一控制構(gòu)件和第二控制構(gòu)件發(fā)揮功能， 所述第一控制構(gòu)件使第一描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的第一面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息建立了對應(yīng)的第一作業(yè)信息，將所述第一面曝光，由此將由該第一作業(yè)信息表示的圖像向所述第一面描繪， 所述第二控制構(gòu)件使第二描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的與所述第一面相反的第二面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息分別建立了對應(yīng)的多個(gè)第二作業(yè)信息中的具有與利用所述第一描繪構(gòu)件對被曝光基板的所述第一面進(jìn)行的圖像的描繪所使用的所述第一作業(yè)信息的曝光條件信息相同的曝光條件信息的所述第二作業(yè)信息，將在該第一面描繪了圖像的被曝光基板的所述第二面曝光，由此將由該第二作業(yè)信息表示的圖像向所述第二面描繪。
12.—種曝光描繪方法，包括如下步驟: 第一控制步驟，使第一描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的第一面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息建立了對應(yīng)的第一作業(yè)信息，將所述第一面曝光，由此將由該第一作業(yè)信息表示的圖像向所述第一面描繪；以及 第二控制步驟，使第二描繪構(gòu)件，基于將表示向被曝光基板的與所述第一面相反的第二面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息分別建立了對應(yīng)的多個(gè)第二作業(yè)信息中的具有與利用所述第一描繪構(gòu)件對被曝光基板的所述第一面進(jìn)行的圖像的描繪所使用的所述第一作業(yè)信息的曝光條件信息相同的曝光條件信息的所述第二作業(yè)信息，將在該第一面描繪了圖像的被曝光基板的所述第二面曝光，由此將由該第二作業(yè)信息表示的圖像向所述第二面描繪。
【專利摘要】提供一種能夠防止在向被曝光基板的兩面描繪圖像時(shí)在各面描繪彼此不對應(yīng)的圖像的曝光描繪裝置、曝光描繪系統(tǒng)、程序及曝光描繪方法。基于將表示向被曝光基板的第一面描繪的圖像的圖像信息和表示曝光條件的曝光條件信息建立了對應(yīng)的第一作業(yè)信息(60A)，將第一面曝光，從而將由該第一作業(yè)信息(60A)表示的圖像向第一面描繪，存儲(chǔ)將表示向被曝光基板的第二面描繪的圖像的圖像信息和曝光條件信息分別建立了對應(yīng)的多個(gè)第二作業(yè)信息(60B)，基于多個(gè)第二作業(yè)信息(60A)中的具有與對第一面進(jìn)行的圖像的描繪所使用的第一作業(yè)信息(60A)所表示的曝光條件信息相同的曝光條件信息的第二作業(yè)信息(60B)，將在該第一面描繪了圖像的被曝光基板的第二面曝光，從而將由該第二作業(yè)信息表示的圖像向第二面描繪。
【IPC分類】G03F7-20, H01L21-027
【公開號(hào)】CN104662479
【申請?zhí)枴緾N201380049240
【發(fā)明人】尾崎幸久, 佐藤淳一
【申請人】株式會(huì)社阿迪泰克工程
【公開日】2015年5月27日
【申請日】2013年8月27日
【公告號(hào)】WO2014050405A1