。此時，與掩模板的第一子區(qū)域111對應(yīng)部分的光刻膠將被全部保留，而與第二子區(qū)域112對應(yīng)的光刻膠將被部分顯影掉，這樣可以降低彩色濾光層的段差，即位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4的高度小于位于黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4的高度，使得形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面與形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米。當(dāng)曝光機的曝光精度為O時，可以使得形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面與形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度相等。
[0047]依據(jù)彩膜基板的規(guī)格要求，每個第一區(qū)域內(nèi)的兩個第二子區(qū)域的寬度Wl和W2可以相等，也可以不相等。
[0048]彩色濾光層的厚度一般為2.25 μ m左右，黑色矩陣層的厚度一般為1.05 μ m左右，故優(yōu)選的，第二子區(qū)域的透過率為49%?73%。例如:49%、51%、54%、57%、60%、65%、70%、71%、73%等，這里就不一一贅述。這樣的透過率可以使得形成在黑色矩陣層上的彩色濾光層的高度在1.1 ym?1.65 μ m之間，可以進一步保證形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面與形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米。
[0049]當(dāng)待曝光顯影的光刻膠為負性光刻膠時，若第二子區(qū)域的透過率小于49%時，位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4的高度將小于1.1 y m，這樣形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度將小于形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度，即彩色濾光層的平坦度將降低，而當(dāng)?shù)诙訁^(qū)域的透過率大于73%時，位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4的高度將大于1.65 μ m，這樣形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度將遠遠高于形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度，即彩色濾光層的平坦度將降低；
[0050]當(dāng)待曝光顯影的光刻膠為正性光刻膠時，若第二子區(qū)域的透過率小于49%時，位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4的高度將大于1.65 μ m，這樣形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度將大于形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度，即彩色濾光層的平坦度將降低，而當(dāng)若第二子區(qū)域的透過率大于73%時，位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4的高度將小于1.1 ym，這樣形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度將小于形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度，即彩色濾光層的平坦度將降低。
[0051]如圖5所示，圖5為本發(fā)明實施例提供的制造彩膜基板的方法流程圖，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用上述掩膜板制造彩膜基板的方法，包括:
[0052]步驟S501:在形成有黑色矩陣層的基板上涂布彩色光刻膠，將掩模板與基板進行對位處理，其中掩模板的第一子區(qū)域正對黑色矩陣層的開口區(qū)域；
[0053]步驟S502:基于對準后的掩模板對涂覆的彩色光刻膠進行曝光、顯影處理，形成位于黑色矩陣層上以及位于黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層，且彩色濾光層背離黑色矩陣層一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米；
[0054]步驟S503:在彩色濾光層背離黑色矩陣的一面形成隔墊物。
[0055]采用本發(fā)明提供的制備方法制備彩膜基板，可以節(jié)省制備平坦層這一步驟，簡化了工藝流程，同時可以避免平坦層對彩色濾光層透過率的影響，提高彩膜基板的透過率。
[0056]當(dāng)然，上述彩色濾光層也可以由彩色樹脂層構(gòu)成，此時在制備彩色濾光層時，在形成有黑色矩陣層的基板上涂布彩色樹脂層，在彩色樹脂層上涂布光刻膠，將掩模板與基板進行對位處理，其中掩模板的第一子區(qū)域正對黑色矩陣層的開口區(qū)域；基于對準后的掩模板對涂覆的光刻膠進行曝光、顯影和刻蝕處理，形成位于黑色矩陣層上以及形成于黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層，且彩色濾光層背離黑色矩陣層一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米；在彩色濾光層背離黑色矩陣的一面形成隔墊物。
[0057]上述彩色光刻膠為負性光刻膠，掩模板的每個第一子區(qū)域為全透光區(qū)域，每個第二區(qū)域為遮光區(qū)域，每個第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠離第一子區(qū)域的方向、第二子區(qū)域的透過率逐漸減小。
[0058]上述彩色光刻膠為正性光刻膠時，掩模板的每個第一子區(qū)域為遮光區(qū)域，每個第二區(qū)域為全透光區(qū)域，每個第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠離第一子區(qū)域的方向、第二子區(qū)域的透過率逐漸增大。
[0059]如圖4所示，本發(fā)明還提供的彩膜基板，包括:襯底基板2，位于襯底基板2上的黑色矩陣層3，還包括:
[0060]位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4，且彩色濾光層4背離黑色矩陣層3 —面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米；
[0061]位于彩色濾光層4上的隔墊物5。
[0062]當(dāng)然上述彩膜基板還包括位于襯底基板2背離黑色矩陣層一面上的透明電極層
6ο
[0063]由于本發(fā)明提供的彩膜基板中彩色濾光層4背離黑色矩陣層3 —面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米，不需要制備平坦層，所以，本發(fā)明提供的彩膜基板具有較好的透過率。
[0064]可選的，彩色濾光層由正性光刻膠材料或負性光刻膠材料形成。
[0065]上述彩色濾光層與亞像素單元對應(yīng)的部分的具體結(jié)構(gòu)可以有多種，可選的，如圖4所示，彩色濾光層與亞像素單元對應(yīng)的部分為“Y”型結(jié)構(gòu)。
[0066]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種掩模板，包括:與每個亞像素單元對應(yīng)的第一區(qū)域，以及位于相鄰兩個第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，其特征在于，每個所述第一區(qū)域分別設(shè)置有一個用于形成位于黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層圖案的第一子區(qū)域、和兩個用于形成位于黑色矩陣層的非開口區(qū)域上的彩色濾光層圖案的第二子區(qū)域，所述第一子區(qū)域位于兩個第二子區(qū)域之間，且每個第二子區(qū)域: 沿遠離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率沿設(shè)定長度逐漸減小或增大。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，當(dāng)每個所述第一子區(qū)域為全透光區(qū)域時，每個所述第二區(qū)域為遮光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸減小。
3.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，當(dāng)每個所述第一子區(qū)域為遮光區(qū)域時，每個所述第二區(qū)域為全透光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸增大。
4.如權(quán)利要求1?3任一項所述的掩模板，其特征在于，每個所述第二子區(qū)域透過率為49%?73%。
5.一種應(yīng)用權(quán)利要求1所述的掩膜板制造彩膜基板的方法，其特征在于，包括: 在形成有黑色矩陣層的基板上涂布彩色光刻膠，將掩模板與基板進行對位處理，其中所述掩模板的第一子區(qū)域正對所述黑色矩陣層的開口區(qū)域； 基于對準后的掩模板對涂覆的所述彩色光刻膠進行曝光、顯影處理，形成位于所述黑色矩陣層上以及位于所述黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層，且所述彩色濾光層背離所述黑色矩陣層一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米； 在所述彩色濾光層背離所述黑色矩陣的一面形成隔墊物。
6.如權(quán)利要求5所述的制造彩膜基板的方法，其特征在于，所述彩色光刻膠為正性光刻膠，所述掩模板的每個第一子區(qū)域為遮光區(qū)域，每個第二區(qū)域為全透光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸增大。
7.如權(quán)利要求5所述的制造彩膜基板的方法，其特征在于，所述彩色光刻膠為負性光刻膠，所述掩模板的每個第一子區(qū)域為全透光區(qū)域，每個第二區(qū)域為遮光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸減小。
8.一種彩膜基板，包括:襯底基板，位于所述襯底基板上的黑色矩陣層，其特征在于，還包括: 位于所述黑色矩陣層上的彩色濾光層，且所述彩色濾光層背離所述黑色矩陣層一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米； 位于所述彩色濾光層上的隔墊物。
9.如權(quán)利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色濾光層由正性光刻膠材料或負性光刻膠材料形成。
10.如權(quán)利要求8或9所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色濾光層與亞像素單元對應(yīng)的部分為“Y”型結(jié)構(gòu)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板，用以減小彩色濾光層的段差，提高彩膜基板的透過率，進而提高顯示基板的顯示效果。其中，掩模板包括：與每個亞像素單元對應(yīng)的第一區(qū)域，以及位于相鄰兩個第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，每個第一區(qū)域分別設(shè)置有一個用于形成位于黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層圖案的第一子區(qū)域、和兩個用于形成位于黑色矩陣層的非開口區(qū)域上的彩色濾光層圖案的第二子區(qū)域，第一子區(qū)域位于兩個第二子區(qū)域之間，且每個第二子區(qū)域：沿遠離第一子區(qū)域的方向、第二子區(qū)域的透過率沿設(shè)定長度逐漸減小或增大。
【IPC分類】G02F1-1335, G03F1-54, G02F1-1339
【公開號】CN104614931
【申請?zhí)枴緾N201510103229
【發(fā)明人】成學(xué)佩, 尹冬冬, 余學(xué)權(quán), 李志強
【申請人】合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2015年3月9日