掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的TFT-LCD CF (Color Filter彩色濾光片)工藝中，如圖1和圖2所示，其中:圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖，現(xiàn)有技術(shù)中的掩模板一般包括:與每個亞像素單元--對應(yīng)的第一區(qū)域07，以及位于相鄰兩個第一區(qū)域07之間的第二區(qū)域08，彩色濾光層使用的光刻膠一般為負(fù)性光刻膠，故掩模板的第一區(qū)域07為全透式，第二區(qū)域08為全不透式，形成的彩色濾光層的圖案如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板主要包括:玻璃基板01，黑色矩陣層02，彩色濾光層03，平坦層04，隔墊物05，透明電極層06。為了防止漏光發(fā)生，彩色濾光層03要和黑色矩陣層02有一定的重疊，為了避免重疊部分的段差對畫面品質(zhì)的影響，需要增加一層平坦層04，這樣就會增加一道工序，增加生產(chǎn)成本，而且平坦層04會降低彩膜基板的透過率，導(dǎo)致對比度的降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提供了一種掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板，用以減小彩色濾光層的段差，提高彩膜基板的透過率，進(jìn)而提高顯示基板的顯示效果。
[0004]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
[0005]本發(fā)明提供了一種掩模板，包括:與每個亞像素單元對應(yīng)的第一區(qū)域，以及位于相鄰兩個第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，每個所述第一區(qū)域分別設(shè)置有一個用于形成位于黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層圖案的第一子區(qū)域、和兩個用于形成位于黑色矩陣層的非開口區(qū)域上的彩色濾光層圖案的第二子區(qū)域，所述第一子區(qū)域位于兩個第二子區(qū)域之間，且每個第二子區(qū)域:
[0006]沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率沿設(shè)定長度逐漸減小或增大。
[0007]本發(fā)明提供的掩模板，采用不同區(qū)域?qū)?yīng)不同的透過率的結(jié)構(gòu)，當(dāng)采用本發(fā)明提供的掩模板制備彩色濾光層時，可以使得彩色濾光層與第一子區(qū)域、第二子區(qū)域、以及第二區(qū)域?qū)?yīng)的部分經(jīng)曝光顯影后有不同的高度變化，可以降低彩色濾光層的段差，使得形成在黑色矩陣層上的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面與形成在黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米，這樣便可省略制備平坦層這一步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0008]在一些可選的實施方式中，當(dāng)每個所述第一子區(qū)域為全透光區(qū)域時，每個所述第二區(qū)域為遮光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸減小。這樣可以降低彩色濾光層的段差，使得形成在黑色矩陣層上的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面與形成在黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米。
[0009]在一些可選的實施方式中，當(dāng)每個所述第一子區(qū)域為遮光區(qū)域時，每個所述第二區(qū)域為全透光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸增大?？梢越档筒噬珵V光層的段差，使得形成在黑色矩陣層上的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面與形成在黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米。
[0010]在一些可選的實施方式中，每個所述第二子區(qū)域的透過率為49%?73%?？梢赃M(jìn)一步保證形成在黑色矩陣層上的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面與形成在黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層背離黑色矩陣層的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米。
[0011]本發(fā)明還提供了一種應(yīng)用上述掩膜板制造彩膜基板的方法，包括:
[0012]在形成有黑色矩陣層的基板上涂布彩色光刻膠，將掩模板與基板進(jìn)行對位處理，其中所述掩模板的第一子區(qū)域正對所述黑色矩陣層的開口區(qū)域；
[0013]基于對準(zhǔn)后的掩模板對涂覆的所述彩色光刻膠進(jìn)行曝光、顯影處理，形成位于所述黑色矩陣層上以及位于所述黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層，且所述彩色濾光層背離所述黑色矩陣層一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米；
[0014]在所述彩色濾光層背離所述黑色矩陣的一面形成隔墊物。
[0015]采用本發(fā)明提供的制備方法制備彩膜基板，可以節(jié)省制備平坦層這一步驟，簡化了工藝流程，同時可以避免平坦層對彩色濾光層透過率的影響，提高彩膜基板的透過率。
[0016]在一些可選的實施方式中，所述彩色光刻膠為正性光刻膠，所述掩模板的每個第一子區(qū)域為遮光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸增大。
[0017]在一些可選的實施方式中，所述彩色光刻膠為負(fù)性光刻膠，所述掩模板的每個第一子區(qū)域為全透光區(qū)域，每個第二區(qū)域為遮光區(qū)域，每個所述第一區(qū)域內(nèi)的每個第二子區(qū)域:沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域的方向、所述第二子區(qū)域的透過率逐漸減小。
[0018]本發(fā)明還提供了一種彩膜基板，包括:襯底基板，位于所述襯底基板上的黑色矩陣層，還包括:
[0019]位于所述黑色矩陣層上的彩色濾光層，且所述彩色濾光層背離所述黑色矩陣層一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米；
[0020]位于所述彩色濾光層上的隔墊物。
[0021]由于本發(fā)明提供的彩膜基板不需要制備平坦層，所以，本發(fā)明提供的彩膜基板具有較好的透過率。
[0022]在一些可選的實施方式中，所述彩色濾光層由正性光刻膠材料或負(fù)性光刻膠材料形成。
[0023]在一些可選的實施方式中，所述彩色濾光層與亞像素單元對應(yīng)的部分為“Y”型結(jié)構(gòu)。
【附圖說明】
[0024]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖3為本發(fā)明實施例提供的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖4為本發(fā)明實施例提供的彩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖5為本發(fā)明實施例提供的制造彩膜基板的方法流程圖。
[0029]附圖標(biāo)記:
[0030]01-玻璃基板02-黑色矩陣層
[0031]03-彩色濾光層04-平坦層
[0032]05-隔墊物06-透明電極層
[0033]07-第一區(qū)域08-第二區(qū)域
[0034]11-第一區(qū)域111-第一子區(qū)域
[0035]112-第二子區(qū)域12-第二區(qū)域
[0036]2_襯底基板3_黑色矩陣層
[0037]4-彩色濾光層5-隔墊物
[0038]6-透明電極層
【具體實施方式】
[0039]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明專利保護的范圍。
[0040]如圖3和圖4所示，其中:圖3為本發(fā)明實施例提供的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明實施例提供的彩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；本發(fā)明提供掩模板，包括:與每個亞像素單元對應(yīng)的第一區(qū)域11，以及位于相鄰兩個第一區(qū)域11之間的第二區(qū)域12，每個第一區(qū)域11分別設(shè)置有一個用于形成位于黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層圖案的第一子區(qū)域111、和兩個用于形成位于黑色矩陣層3的非開口區(qū)域上的彩色濾光層圖案的第二子區(qū)域112，第一子區(qū)域111位于兩個第二子區(qū)域112之間，且每個第二子區(qū)域112:
[0041]沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域111的方向、第二子區(qū)域112的透過率沿設(shè)定長度逐漸減小或增大。
[0042]本發(fā)明提供的掩模板，采用不同區(qū)域?qū)?yīng)不同的透過率的結(jié)構(gòu)，當(dāng)采用本發(fā)明提供的掩模板制備彩色濾光層時，可以使得彩色濾光層4與第一子區(qū)域111、第二子區(qū)域112以及第二區(qū)域12對應(yīng)的部分經(jīng)曝光顯影后有不同的高度變化，降低彩色濾光層的段差，使得形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面與形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度差h大于等于O微米且小于0.5微米，這樣可省略制備平坦層這一步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0043]上述設(shè)定長度本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)經(jīng)驗設(shè)置，可以為零也可以為其它數(shù)值，當(dāng)設(shè)定長度為零時，透過率沿直線逐漸減小或增大。
[0044]由于采用該掩模板進(jìn)行曝光、顯影時的光刻膠可以為正性光刻膠也可以為負(fù)性光刻膠，故對應(yīng)的掩模板各個區(qū)域的透過率將不同:
[0045]一種【具體實施方式】中，當(dāng)待曝光顯影的光刻膠為負(fù)性光刻膠時，每個第一子區(qū)域111為全透光區(qū)域，每個第二區(qū)域12為遮光區(qū)域，每個第一區(qū)域11的每個第二子區(qū)域:沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域111的方向、第二子區(qū)域112的透過率逐漸減小。此時，與掩模板的第一子區(qū)域111對應(yīng)部分的光刻膠將被全部保留，而與第二子區(qū)域112對應(yīng)的光刻膠將被部分顯影掉，這樣可以降低彩色濾光層的段差，即位于黑色矩陣層3上的彩色濾光層4的高度小于位于黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4的高度，使得形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面與形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度差大于等于O微米且小于0.5微米。當(dāng)曝光機的曝光精度為O時，可以使得形成在黑色矩陣層3上的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面與形成在黑色矩陣層3的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層4背離黑色矩陣層3的一面的高度相等。
[0046]另一種【具體實施方式】中，當(dāng)待曝光顯影的光刻膠為正性光刻膠時，每個第一子區(qū)域111為遮光區(qū)域，每個第二區(qū)域12為全透光區(qū)域，每個第一區(qū)域11的每個第二子區(qū)域:沿遠(yuǎn)離第一子區(qū)域111的方向、第二子區(qū)域112的透過率逐漸增大