1.一種陣列基板(100)，包括透明襯底(110)、絕緣介質(zhì)層(150)以及金屬像素電極(120)，所述絕緣介質(zhì)層(150)設于所述透明襯底(110)一側(cè)，所述金屬像素電極(120)包括第一層和第二層，且依次設于所述絕緣介質(zhì)層(150)的遠離所述透明襯底(110)的一側(cè)，所述第二層的反射率大于所述第一層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述金屬像素電極(120)的第一層材質(zhì)為鉬，第二層材質(zhì)為鋁。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述陣列基板(100)還包括源極(120’)和漏極(180’)，所述源極(120’)和漏極(180’)與所述金屬像素電極(120)同層形成，而設于所述絕緣介質(zhì)層(150)的遠離所述透明襯底(110)的一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述陣列基板(100)還包括數(shù)據(jù)線(180)，所述數(shù)據(jù)線(180)設于所述絕緣介質(zhì)層(150)遠離所述透明襯底(110)的一側(cè)，所述數(shù)據(jù)線(180)具有連接端(181)，所述連接端(181)包括第一層和第二層，且依次設于所述絕緣介質(zhì)層(150)的遠離所述透明襯底(110)的一側(cè)，所述第二層的反射率大于所述第一層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述連接端(181)的第一層材質(zhì)為鉬，第二層材質(zhì)為鋁。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，其還包括絕緣保護層(170)，所述絕緣保護層(170)設于所述絕緣介質(zhì)層(150)遠離所述透明襯底(110)的一側(cè)，且覆蓋所述金屬像素電極(120)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述陣列基板(100)還包括數(shù)據(jù)線(180)，所述數(shù)據(jù)線(180)設于所述絕緣介質(zhì)層(150)遠離所述透明襯底的一側(cè)，所述數(shù)據(jù)線(180)具有連接端(181)，所述絕緣保護層(170)上開設有對應于所述連接端(181)的引線過孔(171)，所述連接端(181)包括第一層和第二層，且依次設于所述絕緣介質(zhì)層(150)的遠離所述透明襯底(110)的一側(cè)，所述第二層的反射率大于所述第一層，所述引線過孔(171)過度刻蝕于所述連接端(181)的第二層，所述引線過孔(171)設有導電膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述陣列基板(100)還包括公共線(130)，所述公共線(130)設于所述透明襯底(110)臨近所述絕緣介質(zhì)層(150)的一側(cè)，所述絕緣保護層(170)上開設有對應于所述公共線(130)的公共線過孔(172)，所述公共線過孔(172)過度刻蝕于所述公共線(130)，所述公共線過孔(172)設有導電膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的陣列基板(100)，其特征在于，所述導電膜的材質(zhì)為鉬。
10.一種顯示裝置，具有陣列基板，其特征在于，所述顯示裝置的陣列基板為權(quán)利要求1～9任一項所述的陣列基板(100)。