1.一種多功能曝光平臺，其特征在于，包括控制單元以及依次相接設置的滾輪上料機構、平臺主體與滾輪下料機構，所述平臺主體的上方設有導向推板機構，所述導向推板機構包括開口方向面向所述滾輪上料機構所在一側的L型導向推板以及驅動所述L型導向推板在所述平臺主體上方分別沿X軸方向及Y軸方向平移的XY平面運動機構，所述L型導向推板包括相互垂直設置的X軸方向推板及Y軸方向推板，所述X軸方向推板面向所述滾輪上料機構的一側設有到位檢測結構，所述平臺主體包括氣浮吸附一體平面，且所述平臺主體的底側設有若干升降支腳，所述控制單元分別與所述XY平面運動機構、所述到位檢測結構以及所述若干升降支腳電性連接，所述X軸方向平行于所述滾輪上料結構的送料方向，所述Y軸方向垂直于所述滾輪上料結構的送料方向。
2.如權利要求1所述的多功能曝光平臺，其特征在于，所述到位檢測結構包括兩沿所述Y軸方向間隔設置的壓力傳感器，每一所述壓力傳感器與所述控制單元電性連接。
3.如權利要求1所述的多功能曝光平臺，其特征在于，所述到位檢測結構包括兩沿所述Y軸方向間隔設置的光電傳感器，每一所述光電傳感器與所述控制單元電性連接。
4.如權利要求1所述的多功能曝光平臺，其特征在于，所述氣浮吸附一體平面為多孔材料介質層，且所述多孔材料介質層上開設有若干分布均勻的細微氣孔。
5.如權利要求4所述的多功能曝光平臺，其特征在于，所述平臺主體還包括一空氣泵，所述平臺主體的底側開設有連通各所述細微氣孔的進氣口。
6.如權利要求4或5所述的多功能曝光平臺，其特征在于，所述多孔材料介質層為陶瓷層或鋁金屬材料層。