本發(fā)明涉及一種顯示面板技術(shù)，特別是一種coa基板及coa基板色阻層膜厚檢測(cè)方法。

背景技術(shù)：

目前由于尺寸較大的基板(例如49英寸)的利用率較高，但是由于在進(jìn)行rgb(紅綠藍(lán))色阻涂布時(shí)，涂布機(jī)臺(tái)的涂布限制，導(dǎo)致基板的子基板單元有部分在涂布機(jī)臺(tái)的成膜保證區(qū)以外，使得基板位于邊緣色阻層的膜厚不穩(wěn)定，導(dǎo)致成品易出現(xiàn)黑階黑帶及黑階色偏品質(zhì)分險(xiǎn)作為良率考量，rgb各層色阻生產(chǎn)過程中需要通過監(jiān)控涂布不穩(wěn)定區(qū)，目前只能通過人工對(duì)色阻層涂布的膜厚狀況適時(shí)調(diào)整參數(shù)進(jìn)行生產(chǎn)，在coa技術(shù)中(color-filteronarray，是將彩色濾光片與陣列(array)基板集成在一起的其中一種集成技術(shù)，即將彩色光阻涂布于已完成的陣列(array)上形成彩色濾光層，可以改善傳統(tǒng)彩色濾光片開口率低的問題)，因coa基板產(chǎn)品因基板(strip)設(shè)計(jì)，b(藍(lán))色阻的膜厚需基于g(綠)色阻進(jìn)行量測(cè)(r(紅)/g(綠)色阻的膜厚基鈍化層(pv1)進(jìn)行量測(cè))，根據(jù)現(xiàn)有狀況，b色阻的膜厚疊加g色阻的膜厚所產(chǎn)生的不穩(wěn)定性因素，導(dǎo)致無法真實(shí)反映b色阻的涂布狀況，目前還無有效監(jiān)控手段適時(shí)調(diào)整參數(shù)導(dǎo)致良率降低(邊緣膜品良率不可控)無法生產(chǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種coa基板及coa基板色阻層膜厚檢測(cè)方法，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)色阻層的膜厚進(jìn)行監(jiān)控，提高產(chǎn)品的良率。

本發(fā)明提供了一種coa基板，包括多個(gè)陣列排布在基板上的子基板單元，所述子基板單元具有顯示區(qū)和環(huán)繞在顯示區(qū)外的非顯示區(qū)，所述子基板單元包括陣列基板以及依次形成在陣列基板上的鈍化層、色阻層，所述基板上設(shè)有量測(cè)區(qū)域，量測(cè)區(qū)域位于子基板單元的非顯示區(qū)中，所述量測(cè)區(qū)域中設(shè)有量測(cè)結(jié)構(gòu)，量測(cè)區(qū)域?qū)⒘繙y(cè)結(jié)構(gòu)裸露，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)包括量測(cè)鈍化層以及量測(cè)色阻層，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)的表面形成量測(cè)面。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)面包括量測(cè)色阻層背離量測(cè)鈍化層一側(cè)表面的第一量測(cè)面、量測(cè)鈍化層背離陣列基板一側(cè)表面的第二量測(cè)面，通過以第二量測(cè)面為基準(zhǔn)，測(cè)量量測(cè)色阻層的第一量測(cè)面到第二量測(cè)面的厚度，從而獲得量測(cè)色阻層23的厚度。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)色阻層包括量測(cè)藍(lán)子色阻、量測(cè)綠子色阻和量測(cè)紅子色阻中的至少一種。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)色阻層為量測(cè)藍(lán)子色阻。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)區(qū)域與其所在基板相同一側(cè)的邊緣平行。

本發(fā)明還提供了一種coa基板色阻層膜厚檢測(cè)方法，包括如下步驟：

提供一coa基板，包括多個(gè)陣列排布在基板上的子基板單元，所述子基板單元具有顯示區(qū)和環(huán)繞在顯示區(qū)外的非顯示區(qū)，所述子基板單元包括陣列基板以及依次形成在陣列基板上的鈍化層、色阻層，所述基板上設(shè)有量測(cè)區(qū)域，量測(cè)區(qū)域位于每個(gè)子基板單元的非顯示區(qū)中，所述量測(cè)區(qū)域中設(shè)有量測(cè)結(jié)構(gòu)，量測(cè)區(qū)域?qū)⒘繙y(cè)結(jié)構(gòu)裸露，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)包括量測(cè)鈍化層以及量測(cè)色阻層，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)的表面形成量測(cè)面；

通過將膜厚量測(cè)探針接觸量測(cè)面，并沿量測(cè)區(qū)域的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，同時(shí)保持膜厚量測(cè)探針與量測(cè)面接觸，從而量測(cè)獲得量測(cè)色阻層的厚度。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)面包括量測(cè)色阻層背離量測(cè)鈍化層一側(cè)表面的第一量測(cè)面、量測(cè)鈍化層背離陣列基板一側(cè)表面的第二量測(cè)面，通過以第二量測(cè)面為基準(zhǔn)，測(cè)量量測(cè)色阻層的第一量測(cè)面到第二量測(cè)面的厚度，從而獲得量測(cè)色阻層的厚度。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)色阻層包括量測(cè)藍(lán)子色阻、量測(cè)綠子色阻和量測(cè)紅子色阻中的至少一種。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)色阻層為量測(cè)藍(lán)子色阻。

進(jìn)一步地，所述量測(cè)區(qū)域與其所在基板相同一側(cè)的邊緣平行。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過在基板的子基板單元的非顯示區(qū)處設(shè)置量測(cè)區(qū)域以及量測(cè)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)可實(shí)時(shí)對(duì)基板靠近邊緣位置的色阻層的膜厚狀況進(jìn)行量測(cè)，尤其是藍(lán)色阻的膜厚狀況進(jìn)行監(jiān)控，從而根據(jù)監(jiān)控結(jié)果調(diào)整涂布等參數(shù)，提高產(chǎn)品的良率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明coa基板的俯視圖；

圖2是本發(fā)明對(duì)色阻層膜厚量測(cè)的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

本發(fā)明中，根據(jù)目前色阻層涂布限制，一般涂布機(jī)的涂布不穩(wěn)定區(qū)域5通常出現(xiàn)在基板1的其中兩相對(duì)的靠近邊緣位置處，該涂布不穩(wěn)定區(qū)域5在子基板單元的顯示區(qū)以及非顯示區(qū)6中，為了能夠?qū)υ撏坎疾环€(wěn)定區(qū)域的色阻層的膜厚進(jìn)行監(jiān)控，在子基板單元的非顯示區(qū)6中設(shè)置量測(cè)區(qū)域，通過對(duì)量測(cè)區(qū)域中的量測(cè)結(jié)構(gòu)進(jìn)行量測(cè)，實(shí)現(xiàn)對(duì)基板靠近邊緣的涂布不穩(wěn)定區(qū)的膜厚變化進(jìn)行監(jiān)控，實(shí)時(shí)調(diào)整涂布參數(shù)。

如圖1所示，本發(fā)明的一種coa基板，包括多個(gè)陣列排布在基板1上的子基板單元2，所述子基板單元2具有顯示區(qū)和環(huán)繞在顯示區(qū)外的非顯示區(qū)6，所述子基板單元2包括陣列基板21以及依次形成在陣列基板21上的鈍化層、色阻層，所述基板1上設(shè)有量測(cè)區(qū)域3，量測(cè)區(qū)域3位于每個(gè)子基板單元2的非顯示區(qū)6中，所述量測(cè)區(qū)域3中設(shè)有量測(cè)結(jié)構(gòu)32，量測(cè)區(qū)與3將量測(cè)結(jié)構(gòu)32裸露，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)32包括量測(cè)鈍化層22以及量測(cè)色阻層23，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)32的表面形成量測(cè)面31。

在上述結(jié)構(gòu)中，陣列基板為具有tft(薄膜晶體管)器件的基板，在該陣列基板上進(jìn)行鈍化層22以及色阻層的沉積。

如圖2所示，所述量測(cè)面31包括量測(cè)色阻層23背離量測(cè)鈍化層22一側(cè)表面的第一量測(cè)面311、量測(cè)鈍化層22背離陣列基板21一側(cè)表面的第二量測(cè)面312，通過以第二量測(cè)面312為基準(zhǔn)，測(cè)量量測(cè)色阻層23的第一量測(cè)面311到第二量測(cè)面312的厚度，從而獲得量測(cè)色阻層的厚度，采用量測(cè)結(jié)構(gòu)，使得再涂布制程中可以根據(jù)量測(cè)色阻層的厚度來調(diào)整之后涂布等參數(shù)。

如圖1所示，一般情況下，基板1的形狀為矩形，具有長(zhǎng)邊側(cè)以及短邊側(cè)，而子基板單元2則陣列排布在基板1上，量測(cè)區(qū)域3與其所在基板1相同一側(cè)的邊緣平行，具體地，量測(cè)區(qū)域3設(shè)置在子基板單元2的列方向上且排列再同一條直線上，這樣能夠方便檢測(cè)，通過一次量測(cè)，即可對(duì)基板1上一列種的所有子基板單元進(jìn)行量測(cè)，減少量測(cè)次數(shù)，提高效率。

如圖2所示，所述量測(cè)色阻層23包括量測(cè)藍(lán)子色阻、量測(cè)綠子色阻和量測(cè)紅子色阻中的至少一種，具體地，所述量測(cè)色阻層23為量測(cè)藍(lán)子色阻。

本發(fā)明還公開了一種coa基板中藍(lán)色阻膜厚檢測(cè)方法，包括如下步驟：

如圖1所示，提供一coa基板，包括多個(gè)陣列排布在基板1上的子基板單元2，所述子基板單元2具有顯示區(qū)和環(huán)繞在顯示區(qū)外的非顯示區(qū)6，所述子基板單元2包括陣列基板21以及依次形成在陣列基板21上的鈍化層、色阻層，所述基板1上設(shè)有量測(cè)區(qū)域3，量測(cè)區(qū)域3位于每個(gè)子基板單元2的非顯示區(qū)6中，所述量測(cè)區(qū)域3中設(shè)有量測(cè)結(jié)構(gòu)32，量測(cè)區(qū)與3將量測(cè)結(jié)構(gòu)32裸露，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)32包括量測(cè)鈍化層22以及量測(cè)色阻層23，所述量測(cè)結(jié)構(gòu)32的表面形成量測(cè)面31；

通過將膜厚量測(cè)探針4接觸量測(cè)面31，并沿量測(cè)區(qū)域3的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，同時(shí)保持膜厚量測(cè)探針4與量測(cè)面31接觸，從而量測(cè)獲得量測(cè)色阻層23的厚度。

具體地，如圖2所示，量測(cè)面31包括量測(cè)色阻層23背離量測(cè)鈍化層22一側(cè)表面的第一量測(cè)面311、量測(cè)鈍化層22背離陣列基板21一側(cè)表面的第二量測(cè)面312，通過以第二量測(cè)面312為基準(zhǔn)，測(cè)量量測(cè)色阻層23的第一量測(cè)面311到第二量測(cè)面312的厚度，從而獲得量測(cè)色阻層的厚度。

本發(fā)明種用于量測(cè)的量測(cè)色阻層23包括量測(cè)藍(lán)子色阻、量測(cè)綠子色阻和量測(cè)紅子色阻中的至少一種；具體為，量測(cè)色阻層23為量測(cè)藍(lán)子色阻，將量測(cè)籃子色阻作為參照依據(jù)，從而對(duì)涂布的參數(shù)進(jìn)行調(diào)整。

如圖1所示，一般情況下，基板1的形狀為矩形，具有長(zhǎng)邊側(cè)以及短邊側(cè)，而子基板單元2則陣列排布在基板1上，量測(cè)區(qū)域3與其所在基板1相同一側(cè)的邊緣平行，具體地，量測(cè)區(qū)域3設(shè)置在子基板單元2的列方向上，這樣能夠方便檢測(cè)，膜厚量測(cè)探針4只需要沿量測(cè)區(qū)域3的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，通過一次量測(cè)，即可對(duì)基板1上一列種的所有子基板單元進(jìn)行量測(cè)，減少量測(cè)次數(shù)，提高效率。

如圖1所示，本發(fā)明的量測(cè)過程具體為，通過將膜厚量測(cè)探針4接觸第二量測(cè)面312，并沿量測(cè)區(qū)域3的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，同時(shí)保持膜厚量測(cè)探針4與量測(cè)面31接觸，使膜厚量測(cè)探針4從第二量測(cè)面312移動(dòng)至第一量測(cè)面311上，且使膜厚量測(cè)探針4維持與第一量測(cè)面311接觸，并繼續(xù)移動(dòng)膜厚量測(cè)探針4，從而使膜厚量測(cè)探針4沿量測(cè)區(qū)域3的長(zhǎng)度方向劃直線；最后，藉由控制單元收集膜厚量測(cè)探針4測(cè)量的第而量測(cè)面312到第一量測(cè)面311的間距，從而量測(cè)獲得量測(cè)色阻層23的厚度，并根據(jù)該厚度調(diào)整涂布機(jī)的涂布參數(shù)。

本發(fā)明中，僅需要將形成色阻層的光罩的邊緣區(qū)域增加與量測(cè)結(jié)構(gòu)形狀相適配的圖案，即可對(duì)該區(qū)域不進(jìn)行相應(yīng)的制程，從而保證了量測(cè)結(jié)構(gòu)始終是裸露，不會(huì)因量測(cè)結(jié)構(gòu)而增加制程步驟。

雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。