1.一種陣列孔加工裝置，其特征在于，包括沿光路方向依次設置的：
用于產(chǎn)生激光并且實現(xiàn)光束擴束和準直的激光產(chǎn)生裝置；
用于對所述激光產(chǎn)生裝置發(fā)出的激光選通光束中心區(qū)域、并攔截光束邊緣區(qū)域的光束選擇器；
用于將由所述光束選擇器出射的光束調整能量分布均勻的光束整形器；
用于將由所述光束整形器輸出的光束分成平行傳播的陣列光束的分光元件，所述分光元件具有陣列排布的多個微光學結構；
用于將陣列光束分別匯聚并匯聚到同一平面，形成應用于加工的陣列激光束的聚焦元件。
2.根據(jù)權利要求1所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，所述激光產(chǎn)生裝置包括：
用于產(chǎn)生激光的激光器；
用于擴展由所述激光器輸出激光的光束直徑，并對激光進行準直的擴束元件。
3.根據(jù)權利要求1所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，在所述分光元件平面內(nèi)，多個所述微光學結構等間距排布。
4.根據(jù)權利要求1所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，所述分光元件具有陣列排布的微透鏡結構或者衍射光學結構。
5.根據(jù)權利要求1-4任一項所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，在所述分光元件和所述聚焦元件之間的光路上設置有反射元件；
由所述分光元件出射的陣列光束入射到所述反射元件，所述反射元件將陣列光束反射至所述聚焦元件。
6.根據(jù)權利要求1-4任一項所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，還包括可沿二維方向移動的加工平臺，所述聚焦元件將陣列光束分別匯聚到所述加工平臺的加工面上。
7.根據(jù)權利要求1-4任一項所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，還包括定位監(jiān)測模塊，所述定位監(jiān)測模塊包括：
設置在加工面處的、用于拍攝加工板圖像的攝像器；
與所述攝像器相連的、用于根據(jù)拍攝的圖像定位待加工板的空間位置的定位模塊；
與所述攝像器相連的、用于根據(jù)拍攝的圖像監(jiān)測陣列光束在待加工板上加工形成的陣列孔位置是否準確的監(jiān)測模塊。
8.根據(jù)權利要求7所述的陣列孔加工裝置，其特征在于，所述攝像器包括電荷耦合元件圖像傳感器CCD。