1.一種陣列基板，其特征在于，包括：
襯底基板；
位于所述襯底基板上的多條數(shù)據(jù)線和多條掃描線，所述多條數(shù)據(jù)線和所述多條掃描線絕緣交叉限定多個(gè)像素單元；
與所述多條掃描線同層平行設(shè)置的多條觸控線；
相互獨(dú)立的多個(gè)觸控電極，一個(gè)所述觸控電極連接至少一條所述觸控線。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，
每行像素單元對(duì)應(yīng)一條所述掃描線；
一條所述觸控線位于第一行像素單元和第二行像素單元之間，其中，所述第一行像素單元和所述第二行像素單元為相鄰的兩行像素單元。
3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第一行像素單元對(duì)應(yīng)的掃描線位于所述第一行像素單元和所述第二行像素單元之間；所述掃描線位于靠近所述第一行像素單元的一側(cè)；所述觸控線位于靠近所述第二行像素單元的一側(cè)。
4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述多個(gè)觸控電極為呈陣列排布的多個(gè)塊狀電極，所述觸控電極在顯示階段復(fù)用為公共電極。
5.如權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，每個(gè)所述像素單元包括一個(gè)像素電極，所述像素電極與所述觸控電極所在層面同層設(shè)置，且與所述觸控電極的材料相同。
6.如權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，每個(gè)所述像素單元包括一個(gè)像素電極，所述像素電極與所述多條掃描線所在層面同層設(shè)置，且與所述多條掃描線的材料相同。
7.如權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，每個(gè)所述像素單元包括一個(gè)像素電極，所述像素電極與所述多條數(shù)據(jù)線所在層面同層設(shè)置，且與所述多條數(shù)據(jù)線的材料相同。
8.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述多條掃描線與所述多個(gè)像素單元的短邊側(cè)平行設(shè)置。
9.一種觸控顯示面板，其特征在于，包括：
權(quán)利要求1至8中任一所述的陣列基板；
彩膜基板；
液晶層；
其中，所述彩膜基板和所述陣列基板相對(duì)設(shè)置，所述液晶層設(shè)置在所述彩膜基板和所述陣列基板之間。
10.一種觸控顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求10所述的觸控顯示面板。
11.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：
在襯板基板上形成多條數(shù)據(jù)線和多條掃描線，所述多條數(shù)據(jù)線和所述多條掃描線絕緣交叉限定多個(gè)像素單元；
在所述襯底基板上形成與所述多條掃描線同層平行設(shè)置的多條觸控線；
在所述襯底基板上形成相互獨(dú)立的多個(gè)觸控電極；
其中，一個(gè)所述觸控電極連接至少一條所述觸控線。
12.如權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，
每行像素單元對(duì)應(yīng)一條所述掃描線形成；
一條所述觸控線形成在第一行像素單元和第二行像素單元之間，其中，所述第一行像素單元和所述第二行像素單元為相鄰的兩行像素單元。
13.如權(quán)利要求12所述的制造方法，其特征在于，所述第一行像素單元對(duì)應(yīng)的掃描線形成在所述第一行像素單元和所述第二行像素單元之間；所述掃描線形成在靠近所述第一行像素單元的一側(cè)；所述觸控線形成在靠近所述第二行像素單元的一側(cè)。
14.如權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，
所述多個(gè)觸控電極形成為呈陣列排布的多個(gè)塊狀電極，所述觸控電極在顯示階段復(fù)用為公共電極。
15.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其特征在于，還包括：
在每個(gè)所述像素單元中形成一個(gè)像素電極，所述像素電極形成在所述觸控電極所在層面，且與所述觸控電極的材料相同。
16.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其特征在于，還包括：
在每個(gè)所述像素單元中形成一個(gè)像素電極，所述像素電極形成在所述多條掃描線所在層面，且與所述多條掃描線的材料相同。
17.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其特征在于，還包括：
在每個(gè)所述像素單元中形成一個(gè)像素電極，所述像素電極形成在所述多條數(shù)據(jù)線所在層面，且與所述多條數(shù)據(jù)線的材料相同。
18.如權(quán)利要求11所述的陣列基板，其特征在于，所述多條掃描線與所述多個(gè)像素單元的短邊側(cè)平行形成。