本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板及其制造方法、觸控顯示面板和觸控顯示裝置。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，觸控顯示面板在生活中的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。

一方面，觸控技術(shù)為目前顯示領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)，根據(jù)觸控電極在顯示屏中的位置，觸控顯示面板可分為In-cell、On-cell以及外掛式等。其中，In-cell技術(shù)具有高匹配性、較好的防水特性、較高的報(bào)點(diǎn)率、較佳的懸浮特性等優(yōu)勢(shì)，成為時(shí)下觸控顯示面板發(fā)展的主流之一。

在In-cell觸控顯示面板中，通常將觸控線單獨(dú)設(shè)置在一層，這樣的設(shè)計(jì)使得生產(chǎn)成本較高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種陣列基板及其制造方法、觸控顯示面板和觸控顯示裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)成本較高的問題。

一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種陣列基板，包括：

襯底基板；

位于所述襯底基板上的多條數(shù)據(jù)線和多條掃描線，所述多條數(shù)據(jù)線和所述多條掃描線絕緣交叉限定多個(gè)像素單元；

與所述多條掃描線同層平行設(shè)置的多條觸控線；

相互獨(dú)立的多個(gè)觸控電極，一個(gè)所述觸控電極連接至少一條所述觸控線。

進(jìn)一步地，每行像素單元對(duì)應(yīng)一條所述掃描線；

一條所述觸控線位于第一行像素單元和第二行像素單元之間，其中，所述第一行像素單元和所述第二行像素單元為相鄰的兩行像素單元。

進(jìn)一步地，所述第一行像素單元對(duì)應(yīng)的掃描線位于所述第一行像素單元和所述第二行像素單元之間；所述掃描線位于靠近所述第一行像素單元的一側(cè)；所述觸控線位于靠近所述第二行像素單元的一側(cè)。

進(jìn)一步地，所述多個(gè)觸控電極為呈陣列排布的多個(gè)塊狀電極，所述觸控電極在顯示階段復(fù)用為公共電極。

進(jìn)一步地，每個(gè)所述像素單元包括一個(gè)像素電極，所述像素電極與所述觸控電極所在層面同層設(shè)置，且與所述觸控電極的材料相同。

進(jìn)一步地，每個(gè)所述像素單元包括一個(gè)像素電極，所述像素電極與所述多條掃描線所在層面同層設(shè)置，且與所述多條掃描線的材料相同。

進(jìn)一步地，每個(gè)所述像素單元包括一個(gè)像素電極，所述像素電極與所述多條數(shù)據(jù)線所在層面同層設(shè)置，且與所述多條數(shù)據(jù)線的材料相同。

進(jìn)一步地，所述多條掃描線與所述多個(gè)像素單元的短邊側(cè)平行設(shè)置。

另一方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示面板，包括上述的陣列基板、彩膜基板、液晶層，其中，所述彩膜基板和所述陣列基板相對(duì)設(shè)置，所述液晶層設(shè)置在所述彩膜基板和所述陣列基板之間：

另一方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示裝置，包括上述的觸控顯示面板。

另一方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種陣列基板的制造方法，包括：

在襯板基板上形成多條數(shù)據(jù)線和多條掃描線，所述多條數(shù)據(jù)線和所述多條掃描線絕緣交叉限定多個(gè)像素單元；

在所述襯底基板上形成與所述多條掃描線同層平行設(shè)置的多條觸控線；

在所述襯底基板上形成相互獨(dú)立的多個(gè)觸控電極；

其中，一個(gè)所述觸控電極連接至少一條所述觸控線。

進(jìn)一步地，每行像素單元對(duì)應(yīng)一條所述掃描線形成；

一條所述觸控線形成在第一行像素單元和第二行像素單元之間，其中，所述第一行像素單元和所述第二行像素單元為相鄰的兩行像素單元。

進(jìn)一步地，所述第一行像素單元對(duì)應(yīng)的掃描線形成在所述第一行像素單元和所述第二行像素單元之間；所述掃描線形成在靠近所述第一行像素單元的一側(cè)；所述觸控線形成在靠近所述第二行像素單元的一側(cè)。

進(jìn)一步地，所述多個(gè)觸控電極形成為呈陣列排布的多個(gè)塊狀電極，所述觸控電極在顯示階段復(fù)用為公共電極。

進(jìn)一步地，還包括：在每個(gè)所述像素單元中形成一個(gè)像素電極，所述像素電極形成在所述觸控電極所在層面，且與所述觸控電極的材料相同。

進(jìn)一步地，還包括：在每個(gè)所述像素單元中形成一個(gè)像素電極，所述像素電極形成在所述多條掃描線所在層面，且與所述多條掃描線的材料相同。

進(jìn)一步地，還包括：在每個(gè)所述像素單元中形成一個(gè)像素電極，所述像素電極形成在所述多條數(shù)據(jù)線所在層面，且與所述多條數(shù)據(jù)線的材料相同。

進(jìn)一步地，所述多條掃描線與所述多個(gè)像素單元的短邊側(cè)平行形成。

上述技術(shù)方案中的一個(gè)技術(shù)方案具有如下有益效果：

在本發(fā)明實(shí)施例中，將觸控線和掃描線同層平行設(shè)置，由于無(wú)需將觸控線單獨(dú)設(shè)置在一層，因此減少了生產(chǎn)過程中材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，并且由于觸控線和掃描線不再分層設(shè)置，減少了陣列基板的制作工藝流程，因此降低了制作陣列基板時(shí)的工藝復(fù)雜度，以及提高了產(chǎn)品的良品率，同時(shí)，由于將顯示功能和觸控功能集成在一起，實(shí)現(xiàn)了顯示與觸控一體化，使得陣列基板整體更加輕薄。

【附圖說(shuō)明】

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的俯視示意圖；

圖2是圖1示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種像素單元行的排布示意圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控電極和觸控線的連接示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的局部俯視示意圖；

圖6是圖5示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的局部俯視示意圖；

圖8是圖7示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖；

圖9是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的局部俯視示意圖；

圖10是圖9示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖；

圖11是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的示意圖；

圖13是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的制造方法的流程示意圖。

【具體實(shí)施方式】

為了更好的理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。

應(yīng)當(dāng)明確，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

在本發(fā)明實(shí)施例中使用的術(shù)語(yǔ)是僅僅出于描述特定實(shí)施例的目的，而非旨在限制本發(fā)明。在本發(fā)明實(shí)施例和所附權(quán)利要求書中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式，除非上下文清楚地表示其他含義。

如圖1所示，圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的俯視示意圖，該陣列基板包括：

襯底基板1；

位于襯底基板1上的多條數(shù)據(jù)線2和多條掃描線3，多條數(shù)據(jù)線2和多條掃描線3絕緣交叉限定多個(gè)像素單元4；

與所述多條掃描線3同層平行設(shè)置的多條觸控線5；

相互獨(dú)立的多個(gè)觸控電極6，一個(gè)所述觸控電極6連接至少一條所述觸控線5。

其中，每個(gè)像素單元中設(shè)置一個(gè)薄膜晶體管(圖1中虛線框內(nèi)所示)和與該薄膜晶體管電連接的像素電極(圖1未示出)。

如圖2所示，圖2是圖1示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板沿圖1中AA’方向上的剖視圖，包括：襯底基板1，觸控線5和掃描線3設(shè)置在襯底基板1上，柵極絕緣層7設(shè)置在觸控線5和掃描線3上，有源層9設(shè)置在柵極絕緣層7上，漏極10設(shè)置在有源層9上，第一絕緣層8設(shè)置在漏極10上；平坦層11設(shè)置在第一絕緣層8上，像素電極13設(shè)置在平坦層11上，第二絕緣層12設(shè)置在像素電極13上，觸控電極6設(shè)置在第二絕緣層上12上。其中像素電極13與漏極10通過過孔實(shí)現(xiàn)電連接。在圖2的基礎(chǔ)上，漏極10和多條數(shù)據(jù)線2可以同層設(shè)置，多條數(shù)據(jù)線2所在層面可以位于所述有源層9上。

需要注意的是，本發(fā)明實(shí)施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位詞是以附圖所示的角度來(lái)進(jìn)行描述的，不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的限定。此外在上下文中，還需要理解的是，當(dāng)提到一個(gè)元件被形成在另一個(gè)元件“上”或“下”時(shí)，其不僅能夠直接形成在另一個(gè)元件“上”或者“下”，也可以通過中間元件間接形成在另一元件“上”或者“下”。

在本發(fā)明實(shí)施例中，將觸控線和掃描線同層平行設(shè)置，由于無(wú)需將觸控線單獨(dú)設(shè)置在一層，因此減少了生產(chǎn)過程中材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，并且由于觸控線和掃描線不再分層設(shè)置，減少了陣列基板的制作工藝流程，因此降低了制作陣列基板時(shí)的工藝復(fù)雜度，以及提高了產(chǎn)品的良品率，同時(shí)，由于將顯示功能和觸控功能集成在一起，實(shí)現(xiàn)了顯示與觸控一體化，使得陣列基板整體更加輕薄。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖3所示，圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種像素單元行的排布示意圖，多個(gè)像素單元4依次排列成第一行像素單元41和第二行像素單元42，第一行像素單元41和第二行像素單元42交替設(shè)置，每行像素單元如圖3中虛線框中所示。其中，每行像素單元對(duì)應(yīng)一條掃描線3，一條觸控線5位于第一行像素單元41和第二行像素單元42之間，第一行像素單元41和第二行像素單元42為相鄰的兩行像素單元。

如圖3所示，在上述像素單元行的排布基礎(chǔ)上，第一行像素單元41對(duì)應(yīng)的掃描線3位于第一行像素單元41和所述第二行像素單元42之間；掃描線3位于靠近第一行像素單元41的一側(cè)；觸控線5位于靠近所述第二行像素單元42的一側(cè)。設(shè)置觸控線5位于靠近所述第二行像素單元42的一側(cè)，則觸控線5不會(huì)與像素單元中的像素電極等發(fā)生交疊，不會(huì)產(chǎn)生不必要的電容耦合而影響顯示效果，也不會(huì)影響開口率。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖4所示，圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控電極和觸控線的連接示意圖，每個(gè)觸控電極6和一條觸控線5可以通過過孔61實(shí)現(xiàn)電連接。其中，每個(gè)觸控電極6為呈陣列排布的多個(gè)塊狀電極，該陣列可以是m×n的陣列，其中m和n均為大于1的整數(shù)，觸控電極在顯示階段復(fù)用為公共電極；每個(gè)觸控電極對(duì)應(yīng)至少一個(gè)像素單元，該至少一個(gè)像素單元在襯底基板上的正投影位于該觸控電極在襯底基板上的正投影內(nèi)。需要說(shuō)明的是，本發(fā)明實(shí)施例中對(duì)塊狀觸控電極的具體形狀不做限定，可以是矩形、風(fēng)車形或者任意不規(guī)則圖形。在顯示階段，在對(duì)應(yīng)的柵線的控制下，像素單元的薄膜晶體管的源極對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線通過薄膜晶體管向漏極對(duì)應(yīng)的像素電極實(shí)施充放電，公共電極(即觸控電極6)則接收一恒定的公共電壓信號(hào)，像素電極與公共電極之間形成電場(chǎng)，以達(dá)到顯示功能；在觸控階段，多個(gè)觸控電極6可以通過自電容進(jìn)行觸控檢測(cè)，即驅(qū)動(dòng)芯片(未示出)向觸控電極6提供觸控驅(qū)動(dòng)信號(hào)并接受觸控檢測(cè)信號(hào)。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖5所示，圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的局部俯視圖，每個(gè)像素單元4包括一個(gè)像素電極13，像素電極13與觸控電極6所在層面同層設(shè)置，且與觸控電極6的材料相同。如圖6所示，圖6是圖5示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖，像素電極13與觸控電極6可以設(shè)置在平坦層11上。

具體的，由于將像素電極13與觸控電極6同層平行設(shè)置，由于無(wú)需將像素電極13與觸控電極6設(shè)置在不同層面，因此減少了生產(chǎn)過程中材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，并且由于像素電極13與觸控電極6不再分層設(shè)置，減少了陣列基板的制作工藝流程，因此降低了制作陣列基板時(shí)的工藝復(fù)雜度，以及提高了產(chǎn)品的良品率。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖7所示，圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的局部俯視圖，每個(gè)像素單元4包括一個(gè)像素電極13，當(dāng)尺寸較大時(shí)，像素電極13與多條掃描線3所在層面同層設(shè)置，且與多條掃描線3的材料相同。如圖8所示，圖8是圖7示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖，像素電極13與多條掃描線3可以設(shè)置在襯底基板1上。

具體的，由于將像素電極13與多條掃描線3同層平行設(shè)置，由于無(wú)需將像素電極13與多條掃描線3設(shè)置在不同層面，因此減少了生產(chǎn)過程中材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，并且由于像素電極13與多條掃描線3不再分層設(shè)置，減少了陣列基板的制作工藝流程，因此降低了制作陣列基板時(shí)的工藝復(fù)雜度，以及提高了產(chǎn)品的良品率；而且由于掃描線3通常用金屬材料制作，則像素電極13也使用金屬材料制作，可以減小像素電極13的電阻，降低像素電極13上信號(hào)傳輸?shù)牟痪鶆颉?/p>

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖9所示，圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的局部俯視圖，每個(gè)像素單元4包括一個(gè)像素電極13，當(dāng)尺寸較大時(shí)，像素電極13與多條數(shù)據(jù)線2所在層面同層設(shè)置，且與多條數(shù)據(jù)線2的材料相同。如圖10所示，圖10是圖9示出的陣列基板沿AA’方向的一種剖視示意圖，像素電極13與多條數(shù)據(jù)線2可以設(shè)置在柵極絕緣層7上，像素電極13和漏極10可以直接電連接。

具體的，由于將像素電極13與多條數(shù)據(jù)線2同層平行設(shè)置，由于無(wú)需將像素電極13與多條數(shù)據(jù)線2設(shè)置在不同層面，因此減少了生產(chǎn)過程中材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，并且由于像素電極13與多條數(shù)據(jù)線2不再分層設(shè)置，減少了陣列基板的制作工藝流程，因此降低了制作陣列基板時(shí)的工藝復(fù)雜度，以及提高了產(chǎn)品的良品率；而且由于數(shù)據(jù)線2通常用金屬材料制作，則像素電極13也使用金屬材料制作，可以減小像素電極13的電阻，降低像素電極13上信號(hào)傳輸?shù)牟痪鶆颉?/p>

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，多條掃描線3與多個(gè)像素單元4的短邊側(cè)平行設(shè)置。

具體的，如圖1所示，多個(gè)像素單元4為呈陣列排布的多個(gè)長(zhǎng)條形(如：長(zhǎng)方形和平行四邊形)器件，長(zhǎng)條形包括長(zhǎng)邊和短邊，在現(xiàn)有技術(shù)中，觸控線5與像素單元4的長(zhǎng)邊側(cè)平行設(shè)置，掃描線3與像素單元4的短邊側(cè)平行設(shè)置，觸控線5與掃描線3交叉設(shè)置，上述設(shè)置方式使得觸控線5對(duì)像素單元4的開口率影響較高，即開口率為像素單元的出光面積，像素單元的出光面積與像素單元不被遮擋的表面積有關(guān)，由于觸控線5遮擋了像素單元4的長(zhǎng)邊側(cè)，使得觸控線5對(duì)像素單元4的表面積影響較大，因此使得觸控線5對(duì)像素單元4的出光面積影響較高，在本發(fā)明實(shí)施例中，由于觸控線5與掃描線3平行設(shè)置，觸控線5遮擋的是像素單元的短邊側(cè)，使得觸控線5對(duì)像素單元4的表面積影響較小，因此使得觸控線5對(duì)像素單元4的出光面積影響較小，進(jìn)而降低了觸控線5對(duì)像素單元4的開口率影響，并且由于觸控線5與掃描線3同層設(shè)置，使得觸控線5和掃描線3對(duì)像素單元4遮擋的部分重疊，進(jìn)一步減小了對(duì)像素單元4的遮擋面積，降低了對(duì)像素單元4表面積的影響，從而進(jìn)一步降低了觸控線5對(duì)像素單元4的開口率影響。

如圖11所示，圖11是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖，該觸控顯示面板包括上述的陣列基板14、彩膜基板15和液晶層16，其中，彩膜基板15和陣列基板14相對(duì)設(shè)置，液晶層16設(shè)置在彩膜基板15和陣列基板14之間。

其中，陣列基板14的具體結(jié)構(gòu)和原理與上述實(shí)施例相同，在此不再贅述。

如圖12所示，圖12是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的示意圖，包括上述的觸控顯示面板17，其中，觸控顯示面板17的具體結(jié)構(gòu)和原理與上述實(shí)施例相同，在此不再贅述。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明實(shí)施例中所涉及的顯示裝置可以包括但不限于個(gè)人計(jì)算機(jī)(Personal Computer，PC)、個(gè)人數(shù)字助理(Personal Digital Assistant，PDA)、無(wú)線手持設(shè)備、平板電腦(Tablet Computer)、手機(jī)、MP4播放器或電視機(jī)等任何具有液晶顯示功能的電子設(shè)備。

如圖13所示，圖13是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的制造方法的流程示意圖，通過該方法可以形成如圖1和圖2所示的陣列基板14，該方法可以應(yīng)用于制造In Cell觸控顯示面板中，該方法可以包括以下步驟：

101、在襯板基板14上形成多條數(shù)據(jù)線2和多條掃描線3，所述多條數(shù)據(jù)線2和所述多條掃描線3絕緣交叉限定多個(gè)像素單元4。

102、在所述襯底基板14上形成與所述多條掃描線3同層平行設(shè)置的多條觸控線5。

103、在所述襯底基板14上形成相互獨(dú)立的多個(gè)觸控電極6。

其中，一個(gè)所述觸控電極6連接至少一條所述觸控線5。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖3所示，每行像素單元對(duì)應(yīng)一條所述掃描線3形成；一條所述觸控線5形成在第一行像素單元41和第二行像素單元42之間，其中，所述第一行像素單元41和所述第二行像素單元42為相鄰的兩行像素單元。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖3所示，所述第一行像素單元41對(duì)應(yīng)的掃描線3形成在所述第一行像素單元41和所述第二行像素單元42之間；所述掃描線3形成在靠近所述第一行像素單元41的一側(cè)；所述觸控線5形成在靠近所述第二行像素單元42的一側(cè)。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖1和圖4所示，所述多個(gè)觸控電極6形成為呈陣列排布的多個(gè)塊狀電極，所述觸控電極6在顯示階段復(fù)用為公共電極。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖5和圖6所示，還包括：在每個(gè)所述像素單元4中形成一個(gè)像素電極13，所述像素電極13形成在所述觸控電極6所在層面，且與所述觸控電極6的材料相同。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖7和圖8所示，還包括：在每個(gè)所述像素單元4中形成一個(gè)像素電極13，所述像素電極13形成在所述多條掃描線3所在層面，且與所述多條掃描線3的材料相同。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖9和圖10所示，還包括：在每個(gè)所述像素單元4中形成一個(gè)像素電極13，所述像素電極13形成在所述多條數(shù)據(jù)線2所在層面，且與所述多條數(shù)據(jù)線2的材料相同。

在一個(gè)可行的實(shí)施方案中，如圖1和圖3所示，所述多條掃描線3與所述多個(gè)像素單元4的短邊側(cè)平行形成。

在本發(fā)明實(shí)施例中，將觸控線和掃描線同層平行設(shè)置，由于無(wú)需將觸控線單獨(dú)設(shè)置在一層，因此減少了生產(chǎn)過程中材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，并且由于觸控線和掃描線不再分層設(shè)置，減少了陣列基板的制作工藝流程，因此降低了制作陣列基板時(shí)的工藝復(fù)雜度，以及提高了產(chǎn)品的良品率，同時(shí)，由于將顯示功能和觸控功能集成在一起，實(shí)現(xiàn)了顯示與觸控一體化，使得陣列基板整體更加輕薄。

所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到，為描述的方便和簡(jiǎn)潔，上述描述的系統(tǒng)，裝置和單元的具體工作過程，可以參考前述方法實(shí)施例中的對(duì)應(yīng)過程，在此不再贅述。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明保護(hù)的范圍之內(nèi)。