本發(fā)明涉及一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,可用在TFT-LCD CF清洗工藝中,但不限于。
背景技術(shù):
已知,在TFT-LCD CF清洗工藝中,玻璃基板經(jīng)過(guò)清洗后,一般會(huì)進(jìn)入到后續(xù)的涂布工藝。清洗后的玻璃基板在到達(dá)涂布機(jī)上之前,是會(huì)經(jīng)過(guò)一段經(jīng)由傳送滾輪和機(jī)械手臂的傳送過(guò)程。而在這個(gè)傳送過(guò)程中,空氣中存在的細(xì)微顆粒異物(particle),也就會(huì)不可避免的或多或少的附著在清洗后的玻璃基板上。
這些附著在玻璃基板上的異物,會(huì)在其后續(xù)的涂布過(guò)程中,被覆蓋在涂布光刻膠的下面,形成膜下異物的微觀缺陷。而這些微觀缺陷,無(wú)疑會(huì)對(duì)產(chǎn)品的良率造成很大的影響。
對(duì)此,業(yè)界常見(jiàn)的做法是在涂布機(jī)進(jìn)行涂布過(guò)程前,先對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行異物檢測(cè),若檢測(cè)到的異物超過(guò)設(shè)定的閾值,其就會(huì)進(jìn)行Glass NG的判定,然后將該玻璃基板送至返修工藝。
這種做法,無(wú)疑會(huì)直接導(dǎo)致生產(chǎn)耗時(shí)增加,成本提高,對(duì)于產(chǎn)品的良率產(chǎn)生也造成很大的損失。而且,對(duì)于現(xiàn)有做法中,通過(guò)檢測(cè)的玻璃基板,其表面上并不是沒(méi)有附著異物,只是在閾值之下而已。這種膜下附著異物的玻璃基板,在涂布后依然會(huì)存有微觀缺陷,
而隨著高精細(xì)LTPS技術(shù)的發(fā)展,產(chǎn)品微觀缺陷的控制要求越來(lái)越嚴(yán)格,膜下異物微觀缺陷的后期修補(bǔ)一般要求較為困難,在修補(bǔ)機(jī)進(jìn)行確認(rèn)修補(bǔ)時(shí)往往需要應(yīng)用激光和ink進(jìn)行多次修補(bǔ),這樣會(huì)無(wú)形增加Repair產(chǎn)線的Loading。另外,如果異物較大,也會(huì)造成產(chǎn)品直接NG,造成NG loss的增加。
因此,確有必要來(lái)開發(fā)一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,來(lái)克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,其能夠有效去除基板上附著的異物,從而改善基板涂布前膜下異物的發(fā)生率。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
一種基板上附著異物的檢查及去除裝置,其包括檢查清洗平臺(tái)、輸送機(jī)構(gòu)、控制單元、激光源、激光接收器以及異物清除單元。其中所述檢查清洗平臺(tái)用于放置基板,所述控制單元連接所述輸送機(jī)構(gòu)、激光源、激光接收器以及異物清除單元,所述異物清除單元設(shè)置在所述輸送機(jī)構(gòu)上,并可通過(guò)所述輸送機(jī)構(gòu)輸送至所述檢查清洗平臺(tái)臺(tái)面任意位置的上方。使用時(shí),所述激光源會(huì)在所述基板放置到位后,對(duì)所述基板表面進(jìn)行整個(gè)平面的同強(qiáng)度的發(fā)射光散射,而所述激光接收器會(huì)對(duì)入射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)所述基板表面附有異物時(shí),其接收到的入射光強(qiáng)度就會(huì)發(fā)生相應(yīng)的變化,所述控制單元根據(jù)所述激光接收器接收的入射光強(qiáng)度變化數(shù)據(jù)確定異物在所述基板上的位置坐標(biāo),然后控制所述輸送機(jī)構(gòu)將所述異物清除單元輸送到所述異物的位置坐標(biāo),所述異物清除單元根據(jù)所述控制器的指令,進(jìn)行所述基板表面附著異物的清除。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述異物清除單元包括帶靜電發(fā)生器的吸附毛刷。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述異物清除單元包括氣槍,其具備真空吹氣和吸氣功能。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述異物清除單元包括集塵單元,其與所述氣槍相接。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述輸送機(jī)構(gòu)包括龍門架或是機(jī)械手臂中的至少一種。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述控制器還連接有照相單元,其用于對(duì)附著在所述基板上的異物進(jìn)行拍照,并保存其微觀清晰的形貌照片。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述照相單元設(shè)置在所述輸送機(jī)構(gòu)上。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述激光源設(shè)置在所述檢查清洗平臺(tái)的邊角位置。
進(jìn)一步的,在不同實(shí)施方式中,其中所述激光接收器布置在所述檢查清洗平臺(tái)的四周。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除方法,其包括以下步驟。將待檢查的基板輸送到一檢查清洗平臺(tái)上;使用一激光源對(duì)所述基板表面進(jìn)行整個(gè)平面的同強(qiáng)度的發(fā)射光散射,與其對(duì)應(yīng)的激光接收器會(huì)對(duì)所述激光源發(fā)出的入射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)所述基板表面附有異物時(shí),所述激光接收器接收到的入射光強(qiáng)度就會(huì)發(fā)生相應(yīng)的變化;根據(jù)所述激光接收器接收的入射光強(qiáng)度變化數(shù)據(jù)確定所述異物在所述基板上的位置坐標(biāo);輸送一異物清除單元到所述異物的位置坐標(biāo),并對(duì)其進(jìn)行異物清除操作。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,其中所述裝置能夠直接與清洗機(jī)搭配使用,置于清洗機(jī)的后端,對(duì)清洗機(jī)風(fēng)刀(air knife)干燥后的基板進(jìn)行異物(Particle)的檢查和去除,從而改善基板涂布前膜下異物的發(fā)生率,進(jìn)而提升了產(chǎn)線的修補(bǔ)效率及產(chǎn)品良率,在一定程度上降低了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明涉及的一個(gè)實(shí)施方式提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置的邏輯結(jié)構(gòu)圖;
圖2是本發(fā)明涉及的一個(gè)實(shí)施方式提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是圖2所示的基板上附著異物的檢查及去除裝置,其包括的異物清掃單元的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖1~3中的附圖標(biāo)記說(shuō)明如下:
控制單元 100 檢查和清洗平臺(tái) 10
輸送機(jī)構(gòu) 20 龍門架 22
激光源 30 激光接收器 40
異物清除單元 50 本體 52
氣槍 54 吸附毛刷 56
集塵單元 58 拍照單元 60
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖和實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法的技術(shù)方案作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
請(qǐng)參閱圖1所示,本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除裝置,其包括控制單元100、檢查清洗平臺(tái)10、輸送機(jī)構(gòu)20、激光源30、激光接收器40、異物清除單元50以及拍照單元60。其中所述檢查清洗平臺(tái)10用于放置待處理的基板。
其中所述控制單元100用于整個(gè)裝置的運(yùn)作,其連接所述輸送機(jī)構(gòu)20、激光源30、激光接收器40、異物清除單元50以及拍照單元60。其中所述輸送機(jī)構(gòu)20連接所述異物清除單元50和拍照單元60,用于根據(jù)所述控制單元100的指令將兩者輸送到所述檢查清洗平臺(tái)10上的任意位置。具體的,所述輸送機(jī)構(gòu)20可以是機(jī)械手或是龍門架結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步的,在一個(gè)具體實(shí)施方式中,請(qǐng)參閱圖2所示,所述輸送機(jī)構(gòu)為龍門架22,其設(shè)置在所述檢查清洗平臺(tái)10的上方。所述激光源30設(shè)置在所述檢查清洗平臺(tái)10的邊角處,所述激光接收器40設(shè)置在所述檢查清洗平臺(tái)10的四周。所述異物清除單元50和拍照單元60設(shè)置在所述龍門架22上,并可通過(guò)所述龍門架22輸送至所述檢查清洗平臺(tái)10臺(tái)面任意位置的上方。
請(qǐng)參閱圖3所示,所述異物清除單元50包括本體52,所述本體52上設(shè)置有氣槍54和帶靜電發(fā)生器的吸附毛刷56。其中所述氣槍54具備真空吹氣和吸氣功能,其與一集塵單元58連接,其中所述氣槍54吸附的異物收集在所述集塵單元58內(nèi)。其中所述集塵單元58可以是設(shè)置在所述本體52上,但不限于。
使用時(shí),本發(fā)明涉及的基板上附著異物的檢查及去除裝置,可以是設(shè)置在玻璃基板水洗后端風(fēng)刀(air knife)傳送帶上,干燥后的玻璃基板在進(jìn)入涂布機(jī)涂布之前,首先會(huì)置于其檢查和清洗平臺(tái)10上,由其對(duì)清洗干燥后的所述玻璃基板表面進(jìn)行一次異物檢查。但在不同實(shí)施方式中,其并不限于對(duì)玻璃基板上異物的清除,其也可適用于其他類型基板上的異物清除。
其中,設(shè)置在所述檢查和清洗平臺(tái)10邊角處的所述激光源30,會(huì)對(duì)所述玻璃基板表面進(jìn)行整個(gè)平面的同強(qiáng)度的發(fā)射光散射,而設(shè)置在所述檢查和清洗平臺(tái)10四周的激光接收器40,會(huì)對(duì)入射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)有異物附著在所述玻璃基板表面時(shí),其會(huì)對(duì)入射光產(chǎn)生折射,這時(shí)所述激光接收器40接收到的入射光強(qiáng)度就會(huì)發(fā)生相應(yīng)的變化,所述激光接收器40會(huì)將數(shù)據(jù)發(fā)送給所述控制單元100,所述控制單元100會(huì)對(duì)異物的形狀及大小進(jìn)行模擬判定,并會(huì)確定該異物在所述玻璃基板上的位置坐標(biāo)。
所述控制單元100進(jìn)而會(huì)控制所述龍門架22,由其將所述拍照單元60移動(dòng)到該異物的坐標(biāo)位置對(duì)異物進(jìn)行精確的抓拍,保存其微觀清晰的形貌照片,利于后期改善分析。在確定好異物的坐標(biāo)和形貌大小后,所述異物清除單元50會(huì)對(duì)異物進(jìn)行清除,其首先通過(guò)所述氣槍54對(duì)異物進(jìn)行吸氣清掃,以將所述玻璃基板上附著的異物吸入到所述集塵單元58中。而對(duì)于通過(guò)真空吸附不能去除的粘附型異物,則通過(guò)所述吸附毛刷56進(jìn)行清掃,通過(guò)所述毛刷56的靜電吸附和清掃進(jìn)行異物的去除。每次清掃完成后,還可進(jìn)行再次檢測(cè)確認(rèn),以保證異物能真實(shí)有效地去除。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除方法,其包括以下步驟。將待檢查的基板輸送到一檢查清洗平臺(tái)上;使用一激光源對(duì)所述基板表面進(jìn)行整個(gè)平面的同強(qiáng)度的發(fā)射光散射,與其對(duì)應(yīng)的激光接收器會(huì)對(duì)所述激光源發(fā)出的入射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)所述基板表面附有異物時(shí),所述激光接收器接收到的入射光強(qiáng)度就會(huì)發(fā)生相應(yīng)的變化;根據(jù)所述激光接收器接收的入射光強(qiáng)度變化數(shù)據(jù)確定所述異物在所述基板上的位置坐標(biāo);輸送一異物清除單元到所述異物的位置坐標(biāo),并對(duì)其進(jìn)行異物清除操作。
其中,以上方法中涉及使用的功能組件以及其相互間的配和方式,可參照上述揭示的所述檢查及去除裝置中涉及的功能組件,為避免不必要的重復(fù),此處不再贅述。
本發(fā)明涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,其中所述裝置能夠直接與清洗機(jī)搭配使用,置于清洗機(jī)的后端,對(duì)清洗機(jī)風(fēng)刀(air knife)干燥后的玻璃基板進(jìn)行異物(Particle)的檢查和去除,從而改善基板涂布前膜下異物的發(fā)生率,進(jìn)而提升了產(chǎn)線的修補(bǔ)的效率及產(chǎn)品良率,在一定程度上降低了生產(chǎn)成本。
本發(fā)明的技術(shù)范圍不僅僅局限于上述說(shuō)明中的內(nèi)容,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不脫離本發(fā)明技術(shù)思想的前提下,對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行多種變形和修改,而這些變形和修改均應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明的范圍內(nèi)。