技術(shù)總結(jié)
一種極紫外光刻三維接觸孔掩模衍射譜快速仿真方法。該三維接觸孔掩模從下至上依次由基底(1)、多層膜(2)、吸收層(3)三個(gè)主要部分構(gòu)成。所述的接觸孔掩模其吸收層(3)中的圖形為矩形開孔圖形。該方法首先將三維接觸孔掩模按照分離變量法分解成過接觸孔矩形圖形中心且平行于矩形長(zhǎng)寬兩方向的對(duì)應(yīng)縱截面上的二維掩模，然后采取嚴(yán)格電磁場(chǎng)仿真的波導(dǎo)法對(duì)兩二維掩模進(jìn)行衍射譜仿真，最后將仿真得到的兩二維掩模衍射譜相乘得到三維接觸孔掩模衍射譜。本發(fā)明可快速準(zhǔn)確的仿真極紫外光刻三維接觸孔掩模的衍射譜。

技術(shù)研發(fā)人員：張恒;李思坤;王向朝;諸波爾;孟澤江;成維
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所
文檔號(hào)碼：201710011142
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.06
技術(shù)公布日：2017.05.31