本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)及修復(fù)方法。

背景技術(shù)：

在顯示基板的制作過(guò)程中，由于工藝偏差、操作失誤以及環(huán)境等因素，會(huì)導(dǎo)致信號(hào)線發(fā)生斷路的問(wèn)題。針對(duì)這類問(wèn)題，一般采用化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)設(shè)備沉積金屬材料形成修復(fù)線，將斷開的兩段信號(hào)線電性連接。

以液晶顯示面板中的陣列基板為例，如圖1a所示，在形成有柵線101的襯底基板102上形成數(shù)據(jù)線103的圖形之后，檢測(cè)出柵線101在柵線101與數(shù)據(jù)線103的交叉位置處(如圖1a所示的虛線框所示)發(fā)生斷路，此時(shí)，如圖1b所示，若采用CVD設(shè)備在柵線101的斷開處形成柵線修復(fù)線104，柵線修復(fù)線104通過(guò)第一過(guò)孔105與斷開的兩段柵線101電性連接，由于數(shù)據(jù)線103的上方尚未形成絕緣層，形成的柵線修復(fù)線104會(huì)與數(shù)據(jù)線103直接接觸，從而會(huì)導(dǎo)致柵線101與數(shù)據(jù)線103發(fā)生短路的問(wèn)題，然而，若待陣列基板制作完成之后再采用CVD設(shè)備對(duì)發(fā)生斷路的柵線101進(jìn)行修復(fù)，則會(huì)存在漏檢漏修的風(fēng)險(xiǎn)。如圖2a所示，在陣列基板制作完成之后，檢測(cè)出柵線101和數(shù)據(jù)線103在柵線101與數(shù)據(jù)線103的交叉位置處(如圖1b所示的虛線框所示)發(fā)生斷路，此時(shí)，如圖2b所示，若采用CVD設(shè)備在柵線101的斷開處形成柵線修復(fù)線104以及在數(shù)據(jù)線103的斷開處形成數(shù)據(jù)線修復(fù)線106，柵線修復(fù)線104通過(guò)第一過(guò)孔105與斷開的兩段柵線101電性連接，數(shù)據(jù)線修復(fù)線106通過(guò)第二過(guò)孔107與斷開的兩段數(shù)據(jù)線103電性連接，形成的柵線修復(fù)線104與數(shù)據(jù)線修復(fù)線106會(huì)直接接觸，從而會(huì)導(dǎo)致柵線101與數(shù)據(jù)線103發(fā)生短路的問(wèn)題，然而，如圖2c所示，若將柵線修復(fù)線104設(shè)計(jì)為刻意遠(yuǎn)離數(shù)據(jù)線修復(fù)線106的形狀，則會(huì)存在由于柵線修復(fù)線104過(guò)長(zhǎng)而增加修復(fù)失敗的風(fēng)險(xiǎn)的問(wèn)題。

可見，采用現(xiàn)有的CVD設(shè)備對(duì)發(fā)生斷路的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，會(huì)存在交叉的信號(hào)線之間發(fā)生短路、漏檢漏修或修復(fù)失敗等風(fēng)險(xiǎn)，因此，如何提供一種能夠避免上述修復(fù)風(fēng)險(xiǎn)的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)及修復(fù)方法，用以避免在采用現(xiàn)有的CVD設(shè)備對(duì)發(fā)生斷路的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)時(shí)存在交叉的信號(hào)線之間發(fā)生短路、漏檢漏修或修復(fù)失敗等風(fēng)險(xiǎn)。

因此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)，包括：用于形成導(dǎo)電的修復(fù)線的第一修復(fù)裝置和用于形成絕緣層的第二修復(fù)裝置。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，所述第一修復(fù)裝置，包括：第一反應(yīng)腔室以及分別與所述第一反應(yīng)腔室連通的用于傳輸?shù)谝环磻?yīng)物的第一輸入管道和用于傳輸反應(yīng)后的第一廢棄物的第一輸出管道；其中，所述第一反應(yīng)腔室具有貫穿所述第一反應(yīng)腔室的第一中通孔；

所述第二修復(fù)裝置，包括：第二反應(yīng)腔室以及分別與所述第二反應(yīng)腔室連通的用于傳輸?shù)诙磻?yīng)物的第二輸入管道和用于傳輸反應(yīng)后的第二廢棄物的第二輸出管道；其中，所述第二反應(yīng)腔室具有貫穿所述第二反應(yīng)腔室的第二中通孔。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，還包括：用于使所述第一反應(yīng)腔室在所述第一中通孔處處于開放狀態(tài)或封閉狀態(tài)且使所述第二反應(yīng)腔室在所述第二中通孔處處于開放狀態(tài)或封閉狀態(tài)的開關(guān)；其中，

所述第一反應(yīng)腔室在所述第一中通孔處處于開放狀態(tài)且所述第二反應(yīng)腔室在所述第二中通孔處處于封閉狀態(tài)時(shí)，所述第一反應(yīng)腔室在所述第一中通孔處形成導(dǎo)電材料沉積在顯示基板上形成修復(fù)線；

所述第一反應(yīng)腔室在所述第一中通孔處處于封閉狀態(tài)且所述第二反應(yīng)腔室在所述第二中通孔處處于開放狀態(tài)時(shí)，所述第二反應(yīng)腔室在所述第二中通孔處形成絕緣材料沉積在顯示基板上形成絕緣層。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，所述開關(guān)為可滑動(dòng)至所述第一中通孔處或所述第二中通孔處的中空的滑件。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，所述第一反應(yīng)腔室位于所述第二反應(yīng)腔室的上方，所述第一中通孔位于所述第二中通孔的正上方；或者，所述第一反應(yīng)腔室位于所述第二反應(yīng)腔室的下方，所述第一中通孔位于所述第二中通孔的正下方。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，還包括：位于所述第一反應(yīng)腔室和所述第二反應(yīng)腔室的上方用于發(fā)射穿過(guò)所述第一中通孔和所述第二中通孔的激光的激光器。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，還包括：位于所述第一反應(yīng)腔室和所述第二反應(yīng)腔室的下方用于承載顯示基板的機(jī)臺(tái)；

所述機(jī)臺(tái)內(nèi)設(shè)置有加熱部件。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種信號(hào)線的修復(fù)方法，利用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)對(duì)信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，包括：

利用第一修復(fù)裝置形成第一修復(fù)線，對(duì)在第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生斷路的所述第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)；其中，所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線相互絕緣且所述第一信號(hào)線位于所述第二信號(hào)線的上方或下方；

利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋所述第一修復(fù)線的絕緣層；

利用所述第一修復(fù)裝置在所述絕緣層上形成第二修復(fù)線，對(duì)在所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生斷路的所述第二信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在利用第一修復(fù)裝置形成第一修復(fù)線之前，還包括：

將在第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生短路的所述第一信號(hào)線和所述第二信號(hào)線切斷。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，所述利用第一修復(fù)裝置形成第一修復(fù)線，具體包括：

在加熱部件加熱到第一預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第二反應(yīng)腔室的第二中通孔處，利用第一輸入管道向第一反應(yīng)腔室輸入摻有六羰基鎢的氬氣，利用激光器照射第一中通孔，在第一中通孔處形成的鎢粉沉積在顯示基板上形成第一修復(fù)線，反應(yīng)后的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道排出。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，所述利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋所述第一修復(fù)線的絕緣層，具體包括：

在加熱部件加熱到第二預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第一反應(yīng)腔室的第一中通孔處，利用第二輸入管道向第二反應(yīng)腔室輸入氨氣、氮?dú)夂凸柰椋眉す馄髡丈涞诙型?，在第二中通孔處形成的氮化硅沉積在顯示基板上形成絕緣層，反應(yīng)后的第二廢棄物通過(guò)第二輸出管道排出。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，所述利用所述第一修復(fù)裝置在所述絕緣層上形成第二修復(fù)線，具體包括：

在加熱部件加熱到第一預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第二反應(yīng)腔室的第二中通孔處，利用第一輸入管道向第一反應(yīng)腔室輸入摻有六羰基鎢的氬氣，利用激光器照射第一中通孔，在第一中通孔處形成的鎢粉沉積在顯示基板上形成第二修復(fù)線，反應(yīng)后的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道排出。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種信號(hào)線的修復(fù)方法，利用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)對(duì)信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，包括：

利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置的絕緣層：其中，所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線相互絕緣且所述第一信號(hào)線位于所述第二信號(hào)線的下方；

利用第一修復(fù)裝置在所述絕緣層上形成第一修復(fù)線，對(duì)在所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生斷路的所述第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，所述利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置的絕緣層，具體包括：

在加熱部件加熱到第二預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第一反應(yīng)腔室的第一中通孔處，利用第二輸入管道向第二反應(yīng)腔室輸入氨氣、氮?dú)夂凸柰椋眉す馄髡丈涞诙型?，在第二中通孔處形成的氮化硅沉積在顯示基板上形成絕緣層，反應(yīng)后的第二廢棄物通過(guò)第二輸出管道排出。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，所述利用第一修復(fù)裝置在所述絕緣層上形成第一修復(fù)線，具體包括：

在加熱部件加熱到第一預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第二反應(yīng)腔室的第二中通孔處，利用第一輸入管道向第一反應(yīng)腔室輸入摻有六羰基鎢的氬氣，利用激光器照射第一中通孔，在第一中通孔處形成的鎢粉沉積在顯示基板上形成第一修復(fù)線，反應(yīng)后的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道排出。

本發(fā)明實(shí)施例提供的上述信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)及修復(fù)方法，修復(fù)系統(tǒng)包括用于形成導(dǎo)電的修復(fù)線的第一修復(fù)裝置和用于形成絕緣層的第二修復(fù)裝置；針對(duì)交叉的兩條信號(hào)線在交叉位置都發(fā)生斷路的情況，可以先利用第一修復(fù)裝置對(duì)其中一條信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，再利用第二修復(fù)裝置形成絕緣層，最后利用第一修復(fù)裝置對(duì)另一條信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，這樣，既可以避免交叉的兩條信號(hào)線之間發(fā)生短路的問(wèn)題，又可以避免將其中一條信號(hào)線的修復(fù)線設(shè)計(jì)為遠(yuǎn)離另一條信號(hào)線的修復(fù)線而增加修復(fù)失敗的風(fēng)險(xiǎn)；針對(duì)在交叉的兩條信號(hào)線形成后檢測(cè)出下方的信號(hào)線在交叉位置發(fā)生斷路的情況，可以先利用第二修復(fù)裝置形成絕緣層，再利用第一修復(fù)裝置對(duì)下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，這樣，既可以避免交叉的兩條信號(hào)線之間發(fā)生短路的問(wèn)題，又可以避免因修復(fù)不及時(shí)導(dǎo)致的漏檢漏修風(fēng)險(xiǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1a為現(xiàn)有的陣列基板在修復(fù)之前的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖1b為采用現(xiàn)有的CVD設(shè)備對(duì)圖1a所示的陣列基板進(jìn)行修復(fù)之后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2a為現(xiàn)有的陣列基板在修復(fù)之前的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖2b為現(xiàn)有的CVD設(shè)備對(duì)圖2a所示的陣列基板進(jìn)行修復(fù)之后的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖2c為現(xiàn)有的CVD設(shè)備對(duì)圖2a所示的陣列基板進(jìn)行修復(fù)之后的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4a-圖4c分別為采用本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)對(duì)圖2a所示的陣列基板進(jìn)行修復(fù)在執(zhí)行各步驟后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5a和圖5b分別為采用本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)對(duì)圖1a所示的陣列基板進(jìn)行修復(fù)在執(zhí)行各步驟后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖8為圖7沿AA方向的剖視圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)示意圖之三；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)示意圖之四；

圖11為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)方法的流程圖之一；

圖12為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)方法的流程圖之二；

圖13為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)方法的流程圖之三；

圖14為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)方法的流程圖之四；

圖15為本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)方法的流程圖之五。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)及修復(fù)方法的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。

附圖中各部件的形狀和尺寸不反映其真實(shí)比例，目的只是示意說(shuō)明本發(fā)明內(nèi)容。

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)，如圖3所示，包括：用于形成導(dǎo)電的修復(fù)線的第一修復(fù)裝置301和用于形成絕緣層的第二修復(fù)裝置302。

本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)，既可以形成導(dǎo)電的修復(fù)線，又可以形成絕緣層；針對(duì)交叉的兩條信號(hào)線在交叉位置都發(fā)生斷路的情況，可以先利用第一修復(fù)裝置對(duì)其中一條信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，再利用第二修復(fù)裝置形成絕緣層，最后利用第一修復(fù)裝置對(duì)另一條信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，例如，針對(duì)如圖2a所示的情況，在陣列基板制作完成之后，即柵線101和數(shù)據(jù)線103都已被絕緣層覆蓋，此時(shí)，檢測(cè)出柵線101和數(shù)據(jù)線103在柵線101與數(shù)據(jù)線103的交叉位置處發(fā)生斷路，利用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)，如圖4a所示，可以先利用第一修復(fù)裝置形成柵線修復(fù)線104對(duì)在交叉位置處發(fā)生斷路的柵線101進(jìn)行修復(fù)，柵線修復(fù)線104通過(guò)第一過(guò)孔105與斷開的兩段柵線101電性連接，如圖4b所示，然后利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋柵線修復(fù)線104的絕緣層108，如圖4c所示，最后利用第一修復(fù)裝置在絕緣層108上形成數(shù)據(jù)線修復(fù)線106對(duì)在交叉位置處發(fā)生斷路的數(shù)據(jù)線103進(jìn)行修復(fù)，數(shù)據(jù)線修復(fù)線106通過(guò)第二過(guò)孔107與斷開的兩段數(shù)據(jù)線103電性連接，這樣，既可以避免柵線101與數(shù)據(jù)線103之間發(fā)生短路的問(wèn)題，又可以避免將柵線修復(fù)線104設(shè)計(jì)為遠(yuǎn)離數(shù)據(jù)線修復(fù)線106的形狀導(dǎo)致修復(fù)失敗的風(fēng)險(xiǎn)；針對(duì)在交叉的兩條信號(hào)線形成后檢測(cè)出下方的信號(hào)線在交叉位置發(fā)生斷路的情況，可以先利用第二修復(fù)裝置形成絕緣層，再利用第一修復(fù)裝置對(duì)下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，例如，針對(duì)如圖1a所示的情況，在形成有柵線101的襯底基板102上形成數(shù)據(jù)線103的圖形之后，檢測(cè)出柵線101在柵線101與數(shù)據(jù)線103的交叉位置處發(fā)生斷路，利用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)，如圖5a所示，可以先利用第二修復(fù)裝置在柵線101與數(shù)據(jù)線103的交叉位置處形成絕緣層108，如圖5b所示，然后利用第一修復(fù)裝置在絕緣層108上形成柵線修復(fù)線104對(duì)交叉位置處發(fā)生斷路的柵線101進(jìn)行修復(fù)，柵線修復(fù)線104通過(guò)第一過(guò)孔105與斷開的兩段柵線101電性連接，這樣，既可以避免交叉的柵線101與數(shù)據(jù)線103之間發(fā)生短路的問(wèn)題，又可以避免因修復(fù)不及時(shí)導(dǎo)致的漏檢漏修風(fēng)險(xiǎn)。

在具體實(shí)施時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)可以適用于修復(fù)液晶顯示面板中陣列基板上交叉設(shè)置的柵線和數(shù)據(jù)線，或者，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)也可以適用于修復(fù)其他類似的顯示面板中交叉設(shè)置的信號(hào)線，在此不做限定。

在具體實(shí)施時(shí)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，如圖6所示，第一修復(fù)裝置301，可以包括：第一反應(yīng)腔室1以及分別與第一反應(yīng)腔室1連通的用于傳輸?shù)谝环磻?yīng)物的第一輸入管道2和用于傳輸反應(yīng)后的第一廢棄物的第一輸出管道3；其中，第一反應(yīng)腔室1具有貫穿第一反應(yīng)腔室1的第一中通孔4；具體地，通過(guò)第一輸入管道2傳輸至第一反應(yīng)腔室1的第一反應(yīng)物在第一中通孔4處發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)形成的導(dǎo)電材料通過(guò)第一中通孔4沉積在下方的顯示基板5上形成導(dǎo)電的修復(fù)線，反應(yīng)后形成的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道3輸出；類似的，第二修復(fù)裝置302，可以包括：第二反應(yīng)腔室6以及分別與第二反應(yīng)腔室6連通的用于傳輸?shù)诙磻?yīng)物的第二輸入管道7和用于傳輸反應(yīng)后的第二廢棄物的第二輸出管道8；其中，第二反應(yīng)腔室6具有貫穿第二反應(yīng)腔室6的第二中通孔9；具體地，通過(guò)第二輸入管道7傳輸至第二反應(yīng)腔室6的第二反應(yīng)物在第二中通孔9處發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)形成的絕緣材料通過(guò)第二中通孔9沉積在下方的顯示基板5上形成絕緣層，反應(yīng)后形成的第二廢棄物通過(guò)第二輸出管道8輸出。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，如圖7和圖8所示，圖8為圖7沿AA方向的剖視圖，還可以包括：用于使第一反應(yīng)腔室1在第一中通孔4處處于開放狀態(tài)或封閉狀態(tài)且使第二反應(yīng)腔室6在第二中通孔處處于開放狀態(tài)或封閉狀態(tài)的開關(guān)10；例如，圖7所示的狀態(tài)為開關(guān)10使第一反應(yīng)腔室1在第一中通孔4處處于開放狀態(tài)且使第二反應(yīng)腔室6在第二中通孔處處于封閉狀態(tài)；這樣，可以利用開關(guān)10分別控制第一修復(fù)裝置301和第二修復(fù)裝置302工作，避免第一修復(fù)裝置301和第二修復(fù)裝置302發(fā)生交叉污染；具體地，第一反應(yīng)腔室1在第一中通孔4處處于開放狀態(tài)且第二反應(yīng)腔室6在第二中通孔處處于封閉狀態(tài)時(shí)，第一修復(fù)裝置301處于工作狀態(tài)，第二修復(fù)裝置302處于關(guān)閉狀態(tài)，第一反應(yīng)腔室1在第一中通孔4處形成導(dǎo)電材料沉積在顯示基板5上形成修復(fù)線；第一反應(yīng)腔室1在第一中通孔4處處于封閉狀態(tài)且第二反應(yīng)腔室6在第二中通孔處處于開放狀態(tài)時(shí)，第一修復(fù)裝置301處于關(guān)閉狀態(tài)，第二修復(fù)裝置302處于工作狀態(tài)，第二反應(yīng)腔室6在第二中通孔處形成絕緣材料沉積在顯示基板5上形成絕緣層。

在具體實(shí)施時(shí)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，如圖7和圖8所示，開關(guān)10具體可以為可滑動(dòng)至第一中通孔4處或第二中通孔處的中空的滑件，例如，如圖7和圖8所示，滑件的形狀為中空的圓筒形狀，滑件位于第二中通孔處，使第一反應(yīng)腔室1在第一中通孔4處處于開放狀態(tài)且使第二反應(yīng)腔室6在第二中通孔處處于封閉狀態(tài)。當(dāng)然，滑件的形狀并非局限于此，具體可以依照第一中通孔和第二中通孔的形狀而變化，在此不做限定。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，如圖6和圖7所示，第一反應(yīng)腔室1可以位于第二反應(yīng)腔室6的下方，第一中通孔4可以位于第二中通孔9的正下方；或者，第一反應(yīng)腔室也可以位于第二反應(yīng)腔室的上方，第一中通孔也可以位于第二中通孔的正上方；在此不做限定。

當(dāng)然，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，第一修復(fù)裝置與第二修復(fù)裝置的位置關(guān)系并非局限于上下位置關(guān)系，第一修復(fù)裝置與第二修復(fù)裝置還可以為前后或左右位置關(guān)系，在此不做限定。

在具體實(shí)施時(shí)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，在第一修復(fù)裝置與第二修復(fù)裝置為上下位置關(guān)系時(shí)，如圖9所示，還可以包括：位于第一反應(yīng)腔室1和第二反應(yīng)腔室6的上方用于發(fā)射穿過(guò)第一中通孔4和第二中通孔的激光的激光器11；這樣，便于激光器11發(fā)射的激光穿過(guò)第一中通孔4和第二中通孔，使得第一中通孔4處的第一反應(yīng)物在激光的照射下反應(yīng)形成導(dǎo)電材料，第二中通孔處的第二反應(yīng)物在激光的催化作用下反應(yīng)形成絕緣材料，例如，第一反應(yīng)物可以為摻有六羰基鎢的氬氣，在激光的照射下可以形成鎢粉，鎢粉通過(guò)第一中通孔4沉積在顯示基板5上形成鎢線，第二反應(yīng)物可以為氨氣、氮?dú)夂凸柰?，在激光的催化作用下可以形成氮化硅，通過(guò)第二中通孔沉積在顯示基板5上形成氮化硅絕緣層。

在具體實(shí)施時(shí)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)中，如圖10所示，還可以包括：位于第一反應(yīng)腔室1和第二反應(yīng)腔室6的下方用于承載顯示基板5的機(jī)臺(tái)12；較佳地，機(jī)臺(tái)12內(nèi)可以設(shè)置加熱部件13，這樣，利用加熱部件13加熱至不同的溫度，可以分別為第一中通孔4處形成導(dǎo)電材料以及第二中通孔處形成絕緣材料提供各自所需的溫度條件，并且，對(duì)于通過(guò)沉積鎢粉形成鎢線作為修復(fù)線的情況，還可以防止第一中通孔4處形成的鎢粉結(jié)晶而降低修復(fù)效率。具體地，加熱部件可以為加熱電阻絲，或者，加熱部件還可以為能夠內(nèi)置于機(jī)臺(tái)內(nèi)并能實(shí)現(xiàn)加熱功能的其他部件，在此不做限定。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種信號(hào)線的修復(fù)方法，利用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)對(duì)信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，如圖11所示，包括如下步驟：

S1101、利用第一修復(fù)裝置形成第一修復(fù)線，對(duì)在第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生斷路的第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)；其中，第一信號(hào)線與第二信號(hào)線相互絕緣且第一信號(hào)線位于第二信號(hào)線的上方或下方；

S1102、利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋第一修復(fù)線的絕緣層；

S1103、利用第一修復(fù)裝置在絕緣層上形成第二修復(fù)線，對(duì)在第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生斷路的第二信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法，可以針對(duì)在顯示基板的所有工藝都已完成即第一信號(hào)線和第二信號(hào)線都已被絕緣層覆蓋時(shí)，檢測(cè)出第一信號(hào)線和第二信號(hào)線在交叉位置處都發(fā)生斷路的情況(即如圖2a所示的情況)進(jìn)行修復(fù)。由于第一信號(hào)線和第二信號(hào)線都已被絕緣層覆蓋，因此，無(wú)論先對(duì)上方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)還是先對(duì)下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，都不會(huì)造成兩條信號(hào)線發(fā)生短路，因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法可以適用于第一信號(hào)線可以位于第二信號(hào)線的上方的情況，即可以先對(duì)位于上方的第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)；或者，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法也可以適用于第一信號(hào)線可以位于第二信號(hào)線的下方的情況，即可以先對(duì)位于下方的第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)；在此不做限定。需要說(shuō)明的是，由于第一信號(hào)線和第二信號(hào)線都已被絕緣層覆蓋，因此，在利用第一修復(fù)線對(duì)第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)時(shí)，第一修復(fù)線需要通過(guò)過(guò)孔的方式與第一信號(hào)線實(shí)現(xiàn)電性連接，同理，在利用第二修復(fù)線對(duì)第二信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)時(shí)，第二修復(fù)線需要通過(guò)過(guò)孔的方式與第二信號(hào)線實(shí)現(xiàn)電性連接。

在具體實(shí)施時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法還可以針對(duì)在形成第一信號(hào)線和第二信號(hào)線之后，即上方的信號(hào)線尚未被絕緣層覆蓋時(shí)，檢測(cè)出第一信號(hào)線與第二信號(hào)線在交叉位置處都發(fā)生斷路的情況進(jìn)行修復(fù)。針對(duì)這種情況，既可以先對(duì)位于上方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，又可以先對(duì)位于下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)。較佳地，優(yōu)選先對(duì)位于上方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，這是由于上方的信號(hào)線尚未被絕緣層覆蓋，若先對(duì)位于下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，則可能會(huì)存在形成的修復(fù)線與上方的信號(hào)線電性連接導(dǎo)致兩條信號(hào)線發(fā)生短路的風(fēng)險(xiǎn)。當(dāng)然，若兩條信號(hào)線在交叉位置處斷開的空間較大，則該風(fēng)險(xiǎn)會(huì)非常低，此時(shí)，也可以選擇先對(duì)位于下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)。需要說(shuō)明的是，由于上方的信號(hào)線尚未被絕緣層覆蓋，因此，在對(duì)上方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)時(shí)，形成的修復(fù)線可以直接與上方的信號(hào)線電性連接，無(wú)需通過(guò)過(guò)孔的方式電性連接；并且，由于上方的信號(hào)線與下方的信號(hào)線相互絕緣，即下方的信號(hào)線已被絕緣層覆蓋，因此，在對(duì)下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)時(shí)，形成的修復(fù)線需要通過(guò)過(guò)孔的方式與下方的信號(hào)線電性連接。

在具體實(shí)施時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法不僅可以對(duì)交叉位置處發(fā)生斷路的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，還可以對(duì)交叉位置處發(fā)生短路的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，因此，在執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S1101，利用第一修復(fù)裝置形成第一修復(fù)線之前，如圖12所示，還可以包括如下步驟：

S1201、將在第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生短路的第一信號(hào)線和第二信號(hào)線切斷。

下面針對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的如圖10所示的修復(fù)系統(tǒng)，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

在具體實(shí)施時(shí)，在執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S1101，利用第一修復(fù)裝置形成第一修復(fù)線時(shí)，如圖13所示，具體可以包括如下步驟：

S1301、在加熱部件加熱到第一預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第二反應(yīng)腔室的第二中通孔處，利用第一輸入管道向第一反應(yīng)腔室輸入摻有六羰基鎢的氬氣，利用激光器照射第一中通孔，在第一中通孔處形成的鎢粉沉積在顯示基板上形成第一修復(fù)線，反應(yīng)后的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道排出。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，可以將第一預(yù)設(shè)溫度控制在60℃左右為佳。

在具體實(shí)施時(shí)，在執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S1102，利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋第一修復(fù)線的絕緣層時(shí)，如圖13所示，具體可以包括如下步驟：

S1302、在加熱部件加熱到第二預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第一反應(yīng)腔室的第一中通孔處，利用第二輸入管道向第二反應(yīng)腔室輸入氨氣、氮?dú)夂凸柰椋眉す馄髡丈涞诙型?，在第二中通孔處形成的氮化硅沉積在顯示基板上形成絕緣層，反應(yīng)后的第二廢棄物通過(guò)第二輸出管道排出。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，可以將第二預(yù)設(shè)溫度控制在280℃至290℃的范圍為佳。

在具體實(shí)施時(shí)，在執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S1103，利用第一修復(fù)裝置在絕緣層上形成第二修復(fù)線時(shí)，具體可以包括如下步驟：

S1303、在加熱部件加熱到第一預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第二反應(yīng)腔室的第二中通孔處，利用第一輸入管道向第一反應(yīng)腔室輸入摻有六羰基鎢的氬氣，利用激光器照射第一中通孔，在第一中通孔處形成的鎢粉沉積在顯示基板上形成第二修復(fù)線，反應(yīng)后的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道排出。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，可以將第一預(yù)設(shè)溫度控制在60℃左右為佳。

在具體實(shí)施時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法可以利用軟件實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制，這樣，可以避免人工操作失誤導(dǎo)致的各種不良。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種信號(hào)線的修復(fù)方法，利用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)系統(tǒng)對(duì)信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，如圖14所示，包括如下步驟：

S1401、利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置的絕緣層：其中，第一信號(hào)線與第二信號(hào)線相互絕緣且第一信號(hào)線位于第二信號(hào)線的下方；

S1402、利用第一修復(fù)裝置在絕緣層上形成第一修復(fù)線，對(duì)在第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置處發(fā)生斷路的第一信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法，可以針對(duì)在形成第一信號(hào)線和第二信號(hào)線之后，即上方的信號(hào)線尚未被絕緣層覆蓋時(shí)，檢測(cè)出下方的信號(hào)線在交叉位置處發(fā)生斷路的情況(即如圖1a所示的情況)進(jìn)行修復(fù)。

下面針對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的如圖10所示的修復(fù)系統(tǒng)，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

在具體實(shí)施時(shí)，在執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S1401，利用第二修復(fù)裝置形成覆蓋第一信號(hào)線與第二信號(hào)線的交叉位置的絕緣層時(shí)，如圖15所示，具體可以包括如下步驟：

S1501、在加熱部件加熱到第二預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第一反應(yīng)腔室的第一中通孔處，利用第二輸入管道向第二反應(yīng)腔室輸入氨氣、氮?dú)夂凸柰?，利用激光器照射第二中通孔，在第二中通孔處形成的氮化硅沉積在顯示基板上形成絕緣層，反應(yīng)后的第二廢棄物通過(guò)第二輸出管道排出。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，可以將第二預(yù)設(shè)溫度控制在280℃至290℃的范圍為佳。

在具體實(shí)施時(shí)，在執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S1402，利用第一修復(fù)裝置在絕緣層上形成第一修復(fù)線時(shí)，如圖15所示，具體可以包括如下步驟：

S1502、在加熱部件加熱到第一預(yù)設(shè)溫度之后，將滑件滑至第二反應(yīng)腔室的第二中通孔處，利用第一輸入管道向第一反應(yīng)腔室輸入摻有六羰基鎢的氬氣，利用激光器照射第一中通孔，在第一中通孔處形成的鎢粉沉積在顯示基板上形成第一修復(fù)線，反應(yīng)后的第一廢棄物通過(guò)第一輸出管道排出。

較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，可以將第一預(yù)設(shè)溫度控制在60℃左右為佳。

在具體實(shí)施時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法可以利用軟件實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制，這樣，可以避免人工操作失誤導(dǎo)致的各種不良。

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種信號(hào)線的修復(fù)系統(tǒng)及修復(fù)方法，修復(fù)系統(tǒng)包括用于形成導(dǎo)電的修復(fù)線的第一修復(fù)裝置和用于形成絕緣層的第二修復(fù)裝置；針對(duì)交叉的兩條信號(hào)線在交叉位置都發(fā)生斷路的情況，可以先利用第一修復(fù)裝置對(duì)其中一條信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，再利用第二修復(fù)裝置形成絕緣層，最后利用第一修復(fù)裝置對(duì)另一條信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，這樣，既可以避免交叉的兩條信號(hào)線之間發(fā)生短路的問(wèn)題，又可以避免將其中一條信號(hào)線的修復(fù)線設(shè)計(jì)為遠(yuǎn)離另一條信號(hào)線的修復(fù)線而增加修復(fù)失敗的風(fēng)險(xiǎn)；針對(duì)在交叉的兩條信號(hào)線形成后檢測(cè)出下方的信號(hào)線在交叉位置發(fā)生斷路的情況，可以先利用第二修復(fù)裝置形成絕緣層，再利用第一修復(fù)裝置對(duì)下方的信號(hào)線進(jìn)行修復(fù)，這樣，既可以避免交叉的兩條信號(hào)線之間發(fā)生短路的問(wèn)題，又可以避免因修復(fù)不及時(shí)導(dǎo)致的漏檢漏修風(fēng)險(xiǎn)。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。