本發(fā)明屬于液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種制備平坦化液晶顯示器膜層的方法。

背景技術(shù)：

目前，大尺寸、高分辨率顯示面板已經(jīng)成為液晶顯示器(LCD)的一個(gè)發(fā)展趨勢。然而，隨著LCD面板尺寸的不斷增大，Gate和Data走線的信號延遲(RC delay)也不斷增大(如圖1所示)，過大的信號延遲會引起像素區(qū)充電不足和錯(cuò)充等現(xiàn)象，嚴(yán)重影響LCD面板的顯示質(zhì)量，例如LCD面板顯示不良，畫面異常。

為了解決上述問題，現(xiàn)有技術(shù)中提出增加金屬層厚度，在不增加電容的情況下，降低電阻、減小信號線負(fù)載。但金屬層過厚，會影響陣列(Array)成膜的地形，導(dǎo)致金屬層上覆蓋的膜層爬坡困難，出現(xiàn)斷裂(如圖2所示)，引起走線腐蝕，短接等問題，嚴(yán)重降低產(chǎn)品成品率。同時(shí)傳統(tǒng)的陣列制程沒有平坦化工藝，限制了信號線阻值的持續(xù)降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種提高LCD膜層平坦度的方法，降低走線厚度對陣列成膜地形的影響，在不影響產(chǎn)品良率的前提下，實(shí)現(xiàn)低電阻布線，從而降低大尺寸面板信號傳輸?shù)腞C delay。

為此，本發(fā)明第一方面提供了一種平坦化液晶顯示器膜層，其結(jié)構(gòu)包括：

基板；

顯影處理后負(fù)性光阻層，其位于基板的上表面；

平坦化液晶顯示器膜層，其嵌入顯影后負(fù)性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)，并與顯影后負(fù)性光阻層平齊。

在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述平坦化液晶顯示器膜層的結(jié)構(gòu)還包括

負(fù)性光阻層保護(hù)層，其位于平坦化液晶顯示器膜層之下，同時(shí)覆蓋于顯影處理后負(fù)性光阻層的表面，以及具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面。

本發(fā)明第二方面提供了一種制備如第一方面所述平坦化液晶顯示器膜層的方法，其包括：

步驟A，在基板上涂布負(fù)性光阻層，并利用液晶顯示器膜層掩模版對負(fù)性光阻層進(jìn)行曝光處理，獲得覆蓋于基板上的曝光處理后負(fù)性光阻層；

步驟B，對曝光處理后負(fù)性光阻層進(jìn)行顯影處理，在覆蓋于基板上表面的顯影處理后負(fù)性光阻層中形成具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；

步驟D，在顯影處理后負(fù)性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面濺射生長液晶顯示器膜層，使液晶顯示器膜層覆蓋于顯影處理后負(fù)性光阻層表面，同時(shí)覆蓋具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面；

步驟E，在液晶顯示器膜層表面涂布正性光阻層，使正性光阻層覆蓋液晶顯示器膜層表面，并填充具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；

步驟F，利用液晶顯示器膜層掩模版對正性光阻層進(jìn)行曝光處理，并進(jìn)行顯影處理，所形成的顯影處理后正性光阻層嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)；

步驟G，利用光阻圖案掩膜刻蝕掉多余的液晶顯示器膜層，獲得平坦化液晶顯示器膜層。

在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述方法還包括在顯影處理后負(fù)性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面涂覆負(fù)性光阻層保護(hù)層的步驟C。

根據(jù)本發(fā)明，在步驟G中，平坦化液晶顯示器膜層嵌入顯影后負(fù)性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)并與顯影后負(fù)性光阻層平齊。

根據(jù)本發(fā)明，在步驟A中，涂覆負(fù)性光阻層的厚度為液晶顯示器膜層厚度的1.0-1.5倍。

根據(jù)本發(fā)明，在步驟D中，在表面覆蓋有負(fù)性光阻層保護(hù)層的顯影處理后負(fù)性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面濺射生長液晶顯示器膜層，使液晶顯示器膜層覆蓋于表面覆蓋有負(fù)性光阻層保護(hù)層的顯影處理后負(fù)性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙的表面。

根據(jù)本發(fā)明，所述負(fù)性光阻層保護(hù)層的厚度為0.1-0.2μm。

在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述負(fù)性光阻層保護(hù)層的材料為氮化硅或氧化硅。

根據(jù)本發(fā)明，所述液晶顯示器膜層材料為金屬M(fèi)1、金屬M(fèi)2或黑矩陣(BM).

根據(jù)本發(fā)明，所述基板為玻璃基板或塑料基板。

本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明所述的平坦化液晶顯示器膜層的方法，能夠降低走線厚度對陣列成膜地形的影響，在不影響產(chǎn)品良率的前提下，實(shí)現(xiàn)低電阻布線，從而降低大尺寸面板信號傳輸?shù)腞C delay。同時(shí)采用該方法，可以制作比傳統(tǒng)方法更厚的金屬層，有效降低大尺寸面板走線的負(fù)載，降低信號線電阻，減小信號延遲，提升顯示質(zhì)量。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖來說明本發(fā)明。

圖1為Gate和Data走線的信號延遲示意圖。

圖2為過厚的金屬層所導(dǎo)致的覆蓋在金屬層上的膜層斷裂情況示意圖。

圖3-6示出了本發(fā)明的平坦化液晶顯示器膜層的方法的一些實(shí)施方式的主要工藝步驟，該過程中負(fù)性光阻層表面不形成負(fù)性光阻保護(hù)層。

圖3為對覆蓋于基板上的負(fù)性光阻層進(jìn)行曝光處理的步驟示意圖。

圖4為形成的具有液晶顯示器膜層定義形狀空隙的負(fù)性光阻層的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5為顯影后的正性光阻層嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6為獲得的平坦化液晶顯示器膜層的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3-4和7-8示出了本發(fā)明的平坦化液晶顯示器膜層的方法的另一些實(shí)施方式的主要工藝步驟，該過程中負(fù)性光阻層表面形成負(fù)性光阻保護(hù)層。

圖7為顯影處理后正性光阻層嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖8為獲得的平坦化液晶顯示器膜層的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中，圖中附圖標(biāo)記的含義如下：1基板；2負(fù)性光阻層；2，顯影處理后負(fù)性光阻層；3液晶顯示器膜層；3，平坦化液晶顯示器膜層；4正性光阻層；4，顯影處理后正性光阻層；5具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；6液晶顯示器膜層掩模版；7負(fù)性光阻層保護(hù)層。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明容易理解，下面將結(jié)合實(shí)施例和附圖來詳細(xì)說明本發(fā)明，這些實(shí)施例僅起說明性作用，并不局限于本發(fā)明的應(yīng)用范圍。

如前所述，通過增加金屬層的厚度，來降低信號延遲的方法，易引起走線腐蝕，短接等問題，嚴(yán)重降低產(chǎn)品成品率。同時(shí)傳統(tǒng)的陣列制程沒有平坦化工藝，阻止了金屬層的持續(xù)加厚，限制了信號線阻值的持續(xù)降低。本發(fā)明人首次利用負(fù)性光阻用于提升陣列的平坦度，來降低走線厚度對陣列地形的影響，實(shí)現(xiàn)低電阻布線。本發(fā)明正是基于上述方法做出的。

實(shí)施例1

圖3-6示出了本發(fā)明的一種平坦化液晶顯示器膜層的方法的一些實(shí)施方式的主要工藝步驟，所述液晶顯示器膜層的材料為金屬M(fèi)1、金屬M(fèi)2或黑矩陣(BM)，所述工藝步驟主要包括：

步驟A，如圖3所示，在基板1上涂布負(fù)性光阻層2，并利用液晶顯示器膜層掩模版6對負(fù)性光阻層2進(jìn)行曝光處理，獲得覆蓋于基板1上的曝光處理后負(fù)性光阻層2。

步驟B，對曝光處理后負(fù)性光阻層2進(jìn)行顯影處理，在覆蓋于基板上表面的顯影處理后負(fù)性光阻層2，中形成具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5，結(jié)構(gòu)如圖4所示；

從圖4可知，所述結(jié)構(gòu)包括：

基板1，其為玻璃基板或塑料基板；以及

顯影處理后負(fù)性光阻層2，，其位于基板1的上表面。

步驟D，在顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面濺射生長液晶顯示器膜層3，使液晶顯示器膜層3覆蓋于顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面，同時(shí)覆蓋具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面。

步驟E，在液晶顯示器膜層3表面涂布正性光阻層(其結(jié)構(gòu)未示出)，使正性光阻層覆蓋液晶顯示器膜層3表面，并填充具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5。

步驟F，利用液晶顯示器膜層掩模版6對正性光阻層進(jìn)行曝光處理，并進(jìn)行顯影處理，所形成的顯影處理后正性光阻層4，嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)，結(jié)構(gòu)如圖5所示；

從圖5可知，所述結(jié)構(gòu)包括：

基板1，其為玻璃基板或塑料基板；

顯影處理后負(fù)性光阻層2，，其位于基板1的上表面；

液晶顯示器膜層3，其覆蓋于顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面，同時(shí)覆蓋于具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面；以及

顯影處理后正性光阻層4，，其嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)。

步驟G，利用光阻圖案掩膜刻蝕掉多余的液晶顯示器膜層，獲得平坦化液晶顯示器膜層3，，平坦化液晶顯示器膜層3，嵌入顯影后負(fù)性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5內(nèi)并與顯影后負(fù)性光阻層2，平齊，結(jié)構(gòu)如圖6所示；

從圖6可知，所述結(jié)構(gòu)包括：

基板1，其為玻璃基板或塑料基板；

顯影處理后負(fù)性光阻層2，，其位于基板1的上表面；

平坦化液晶顯示器膜層3，，其嵌入顯影后負(fù)性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5內(nèi)。

實(shí)施例2

圖3-4和7-8示出了本發(fā)明的一種平坦化液晶顯示器膜層的方法的一些實(shí)施方式的主要工藝步驟，所述液晶顯示器膜層的材料為金屬M(fèi)1、金屬M(fèi)2或黑矩陣(BM)，所述工藝步驟主要包括：

步驟A，如圖3所示，在基板1上涂布負(fù)性光阻層2，并利用液晶顯示器膜層掩模版6對負(fù)性光阻層2進(jìn)行曝光處理，獲得覆蓋于基板1上的曝光處理后負(fù)性光阻層2。

步驟B，對曝光處理后負(fù)性光阻層2進(jìn)行顯影處理，在覆蓋于基板上表面的顯影處理后負(fù)性光阻層2，中形成具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5，結(jié)構(gòu)如圖4所示；

從圖4可知，所述結(jié)構(gòu)包括：

基板1，其為玻璃基板或塑料基板；以及

顯影處理后負(fù)性光阻層2，，其位于基板1的上表面。

步驟C，在顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面涂覆負(fù)性光阻層保護(hù)層7；在一些實(shí)施例中，優(yōu)選所述負(fù)性光阻層保護(hù)層7的材料為氮化硅或氧化硅；在另一些實(shí)施例中，優(yōu)選所述負(fù)性光阻層保護(hù)層7的厚度為0.1-0.2μm。

在步驟D中，在表面覆蓋有負(fù)性光阻層保護(hù)層7的顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面濺射生長液晶顯示器膜層3，使液晶顯示器膜層3覆蓋于表面覆蓋有負(fù)性光阻層保護(hù)層7的顯影處理后負(fù)性光阻層表面2，和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5的表面，即所述液晶顯示器膜層3覆蓋于負(fù)性光阻層保護(hù)層7的表面。

步驟E，在液晶顯示器膜層3表面涂布正性光阻層(其結(jié)構(gòu)未示出)，使正性光阻層覆蓋液晶顯示器膜層3表面，并填充具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5。

步驟F，利用液晶顯示器膜層掩模版6對正性光阻層進(jìn)行曝光處理，并進(jìn)行顯影處理，所形成的顯影處理后正性光阻層4，嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)，結(jié)構(gòu)如圖7所示；

從圖7可知，所述結(jié)構(gòu)包括：

基板1，其為玻璃基板或塑料基板；

顯影處理后負(fù)性光阻層2，，其位于基板1的上表面；

負(fù)性光阻層保護(hù)層7，其覆蓋于顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面；

液晶顯示器膜層3，其覆蓋于負(fù)性光阻層保護(hù)層7的表面；以及

顯影處理后正性光阻層4，，其嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內(nèi)。

步驟G，利用光阻圖案掩膜刻蝕掉多余的液晶顯示器膜層，獲得平坦化液晶顯示器膜層3，，平坦化液晶顯示器膜層3，嵌入顯影后負(fù)性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5內(nèi)并與顯影后負(fù)性光阻層2，平齊，結(jié)構(gòu)如圖8所示；

從圖8可知，所述結(jié)構(gòu)包括：

基板1，其為玻璃基板或塑料基板；

顯影處理后負(fù)性光阻層2，，其位于基板1的上表面；

負(fù)性光阻層保護(hù)層7，其覆蓋于顯影處理后負(fù)性光阻層2，表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5表面；以及

平坦化液晶顯示器膜層3，，其嵌入表面覆蓋有負(fù)性光阻層保護(hù)層7顯影后負(fù)性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙5內(nèi)。

在圖3-6所示的平坦化液晶顯示器膜層的方法的實(shí)施方式中，由于操作過程中負(fù)性光阻層表面不形成負(fù)性光阻保護(hù)層，因此在對曝光后負(fù)性光阻層進(jìn)行顯影處理時(shí)，需要選擇使用顯影液，以防破壞負(fù)性光阻層。

圖3-4和7-8所示的平坦化液晶顯示器膜層的方法的實(shí)施方式中，由于操作過程中負(fù)性光阻層表面形成負(fù)性光阻保護(hù)層，因此在對曝光后負(fù)性光阻層進(jìn)行顯影處理時(shí)，顯影液的可選擇的范圍很寬。

應(yīng)當(dāng)注意的是，以上所述的實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的任何限制。通過參照典型實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了描述，但應(yīng)當(dāng)理解為其中所用的詞語為描述性和解釋性詞匯，而不是限定性詞匯?？梢园匆?guī)定在本發(fā)明權(quán)利要求的范圍內(nèi)對本發(fā)明作出修改，以及在不背離本發(fā)明的范圍和精神內(nèi)對本發(fā)明進(jìn)行修訂。盡管其中描述的本發(fā)明涉及特定的方法、材料和實(shí)施例，但是并不意味著本發(fā)明限于其中公開的特定例，相反，本發(fā)明可擴(kuò)展至其他所有具有相同功能的方法和應(yīng)用。