本發(fā)明涉及液晶顯示面板制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種擋板及包含該擋板的真空干燥機，該擋板設(shè)置在真空干燥機的氣室內(nèi)，且位于待干燥的基板和排氣管道之間。

背景技術(shù)：

光刻膠，又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體，其中的溶劑主要為有機溶劑，感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親和性等發(fā)生明顯變化，經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?，溶去可溶性部分，得到所需圖像。

在液晶顯示面板制造技術(shù)中，在制作陣列基板的制程中，在照相蝕刻技術(shù)中，需要用涂布機將光刻膠涂布到基板上，為了防止光刻膠涂布后在基板上流動，在涂布機將光刻膠涂布到基板之后，會使用真空干燥機將光刻膠中70～80％的有機溶劑抽走，以減少膜面流動性，保證膜面的平坦度及光刻膠穩(wěn)定性。目前，在使用真空干燥機對陣列基板進行干燥時，無論是向上抽氣還是向下抽氣，都會在基板上方增加一片擋板，制造出一個狹縫抽氣的環(huán)境(如圖1所示)，在真空干燥機的基臺11上設(shè)置有待干燥的陣列基板12，在真空干燥機的氣室14內(nèi)位于陣列基板12的正上方位置設(shè)置有擋板13，在擋板13和陣列基板12之間形成狹縫16，當(dāng)排氣管道15開始工作時，涂布在陣列基板12上的光刻膠的有機溶劑揮發(fā)，沿圖1中的氣流方向經(jīng)過排氣管道15排出，由于設(shè)置了狹縫16保證了抽氣的穩(wěn)定性，能夠防止光刻膠中的有機溶劑突沸造成氣孔，但這種方式會使陣列基板中心處抽氣量相對減少，經(jīng)過氣流模擬，發(fā)現(xiàn)這種方式會使得陣列基板上方的氣流形成類似“X”型的氣流分布圖，如圖2，從圖2中可以看出，擋板邊角區(qū)21處的氣流較強，然后氣流從邊角區(qū)向擋板中心處氣流減弱，而且氣流較弱區(qū)23呈現(xiàn)出類似“十”字形狀，且沿陣列基板對角線位置處出現(xiàn)最弱區(qū)，這樣就造成陣列基板抽氣不均勻，導(dǎo)致中心處抽氣不良，在陣列基板的中心區(qū)域形成缺陷120(如圖3)。

現(xiàn)有技術(shù)中，為了解決中心抽氣不良的問題，主要有兩種方法：第一種是增加抽氣量，即增加抽氣速率或抽氣時間，這種方法對中心抽氣不良問題有一定的改善，但是偶爾會出現(xiàn)邊緣抽氣過度的問題，而且增加抽氣量會給廠務(wù)端真空和排氣系統(tǒng)增加負擔(dān)；第二種方法是增加抽氣管路，一般由一個或兩個抽氣管路增加至八個，然而這種方法對于抽氣管間的抽氣均一性會有更高的要求，且抽氣管路增多，使得抽氣管出現(xiàn)問題的概率增大，保養(yǎng)頻率也隨之增加。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的擋板造成的陣列基板抽氣不均勻?qū)е轮行奶幊闅獠涣紗栴}，本發(fā)明提出了一種擋板，并進一步提出了一種包含該擋板的真空干燥機。

本發(fā)明提出的擋板，包括第一板面和第二板面，所述第一板面與所述第二板面相對平行設(shè)置，所述擋板的中心區(qū)域設(shè)置有穿過所述第一板面和所述第二板面的孔洞。

由于陣列基板的中心處抽氣不良，所以當(dāng)陣列基板正上方的擋板的中心區(qū)域設(shè)置孔洞后，排氣管道可直接從擋板的中心處對陣列基板進行抽氣干燥，使得陣列基板中心區(qū)域的氣流路徑縮短，很好的改善了陣列基板中心區(qū)域的抽氣效果，使得陣列基板上方的氣流更加均勻。

作為對本發(fā)明的進一步改進，所述孔洞的截面呈“X”型，且沿所述第一板面的法線方向觀測，所述擋板呈正四邊形，所述孔洞的兩條對角邊分別沿所述擋板的兩條對角線方向設(shè)置，進一步，所述孔洞的對稱軸與所述擋板的對稱軸重合。

從氣流的模擬效果圖中可以看出，由于陣列基板呈長方形，所以沿長方形陣列基板的邊角區(qū)向中心處氣流減弱，且氣流流速變化呈現(xiàn)出類似“十”字型，為了改善氣流不均衡的問題，當(dāng)如上設(shè)置擋板中心處的孔洞時，減小了擋板在中心區(qū)域的遮擋面積，使得陣列基板對角線處和中心區(qū)域的揮發(fā)氣體可以直接經(jīng)過孔洞進入排氣管道，縮短了中心區(qū)域揮發(fā)氣體的流動路徑，大大改善了陣列基板中心區(qū)域處的氣體流速，使得陣列基板上方的氣流更加均勻，避免中心區(qū)域由于抽氣不良導(dǎo)致的缺陷。

在本發(fā)明的一個實施例中，所述孔洞的周面與所述第一板面垂直，這種設(shè)置，有利于擋板的加工制造。

在本發(fā)明的一個實施例中，從第二板面至第一板面，所述孔洞的周面的橫截面沿所述第一板面的法線方向逐漸縮小，由于靠近陣列基板處的揮發(fā)氣體濃度較高，這種設(shè)置，當(dāng)對陣列基板進行干燥時，可以使擋板的第二板面正對陣列基板的干燥面，從而使得靠近陣列基板處的孔洞較大，更有利于濃度較高的氣體通過孔洞，且由于孔洞的周面與第二板面呈一坡度，避免在第二板面與孔洞的周面處形成死角，從而避免了揮發(fā)氣體形成渦流對基板的光刻膠面造成沖擊，進一步防止了缺陷的發(fā)生。

優(yōu)選地，所述孔洞的周面與所述第一板面的夾角呈30度。

作為對擋板的進一步改進，從第二板面至第一板面，所述擋板的外周面的橫截面沿所述第一板面的法線方向逐漸增大，優(yōu)選地，所述擋板的外周面與所述第一板面的夾角呈30度。

這樣設(shè)置，擋板的外周面成為斜面，不再是直角，這就緩沖了沿擋板周邊的氣流流速，使得氣流流通更平緩、順暢，防止擋板周邊邊緣抽氣過快導(dǎo)致溶劑突沸，提高了干燥的效率。

本發(fā)明同時提出了一種真空干燥機，包括基臺、氣室和排氣管道，還包括本發(fā)明提出的擋板，其中，待干燥的陣列基板設(shè)置在所述基臺上，陣列基板的待干燥面朝向所述排氣管道，所述擋板設(shè)置在陣列基板的正上方，且所述擋板的第二板面與陣列基板的待干燥面相對設(shè)置，所述擋板的第一板面朝向所述排氣管道。

上述真空干燥機，由于使用了本發(fā)明提出的擋板，使得陣列基板上的氣流更均勻，由于擋板中心處的孔洞的設(shè)置，避免了陣列基板中心處抽氣不良，使得抽氣更均勻，進一步提高了真空干燥機的效率，提高了產(chǎn)品的品質(zhì)。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細的描述。其中：

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中真空干燥機及擋板的工作原理示意圖；

圖2為圖1所示的陣列基板上方的氣流模擬效果圖；

圖3為圖1中的真空干燥機導(dǎo)致基板中心抽氣不良出現(xiàn)缺陷示意圖；

圖4為圖2的氣流補充圖像示意圖；

圖5為本發(fā)明提出的擋板示意圖；

圖6為圖5的擋板剖面圖；

圖7為第二個實施例的擋板的剖面圖；

圖8為本發(fā)明提出的真空干燥機結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9a為使用現(xiàn)有技術(shù)的擋板的陣列基板上方的氣流模擬效果圖；

圖9b為使用本發(fā)明的擋板的陣列基板上方的氣流模擬效果圖。

在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實際的比例。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖，對本發(fā)明的內(nèi)容作出進一步的說明，以下內(nèi)容為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，不應(yīng)理解為對本發(fā)明內(nèi)容的限制。

針對圖1中的擋板導(dǎo)致的陣列基板上方氣流不均的問題，根據(jù)圖2所示效果圖，經(jīng)過研究，可以采用一種對圖2所示效果進行氣流補充的方法，即在擋板的中心區(qū)域增設(shè)孔洞，經(jīng)過多次試驗驗證，發(fā)現(xiàn)當(dāng)增設(shè)的孔洞與圖2中中心區(qū)域23相匹配時，如圖4所示效果，可以均衡陣列基板上方的氣流，再經(jīng)過多次研究，提出了本發(fā)明中的擋板，可以更好的均衡陣列基板上方的氣流。

實施例一：

如圖5為本發(fā)明提出的第一種擋板23的示意圖，圖6為圖5的A-A截面圖，結(jié)合圖5和圖6，擋板23包括第一板面233、第二板面234，第一板面233和第二板面234相對平行設(shè)置，且第一板面233和第二板面234分別設(shè)置在擋板23的兩側(cè)，沿第一板面的法線方向觀測，擋板23的中心區(qū)域有穿過第一板面233和第二板面234的孔洞232，如圖5所示，孔洞232穿過第一板面233和第二面板234，其中，孔洞232的大小可根據(jù)實際進行調(diào)整。

當(dāng)在擋板23的中心處設(shè)置孔洞232后，陣列基板中心區(qū)域處的揮發(fā)氣體可直接通過孔洞進入抽氣管道內(nèi)，縮短了中心區(qū)域處氣流的流通路徑，使得中心區(qū)域的氣流流速與擋板邊角處的氣流流速趨近，使得陣列基板上方的氣流更均勻，避免了由于中心區(qū)域氣流不均衡導(dǎo)致的中心區(qū)缺陷。

從圖5中可以看出，優(yōu)選地，孔洞232呈“X”型，當(dāng)沿第一板面233的法線方向觀測時，優(yōu)選地，擋板23呈正四邊形，此時，“X”型孔洞的兩條對角線分別沿擋板23的兩條對角線2361和2362設(shè)置，這樣就能改善陣列基板對角線區(qū)域的氣流流速，縮小圖2中邊角區(qū)域21的面積，尤其當(dāng)孔洞232為對稱圖形，且孔洞232的對稱軸與擋板23的對稱軸重合時，不僅可進一步均衡陣列基板上方的氣流，而且更有利于擋板的加工制造，從圖5中可進一步看出，孔洞232在對角線處的形狀類似于一個兩角小爪，當(dāng)然孔洞232的具體形狀和大小可以根據(jù)具體效果進一步確定。

這樣設(shè)置的孔洞，減小了擋板23在中心區(qū)域?qū)﹃嚵谢宓恼趽趺娣e，使得處于陣列基板中心區(qū)域的揮發(fā)氣體可以直接經(jīng)過孔洞232進入排氣管道，當(dāng)孔洞的對角線與擋板的對角線一致時，可以改善陣列基板對角線區(qū)域的氣流流速，使得陣列基板邊角區(qū)域的氣流流速與中心區(qū)域氣流流速趨近，進一步縮短了中心區(qū)域揮發(fā)氣體的流動路徑，大大改善了陣列基板中心區(qū)域處的氣體流速，使得陣列基板上方的氣流更加均勻，避免中心區(qū)域由于抽氣不良導(dǎo)致的缺陷。

如圖6所示，孔洞232穿過第一板面233和第二板面234，孔洞232的周面2321與第一板面233垂直，擋板23的外周面237也與第一板面233垂直，這樣設(shè)置，有利于擋板的加工制作，例如，可選取鈑金件制作擋板，使用線切割技術(shù)在擋板的中心區(qū)域獲得所需形狀的孔洞。

實施例二：

在本發(fā)明的第二個實施例中，與實施例一不同的是，擋板23’沿A-A的截面圖如圖7所示，擋板23’的孔洞232’的周面2321’的橫截面從第二板面234’至第一板面233’沿第一板面的法向方向逐漸減小，優(yōu)選地，周面2321’與第一板面233’的夾角β為30度，同時，擋板23’的周面237’也不再與第一板面233’垂直，而是擋板23’的外周面237’從第二板面至第一板面沿第一板面的法線方向逐漸增大，如圖7所示，優(yōu)選地，擋板23’的周面237’與第一板面233’的夾角θ為30度。

當(dāng)將孔洞的周面和擋板的外周面如上所述設(shè)置時，當(dāng)對陣列基板進行干燥時，可以使擋板的第二板面正對陣列基板的干燥面，從而使得靠近陣列基板處的孔洞較大，更有利于靠近陣列基板處濃度較高的氣體通過孔洞，且由于孔洞的周面與第二板面呈一斜面，避免在第二板面與孔洞的周面處形成死角，從而避免了揮發(fā)氣體形成渦流對基板的光刻膠面造成沖擊，進一步防止了缺陷的發(fā)生，當(dāng)擋板的外周面成為斜面，不再是直角，這就緩沖了沿擋板周邊的氣流流速，使得氣流流通更平緩、順暢，提高了干燥的效率。

本發(fā)明同時提出了一種真空干燥機30，該真空干燥機30包含本發(fā)明提出的擋板23’，如圖8所示為真空干燥機30的結(jié)構(gòu)原理圖，真空干燥機30包括基臺31、氣室34和排氣管道35，待干燥的陣列基板12放置在基臺31上，陣列基板12的待干燥面朝向排氣管道35，擋板23’設(shè)置在陣列基板12的正上方，且擋板23’的第二板面234’與陣列基板12的待干燥面相對設(shè)置，擋板23’的第一板面233’朝向排氣管道35，從圖中可以看出，擋板23’的孔洞232’的大口朝向陣列基板的待干燥面，有利于陣列基板中心區(qū)域的氣體通過孔洞，且由于孔洞周面自下而上呈一逐漸縮小的錐形，避免了在第二板面與孔洞的周面處形成死角，從而避免了揮發(fā)氣體形成渦流對基板的光刻膠面造成沖擊，進一步防止了缺陷的發(fā)生，同時擋板的外周面自下而上呈一逐漸擴大的錐形，不再是直角，這就緩沖了沿擋板周邊的氣流流速，使得氣流流通更平緩、順暢，提高了干燥的效率。

圖9a所示為現(xiàn)有技術(shù)的真空干燥機的陣列基板上方氣流模擬效果圖，圖9b為與本發(fā)明提出的真空干燥機的陣列基板上方氣流模擬效果圖，對比圖9a和圖9b可以看出，當(dāng)使用本發(fā)明提出的擋板后，陣列基板上方的氣流更加均勻，只是靠近陣列基板周邊很小一部分區(qū)域氣流流速較高，但陣列基板上方的整體氣流流速更加均勻，從而避免了中心區(qū)域缺陷的形成，提高了產(chǎn)品的品質(zhì)。

最后說明的是，以上實施例僅用于說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實施例對本發(fā)明進行了詳細說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的宗旨和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。