1.一種掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：
支撐掩膜板；及
精密掩膜板，所述精密掩膜板位于所述支撐掩膜板上，所述精密掩膜板包括過渡區(qū)，所述過渡區(qū)中具有第一圖案，所述第一圖案包括通孔，所述過渡區(qū)與所述支撐掩膜板對應(yīng)。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述精密掩膜板還包括有效區(qū)，所述有效區(qū)中具有第二圖案。
3.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一圖案與所述第二圖案相同。
4.如權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第一圖案與所述第二圖案同時形成。
5.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一圖案通過全刻蝕工藝形成。
6.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的數(shù)量為一個或者多個。
7.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的形狀為方形、圓形或者三角形。
8.如權(quán)利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的最大截面寬度為10μm～100μm。
9.如權(quán)利要求1～8中任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述精密掩膜板和支撐掩膜板的材料均為金屬。
10.如權(quán)利要求1～8中任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述精密掩膜板和支撐掩膜板的厚度均為10μm～100μm。