本發(fā)明涉及液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及一種量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，液晶顯示器(LCD)等平面顯示裝置因具有高畫質(zhì)、省電、機(jī)身薄及應(yīng)用范圍廣等優(yōu)點，而被廣泛的應(yīng)用于手機(jī)、電視、個人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、筆記本電腦、臺式計算機(jī)等各種消費性電子產(chǎn)品，成為顯示裝置中的主流。

通常液晶顯示面板由彩膜(CF)基板、薄膜晶體管(TFT)基板、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC)及密封膠框(Sealant)組成，其成型工藝一般包括：前段陣列(Array)制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板與CF基板貼合)及后段模組組裝制程(驅(qū)動IC與印刷電路板壓合)。低溫多晶硅(LTPS)是廣泛用于中小電子產(chǎn)品中的一種液晶顯示技術(shù)，低溫多晶硅液晶顯示器具有高解析度、反應(yīng)速度快、高開口率等諸多優(yōu)點。

陣列(Array)制程中，各PEP(光刻制程)生產(chǎn)過程中PH(黃光)后和蝕刻(Etch)后都需要量測CD(關(guān)鍵尺寸)(線寬)，CD大小直接影響到產(chǎn)品電性能。但是隨著產(chǎn)品層(Layer)增加，多層堆疊，導(dǎo)致AA(有效區(qū)域)區(qū)圖像(Pattern)過于復(fù)雜而無法直接量測。目前比較常見的方法為設(shè)置CD測試鍵(Test key)量測，但是因為負(fù)載效應(yīng)(Loading effect)，其他制程因素干擾，CD測試鍵和AA區(qū)CD始終存在差異，無法實現(xiàn)等效替代。

參見圖1，其為現(xiàn)有技術(shù)中LTPS產(chǎn)品多層堆疊之后的產(chǎn)品設(shè)計圖。各層界限交疊，給CD量測帶來困難。各層待量測CD的圖像(Pattern)1都位于最上面，目前遇到的量測困難點在于其下各層圖像對待量測CD的圖像1的干擾。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法，降低關(guān)鍵尺寸量測干擾，直接量測AA區(qū)關(guān)鍵尺寸。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種量測面板內(nèi)關(guān)鍵尺寸的方法，包括：

步驟10、定義出所需要量測圖像的外觀；

步驟20、識別出需要量測的圖像，采用灰階增強(qiáng)技術(shù)增強(qiáng)對比；

步驟30、截取灰階增強(qiáng)后的圖像；

步驟40、進(jìn)行圖像處理和量測。

其中，所述面板為液晶面板的有效區(qū)域。

其中，步驟10中預(yù)先用實體拍照，將需要量測的圖像模型保存到測量軟件中。

其中，步驟20中，利用攝像裝置獲得對應(yīng)于面板的圖像。

其中，步驟20中，利用圖像提取技術(shù)在對應(yīng)于面板的圖像中識別出需要量測的圖像。

其中，步驟20中，于面板所對應(yīng)圖像的指定坐標(biāo)尋找步驟10中所保存的圖像模型，找到之后做灰階增強(qiáng)處理，增強(qiáng)對比的程度以背景最高的灰階都不會對量測所需要量測的圖像造成干擾為目標(biāo)。

其中，步驟40中調(diào)整圖像的角度以便于量測。

其中，所述所需要量測的圖像為液晶面板的透明電極。

其中，所述所需要量測的圖像為液晶面板的掃描線。

其中，所述所需要量測的圖像為液晶面板的數(shù)據(jù)線。

綜上，本發(fā)明的量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法，降低了關(guān)鍵尺寸量測干擾，實現(xiàn)AA區(qū)關(guān)鍵尺寸的直接量測。

附圖說明

下面結(jié)合附圖，通過對本發(fā)明的具體實施方式詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中LTPS產(chǎn)品多層堆疊之后的產(chǎn)品設(shè)計圖；

圖2為本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法中步驟10的示意圖；

圖3為本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法中步驟20的示意圖；

圖4為本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法中步驟30的示意圖；

圖5為本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法中步驟40的示意圖；

圖6為本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法的流程圖。

具體實施方式

參見2至圖6，圖6為本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法的流程圖，圖2至圖5為各步驟的示意圖。面板可以為液晶面板的有效區(qū)域或其他適用區(qū)域。所需要量測圖像可以為液晶面板的透明電極，掃描線，或數(shù)據(jù)線等。

本發(fā)明量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法主要包括：

步驟10、定義出所需要量測圖像的外觀。如圖2所示，通過參數(shù)(Recipe)設(shè)置定義出所需要量測圖像2的外觀，也就是設(shè)置需要截取圖像的外觀式樣。可以預(yù)先用實體拍照(CCD拍照)，將需要量測的圖像模型保存到相關(guān)的測量軟件中(量測軟件保存)。

步驟20、識別出需要量測的圖像，采用灰階增強(qiáng)技術(shù)增強(qiáng)對比。于面板所對應(yīng)圖像的指定坐標(biāo)尋找步驟10中所保存的圖像模型(通過量測軟件自動找尋)，找到之后做灰階增強(qiáng)處理(量測軟件灰階處理)，灰階對比增強(qiáng)的程度以背景最高的灰階都不會對量測造成干擾為目標(biāo)，由于各道圖像的膜質(zhì)和排線位置不同，使用的灰階對比不是固定值而是一個范圍。如圖3所示，圖3左側(cè)為灰階增強(qiáng)前的原始圖，右側(cè)為增強(qiáng)后的圖。本發(fā)明可以利用攝像裝置獲得對應(yīng)于面板的圖像，然后利用圖像提取技術(shù)自動比對相關(guān)的圖像模型，找到相關(guān)圖像之后進(jìn)行灰階增強(qiáng)。在對應(yīng)于面板的圖像中識別出需要量測的圖像3，再采用灰階增強(qiáng)技術(shù)增強(qiáng)對比，獲得圖像4。通過灰階增強(qiáng)，使得待測圖像能顯著區(qū)別于其它層的圖像，方便截取圖像進(jìn)行測量。

步驟30、截取灰階增強(qiáng)后的圖像。如圖4所示，截取獲得補(bǔ)強(qiáng)之后的圖像4。通過量測軟件對灰階處理后的圖像做提取。

步驟40、進(jìn)行圖像處理和量測。量測軟件對圖像進(jìn)行轉(zhuǎn)向等處理，量測。如圖5所示，左側(cè)為圖像處理前，右側(cè)為圖像處理后，為方便展示，示意圖中放大了圖像的尺寸。調(diào)整圖像4的角度得到圖像5以便于量測，圖像處理后，量測圖像5得到關(guān)鍵尺寸a，完成關(guān)鍵尺寸量測。

綜上，本發(fā)明的量測面板內(nèi)圖像尺寸的方法，將光學(xué)灰階補(bǔ)償和圖像提取技術(shù)結(jié)合起來應(yīng)用到CD量測中，對于所有產(chǎn)品的關(guān)鍵尺寸量測均可使用，降低了關(guān)鍵尺寸量測干擾，實現(xiàn)AA區(qū)關(guān)鍵尺寸的直接量測。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。