技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種掩模版的制作方法，包括：對盒陣列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩陣的制備表面，所述制備表面位于所述陣列基板遠(yuǎn)離所述彩膜基板的一側(cè)或所述彩膜基板遠(yuǎn)離所述陣列基板的一側(cè)；彎曲所述液晶盒至預(yù)定形狀；點(diǎn)亮所述液晶盒；在所述制備表面上量測漏光區(qū)域的尺寸；以及依據(jù)所述漏光區(qū)域的尺寸形成對應(yīng)的掩模版。本發(fā)明還公開一種曲面液晶面板的制備方法。通過所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能夠用于形成高質(zhì)量的曲面液晶面板的黑色矩陣。

技術(shù)研發(fā)人員：林碧芬
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市華星光電技術(shù)有限公司
文檔號(hào)碼：201611235139
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.28
技術(shù)公布日：2017.05.31