本發(fā)明涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種曝光設(shè)備及曝光方法。

背景技術(shù)：

顯示產(chǎn)品的高世代線生產(chǎn)線是用于生產(chǎn)32英寸以上的大尺寸產(chǎn)品，曝光工藝中采用的掩膜板尺寸較大，在曝光過程中掩膜板在其自身重力作用下會發(fā)生下垂，導(dǎo)致掩膜板與待曝光基板之間的曝光間隙不一致，從而影響曝光均一性。目前業(yè)內(nèi)多采用在掩膜板的上部形成負壓方式，使掩膜板下部的壓力高于掩膜板上部的壓力，通過壓力差來支撐掩膜板，達到減輕掩膜板的下垂量，從而改善曝光均一性效果，但效果并不理想。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種曝光設(shè)備及曝光方法，用以解決掩膜板在自身重力作用下會發(fā)生下垂，導(dǎo)致掩膜板與待曝光基板之間的曝光間隙不一致，影響曝光均一性的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例中提供一種曝光設(shè)備，包括工作臺和固定機構(gòu)，所述固定機構(gòu)用于將掩膜板固定在工作臺的上方，所述工作臺包括柔性的固定板，待曝光的基板固定放置于所述固定板的靠近掩膜板的表面上，且整個所述基板與所述固定板的表面緊密貼合，所述固定板包括至少兩個均勻分布的調(diào)整點，所述曝光設(shè)備還包括：

檢測單元，用于獲取與所述調(diào)整點和掩膜板之間的距離相關(guān)的第一參數(shù)；

驅(qū)動機構(gòu)，設(shè)置在所述固定板的背離所述掩膜板的一側(cè)，用于驅(qū)動所述固定板的調(diào)整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動；

控制單元，與所述檢測單元連接，根據(jù)所述第一參數(shù)生成調(diào)整參數(shù)，并根據(jù)所述調(diào)整參數(shù)控制所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述固定板的調(diào)整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動，使所述固定板的所有調(diào)整點與所述掩膜板之間的距離一致。

本發(fā)明實施例中提供一種曝光方法，包括利用如上所述的曝光設(shè)備對待曝光的基板進行曝光，所述曝光方法包括：

將掩膜板固定在工作臺的上方；

將待曝光的基板固定放置于固定板的靠近掩膜板的表面上，且整個所述基板與所述固定板的表面緊密貼合；

獲取與調(diào)整點和掩膜板之間的距離相關(guān)的第一參數(shù)；

根據(jù)所述第一參數(shù)生成調(diào)整參數(shù)，并根據(jù)所述調(diào)整參數(shù)控制驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述固定板的調(diào)整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動，使所述固定板的所有調(diào)整點與所述掩膜板之間的距離一致。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：

上述技術(shù)方案中，通過柔性的固定板來固定待曝光的基板，且整個基板與固定板緊密貼合，當(dāng)固定板發(fā)生形變時，能夠帶動其上的基板發(fā)生一致的形變。從而將調(diào)整基板與掩膜板之間的曝光間隙轉(zhuǎn)換為調(diào)整固定板與掩膜板之間的距離。通過驅(qū)動固定板上的至少兩個均勻分布的調(diào)整點向靠近掩膜板或遠離掩膜板的方向移動，可以控制所有調(diào)整點與掩膜板之間的距離一致，實現(xiàn)整個固定板與掩膜板之間的距離大致一致，即，整個基板與掩膜板之間的曝光間隙一致，然后利用掩膜板對基板進行曝光，保證曝光均一性，提高產(chǎn)品質(zhì)量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1表示本發(fā)明實施例中曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2表示本發(fā)明實施例中固定板的俯視圖；

圖3表示本發(fā)明實施例中在調(diào)整后掩膜板、基板和固定板之間的位置關(guān)系圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。

結(jié)合圖1和圖2所示，本發(fā)明實施例中提供一種曝光設(shè)備，包括工作臺和固定機構(gòu)，所述工作臺用于放置待曝光的基板3。所述固定機構(gòu)用于將掩膜板2固定在工作臺的上方。所述工作臺包括柔性的固定板1，待曝光的基板3固定放置于固定板1的靠近掩膜板2的表面上，且整個基板3與固定板1的表面緊密貼合。固定板1包括至少兩個均勻分布的調(diào)整點10，通過調(diào)整點10可在對應(yīng)調(diào)整點10的位置調(diào)整基板3與掩膜板2之間的間隙，使整個基板3與掩膜板2之間的曝光間隙一致，然后利用掩膜板2對基板3進行曝光，保證了曝光均一性，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

為了實現(xiàn)上述目的，所述曝光設(shè)備還包括：

檢測單元4，用于獲取與調(diào)整點10和掩膜板2之間的距離相關(guān)的第一參數(shù)；

驅(qū)動機構(gòu)5，設(shè)置在固定板1的背離掩膜板2的一側(cè)，以不影響曝光。驅(qū)動機構(gòu)5用于驅(qū)動固定板1的調(diào)整點10向靠近掩膜板2或遠離掩膜板2的方向移動，從而調(diào)整基板3的與調(diào)整點10對應(yīng)的位置與掩膜板2之間的曝光間隙；

控制單元6，與檢測單元4連接，根據(jù)所述第一參數(shù)生成調(diào)整參數(shù)，并根據(jù)所述調(diào)整參數(shù)控制驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動固定板1的調(diào)整點10向靠近掩膜板2或遠離掩膜板2的方向移動，使固定板1的所有調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離一致，由于基板3與固定板1緊密貼合，實現(xiàn)整個基板3與掩膜板2之間的曝光間隙一致，如圖3所示。

上述曝光設(shè)備，通過柔性的固定板來固定待曝光的基板，且整個基板與固定板緊密貼合，當(dāng)固定板發(fā)生形變時，能夠帶動其上的基板發(fā)生一致的形變。從而將調(diào)整基板與掩膜板之間的曝光間隙轉(zhuǎn)換為調(diào)整固定板與掩膜板之間的距離。通過驅(qū)動固定板上的至少兩個均勻分布的調(diào)整點向靠近掩膜板或遠離掩膜板的方向移動，可以控制所有調(diào)整點與掩膜板之間的距離一致，實現(xiàn)整個固定板與掩膜板之間的距離大致一致，即，整個基板與掩膜板之間的曝光間隙一致，然后利用掩膜板對基板進行曝光，保證曝光均一性，提高產(chǎn)品質(zhì)量。

其中，檢測單元4可以選擇光譜儀，光譜儀4包括光分離器(圖中未示出)、多個光探測器40和計算單元41，多個光探測器40固定在固定板1的背離掩膜板2的表面上，且光探測器40與調(diào)整點10的位置對應(yīng)，所述光分離器用于從復(fù)色光中分離出一定波長的光線，所述一定波長的光線通過光探測器40發(fā)射至掩膜板2。光探測器40還用于接收掩膜板2反射的光線。計算單元41根據(jù)掩膜板2反射的光線波形計算調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離。控制單元6與計算單元41連接，用于獲取調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離。由于光譜儀4能夠直接計算出調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離，所述第一參數(shù)即為調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離。控制單元6與計算單元41連接，可以根據(jù)調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離生成調(diào)整參數(shù)，控制驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動固定板1的調(diào)整點10向靠近掩膜板2或遠離掩膜板2的方向移動，使固定板1的所有調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離一致，由于基板3與固定板1緊密貼合，實現(xiàn)整個基板3與掩膜板2之間的曝光間隙一致。

需要說明的是，本發(fā)明的檢測單元4并不局限于選擇光譜儀，例如：還可以利用激光或超聲波來獲取與調(diào)整點和掩膜板之間的距離相關(guān)的激光信號或超聲波信號，控制單元6根據(jù)激光信號或超聲波信號生成調(diào)整參數(shù)，也能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案。

本實施例中，具體可以通過真空吸附的方式將基板3固定在固定板1上，使整個基板3與固定板1的表面緊密貼合，真空吸附的方式便于基板3的安裝和拆卸。

當(dāng)然，將基板3固定在固定板1上的方式，并不局限于真空吸附一種，只要能夠保證整個基板3與固定板1的表面緊密貼合即可，以使固定板1任意位置的移動能夠帶動基板3的對應(yīng)位置同步移動，將調(diào)整基板3與掩膜板2之間的曝光間隙轉(zhuǎn)換為調(diào)整固定板1與掩膜板2之間的距離。

為了降低調(diào)整難度，并保證調(diào)整精度，本實施例中可以設(shè)置固定板1包括以固定板1的重心為中心的中心區(qū)100，以及環(huán)設(shè)在中心區(qū)100外圍的至少一個環(huán)狀區(qū)101，調(diào)整點10包括均勻分布在中心區(qū)100的第一調(diào)整點11和均勻分布在環(huán)狀區(qū)101的第二調(diào)整點12。其中，固定板1的重心、基板3的重心和掩膜板2的重心的位置對應(yīng)。上述技術(shù)方案通過對固定板1進行分區(qū)調(diào)整，可以降低調(diào)整難度。由于掩膜板2對應(yīng)每一區(qū)的區(qū)域發(fā)生下垂的下垂量基本相同，即掩膜板2對應(yīng)中心區(qū)100的整個區(qū)域發(fā)生下垂的下垂量基本相同，掩膜板2對應(yīng)一環(huán)狀區(qū)101的整個區(qū)域發(fā)生下垂的下垂量基本相同，又能夠保證調(diào)整精度。其中，本發(fā)明中的調(diào)整精度是指整個基板3與掩膜板2之間的曝光間隙的平均差值小于預(yù)設(shè)的閾值。

進一步地，可以在中心區(qū)100設(shè)置至少兩個第一調(diào)整點11，所述至少兩個第一調(diào)整點11均勻分布在中心區(qū)100的周邊，使所有第一調(diào)整點11與重心的距離相同，調(diào)整量相同，降低調(diào)整難度。同樣，也可以設(shè)置每一環(huán)狀區(qū)101包括至少兩個第二調(diào)整點12，所述至少兩個第二調(diào)整點12均勻分布在環(huán)狀區(qū)101的周邊，使所有第二調(diào)整點12與重心的距離相同，調(diào)整量相同，降低調(diào)整難度。通過將第一調(diào)整點11和第二調(diào)整點12都設(shè)置在所在區(qū)的周邊，可以使調(diào)整更均勻，提高調(diào)整精度。其中，調(diào)整點的調(diào)整量是指：調(diào)整點向靠近掩膜板2或遠離掩膜板2的方向移動的距離，以使所有調(diào)整點與掩膜板2之間的距離一致。

上述技術(shù)方案中，由于中心區(qū)100的所有第一調(diào)整點11的調(diào)整量相同，可以僅在與一個第一調(diào)整點11對應(yīng)的位置設(shè)置檢測單元4，簡化曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)。同樣，由于每一環(huán)狀區(qū)101的所有第二調(diào)整點12的調(diào)整量相同，可以僅在與一個第二調(diào)整點12對應(yīng)的位置設(shè)置檢測單元4，簡化曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)。

基于提高調(diào)整精度的目的，還可以設(shè)計中心區(qū)100內(nèi)的第一調(diào)整點11的數(shù)量與每一環(huán)狀區(qū)101內(nèi)設(shè)置的第二調(diào)整點12的個數(shù)相同。本實施例中，在中心區(qū)100內(nèi)設(shè)置4個第一調(diào)整點11，在每一環(huán)狀區(qū)101內(nèi)也設(shè)置4個第二調(diào)整點12。

在實際應(yīng)用過程中，可以根據(jù)調(diào)整精度的需求設(shè)計環(huán)狀區(qū)101的個數(shù)、中心區(qū)100和每一環(huán)狀區(qū)101的面積大小。

本實施例中，所述曝光設(shè)備可以包括至少兩個驅(qū)動機構(gòu)5，并設(shè)置驅(qū)動機構(gòu)5與調(diào)整點10的位置一一對應(yīng)，每一驅(qū)動機構(gòu)5用于驅(qū)動對應(yīng)的調(diào)整點10在垂直于固定板1所在平面的方向上移動，具體為向靠近掩膜板2的方向移動或遠離掩膜板2的方向移動，以提高調(diào)整精度。

結(jié)合圖1和圖2所示，當(dāng)將固定板1分割為以固定板1的重心為中心的中心區(qū)100，以及環(huán)設(shè)在中心區(qū)100外圍的至少一個環(huán)狀區(qū)101時，也可以設(shè)置均勻分布在中心區(qū)100內(nèi)的第一調(diào)整點與同一驅(qū)動機構(gòu)5連接，通過同一驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動中心區(qū)100內(nèi)的所有第一調(diào)整點在垂直于固定板1所在平面的方向上移動相同距離。同樣，也可以設(shè)置均勻分布在環(huán)狀區(qū)101內(nèi)的第二調(diào)整點與同一驅(qū)動機構(gòu)5連接，通過同一驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動環(huán)狀區(qū)101內(nèi)的所有第二調(diào)整點在垂直于固定板1所在平面的方向上移動相同距離。上述技術(shù)方案能夠簡化曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)，由于掩膜板2對應(yīng)固定板1上的每一區(qū)的區(qū)域的下垂量基本相同，即，分布在同一區(qū)(中心區(qū)100或環(huán)狀區(qū)101)內(nèi)的所有調(diào)整點的調(diào)整量相同，通過同一驅(qū)動機構(gòu)5進行驅(qū)動也能夠保證調(diào)整精度。

進一步地，還可以設(shè)置第一調(diào)整點11均勻分布在中心區(qū)100的周邊，使所有第一調(diào)整點11與重心的距離相同，當(dāng)通過同一驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動所有第一調(diào)整點11時，可以提高調(diào)整精度。同樣，也可以設(shè)置第二調(diào)整點12均勻分布在環(huán)狀區(qū)101的周邊。使所有第二調(diào)整點12與重心的距離相同，調(diào)整量相同，當(dāng)通過同一驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動一環(huán)狀區(qū)101內(nèi)的所有第二調(diào)整點12時，可以提高調(diào)整精度。

其中，驅(qū)動機構(gòu)5的動力源可以為電動馬達、液壓馬達或氣動馬達。

結(jié)合圖1和圖2所示，本發(fā)明實施例中的曝光設(shè)備具體包括：

工作臺，包括柔性的固定板1，待曝光的基板3通過真空吸附固定放置于固定板1的靠近掩膜板2的表面上，整個基板3與固定板1的表面緊密貼合。固定板1包括以固定板1的重心為中心的中心區(qū)100，以及環(huán)設(shè)在中心區(qū)100外圍的至少一個環(huán)狀區(qū)101，調(diào)整點10包括均勻分布在中心區(qū)100的周邊的第一調(diào)整點11和均勻分布在環(huán)狀區(qū)101的周邊的第二調(diào)整點12；

固定機構(gòu)，用于將掩膜板2固定在基板3的上方；

光譜儀4，包括光分離器(圖中未示出)、多個光探測器40和計算單元41，在其中一個第一調(diào)整點11對應(yīng)的位置設(shè)置一光譜探測器40，在每一環(huán)狀區(qū)101的其中一個第一調(diào)整點11對應(yīng)的位置設(shè)置一光譜探測器40。所述光分離器用于從復(fù)色光中分離出一定波長的光線，所述一定波長的光線通過光探測器40發(fā)射至掩膜板2。光探測器40還用于接收掩膜板2反射的光線。計算單元41根據(jù)掩膜板2反射的光線波形計算調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離；

驅(qū)動機構(gòu)5，所有第一調(diào)整點11通過傳動軸50與同一驅(qū)動機構(gòu)5連接，每一環(huán)狀區(qū)101的所有第二調(diào)整點12通過傳動軸50與同一驅(qū)動機構(gòu)5連接；

控制單元6與計算單元41連接，根據(jù)調(diào)整點10與掩膜板2之間的距離生成調(diào)整參數(shù)，控制驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動固定板1的第一調(diào)整點11和第二調(diào)整點12向靠近掩膜板2或遠離掩膜板2的方向移動，使固定板1的所有第一調(diào)整點11和第二調(diào)整點12與掩膜板2之間的距離一致，由于基板3與固定板1緊密貼合，實現(xiàn)整個基板3與掩膜板2之間的曝光間隙一致。

上述曝光設(shè)備的工作過程為：

在利用掩膜板2對基板3進行曝光之前，打開光譜儀4，控制單元6根據(jù)光譜儀4獲取的距離參數(shù)生成調(diào)整參數(shù)，控制驅(qū)動機構(gòu)5驅(qū)動固定板1上的第一調(diào)整點11和第二調(diào)整點12向靠近掩膜板2或遠離掩膜板2的方向移動，使固定板1的所有第一調(diào)整點11和第二調(diào)整點12與掩膜板2之間的距離一致。當(dāng)固定板1的所有第一調(diào)整點11和第二調(diào)整點12與掩膜板2之間的距離一致后，觸發(fā)打開紫外線通過掩膜板2對基板3進行曝光。

需要說明的是，本發(fā)明的曝光設(shè)備不僅可以用于對顯示基板進行曝光，還可以用于對電子基板進行曝光。

本發(fā)明實施例中還提供一種曝光方法，利用如上所述的曝光設(shè)備對待曝光的基板進行曝光，所述曝光方法包括：

將掩膜板固定在工作臺的上方；

將待曝光的基板固定放置于固定板的靠近掩膜板的表面上，且整個所述基板與所述固定板的表面緊密貼合；

獲取與調(diào)整點和掩膜板之間的距離相關(guān)的第一參數(shù)；

根據(jù)所述第一參數(shù)生成調(diào)整參數(shù)，并根據(jù)所述調(diào)整參數(shù)控制驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述固定板的調(diào)整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動，使所述固定板的所有調(diào)整點與所述掩膜板之間的距離一致。

上述曝光方法將待曝光的基板固定在柔性的固定板上，且整個基板與固定板緊密貼合，通過驅(qū)動固定板上的調(diào)整點向靠近掩膜板或遠離掩膜板的方向移動，能夠帶動其上的基板發(fā)生一致的移動。從而將調(diào)整基板與掩膜板之間的曝光間隙轉(zhuǎn)換為調(diào)整固定板與掩膜板之間的距離。通過驅(qū)動固定板上的至少兩個均勻分布的調(diào)整點移動，使所有調(diào)整點與掩膜板之間的距離一致，可以實現(xiàn)整個固定板與掩膜板之間的距離大致一致，即，整個基板與掩膜板之間的曝光間隙一致，然后利用掩膜板對基板進行曝光，保證曝光均一性，提高產(chǎn)品質(zhì)量。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍。